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公開番号
2025085180
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-06-05
出願番号
2023198872
出願日
2023-11-24
発明の名称
静電チャック
出願人
TOTO株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
,
個人
主分類
H01L
21/683 20060101AFI20250529BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】ベースプレートの冷却を効率よく行うことのできる静電チャック、を提供する。
【解決手段】静電チャック10は、誘電体基板100と、誘電体基板100に接合され、冷媒の通る冷媒流路400が内部に形成されたベースプレート200と、を備える。冷媒流路400のうち少なくとも一方側の端部の近傍には、冷媒の流れ方向が90度よりも大きく変化する湾曲部401が形成されている。
【選択図】図2
特許請求の範囲
【請求項1】
被吸着物が載置される載置面を有する誘電体基板と、
前記誘電体基板に接合され、冷媒の通る冷媒流路が内部に形成されたベースプレートと、を備え、
前記冷媒流路のうち少なくとも一方側の端部の近傍には、冷媒の流れ方向が90度よりも大きく変化する湾曲部が形成されていることを特徴とする静電チャック。
続きを表示(約 250 文字)
【請求項2】
前記湾曲部は、前記載置面に対し垂直な方向から見た場合における冷媒の流れ方向が、90度よりも大きく変化するように形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の静電チャック。
【請求項3】
前記冷媒流路のうち一方側の端部の近傍と、他方側の端部の近傍と、のそれぞれに前記湾曲部が形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の静電チャック。
【請求項4】
前記冷媒流路の全体が同一の高さ位置に形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の静電チャック。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は静電チャックに関する。
続きを表示(約 1,300 文字)
【背景技術】
【0002】
例えばエッチング装置等の半導体製造装置には、処理の対象となるシリコンウェハ等の基板を吸着し保持するための装置として、静電チャックが設けられる。静電チャックは、吸着電極が設けられた誘電体基板と、誘電体基板を支持するベースプレートと、を備え、これらが互いに接合された構成を有する。吸着電極に電圧が印加されると静電力が生じ、誘電体基板上に載置された基板が吸着され保持される。
【0003】
エッチング等の処理中においては、基板の温度を適切な温度に維持する必要がある。このため、下記特許文献1に記載されているように、ベースプレートの内部には、冷媒を通すための冷媒流路が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2021-028960号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
冷媒流路の一方側端部には、外部から低温の冷媒が供給される。基板からの熱は、誘電体基板及びベースプレートを介して冷媒へと伝えられる。冷媒は、冷媒流路を流れながら次第にその温度を上昇させて行き、冷媒流路の他方側端部から外部へと排出される。冷媒によるベースプレートの冷却は、冷媒流路の上流側から下流側に至るまでの全体において、可能な限り効率よく行われることが好ましい。
【0006】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ベースプレートの冷却を効率よく行うことのできる静電チャック、を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記課題を解決するために、本発明に係る静電チャックは、被吸着物が載置される載置面を有する誘電体基板と、誘電体基板に接合され、冷媒の通る冷媒流路が内部に形成されたベースプレートと、を備える。冷媒流路のうち少なくとも一方側の端部の近傍には、冷媒の流れ方向が90度よりも大きく変化する湾曲部が形成されている。
【0008】
冷媒流路のうち、湾曲部が形成されている方の端部を冷媒の入口とした場合には、冷媒は、外部から供給された直後に湾曲部において確実に乱流となり、そのまま下流側へと流れる。乱流の発生により熱伝達率が高くなるので、冷媒による各部の冷却を効率的に行うことができる。
【0009】
また、冷媒流路の入口側に湾曲部が形成されているか否かに拘わらず、冷媒流路の出口側端部の近傍には、各部から熱を奪い温度の上昇した冷媒が到達する。このため、当該部分では冷却効率が低下する。このような、出口側における冷媒温度の上昇が問題となる場合には、湾曲部が形成されている方の端部を冷媒の出口とすればよい。この場合、湾曲部においては局所的に冷媒の流速が大きくなり、更に乱流が新たに生じるので、当該部分における熱伝達率が高くなる。これにより、下流側端部近傍における冷却効率を高めることができる。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、ベースプレートの冷却を効率よく行うことのできる静電チャック、を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
(【0011】以降は省略されています)
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