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公開番号2025048781
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-03
出願番号2024158160
出願日2024-09-12
発明の名称膜の製造方法、膜、水収集膜、細胞足場材料、及び細胞足場材料の製造方法
出願人国立大学法人東海国立大学機構
代理人個人
主分類B29C 59/18 20060101AFI20250326BHJP(プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般)
要約【課題】新規なパターンが形成された膜を提供する。
【解決手段】膜の製造方法は、基盤を第1方向に引っ張った状態で基盤の第1位置と第2位置を固定する第1ステップS1と、基盤の第1位置と第2位置との間の少なくとも一部を含む領域の表面に膜を成膜する第2ステップS2と、基盤を第1位置と第2位置とを結ぶ第1方向に収縮させる第3ステップS3と、を備える。第2ステップS2において、基盤における第1方向の熱応力によって膜に第1の凹凸パターンが形成され、第3ステップS3において、基盤を引っ張った状態から元の状態に戻すことにより基盤の第1方向の収縮によって膜に第2の凹凸パターンが形成される。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
基盤を第１方向に引っ張った状態で前記基盤の第１位置と第２位置を固定する第１ステップと、
前記基盤の前記第１位置と前記第２位置との間の少なくとも一部を含む領域の表面に膜を成膜する第２ステップと、
前記基盤を引っ張った状態から元の状態に戻すことにより前記基盤を前記第１位置と前記第２位置とを結ぶ第１方向に収縮させる第３ステップと、
を備え、
前記第２ステップにおいて、前記基盤における前記第１方向の熱応力によって前記膜に第１の凹凸パターンが形成され、
前記第３ステップにおいて、前記基盤の前記第１方向の収縮によって前記膜に第２の凹凸パターンが形成される
膜の製造方法。
続きを表示（約 680 文字）【請求項２】
前記膜は、複数の第２の凹凸パターンのそれぞれに、前記第２の凹凸パターンよりも小さな第１の凹凸パターンが形成された、階層的な凹凸パターンを有する
請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記第２の凹凸パターンのアスペクト比は前記第１の凹凸パターンよりも高い
請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記第１の凹凸パターンと前記第２の凹凸パターンは同じ方向に配列する
請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項５】
前記第１方向に垂直な第２方向に延びる前記第１の凹凸パターンと前記第２の凹凸パターンが前記第１方向に配列するように形成される
請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
前記第２の凹凸パターンの波長は前記第１の凹凸パターンよりも長い
請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項７】
前記第２の凹凸パターンの振幅は前記第１の凹凸パターンよりも大きい
請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項８】
前記基盤のヤング率は前記膜よりも小さい
請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項９】
前記膜は金属で構成される
請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記第１の凹凸パターンはリンクルであり、前記第２の凹凸パターンはリッジである
請求項１又は２に記載の製造方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、膜の製造方法、膜、水収集膜、細胞足場材料、及び細胞足場材料の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
軟質基盤上の硬質膜に面内圧縮応力が作用すると、分岐座屈が生じ、硬質膜表面に多様なパターンが形成される。近年、表面にパターンが形成された硬質膜を様々な分野に応用することが検討されている（例えば、非特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
S. Nagashima, S.M. Yoon, D.H. Kim, A. Nakatani, M.W.Moon: Wrinkle-assisted capillary bridging for the directed assembly of single-level DNA nanowire arrays, Advanced Materials Interfaces, 9 (2022), 2102243
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者らは、新規なパターンが形成された膜を製造する技術を開発した。
【０００５】
本開示は、このような課題に鑑みてなされ、その目的は、新規なパターンが形成された膜を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本開示のある態様の膜の製造方法は、基盤を第１方向に引っ張った状態で基盤の第１位置と第２位置を固定する第１ステップと、基盤の第１位置と第２位置との間の少なくとも一部を含む領域の表面に膜を成膜する第２ステップと、基盤を引っ張った状態から元の状態に戻すことにより基盤を第１位置と第２位置とを結ぶ第１方向に収縮させる第３ステップと、を備える。第２ステップにおいて、基盤における第１方向の熱応力によって膜に第１の凹凸パターンが形成され、第３ステップにおいて、基盤の第１方向の収縮によって膜に第２の凹凸パターンが形成される。
【０００７】
本開示の別の態様は、膜である。この膜は、一方向に繰り返し配列した第１の凹凸パターンと、第１の凹凸パターンと同じ方向に繰り返し配列した第２の凹凸パターンと、を有し、複数の第２の凹凸パターンのそれぞれに、第２の凹凸パターンよりも小さな第１の凹凸パターンが形成された、階層的な凹凸パターンを有する。
【０００８】
本開示のさらに別の態様は、水収集膜である。この水収集膜は、上記の膜を備えた、空気中の水分を収集するための水収集膜である。
【０００９】
本開示のさらに別の態様は、細胞足場材料である。この細胞足場材料は、上記の膜を備えた、細胞を接着させて増殖させるための細胞足場材料である。
【００１０】
本開示のさらに別の態様は、細胞足場材料の製造方法である。この方法は、上記の膜を鋳型として階層的な凹凸パターンを原材料に転写するステップを備える。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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