TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2025101215
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-07-07
出願番号
2023217887
出願日
2023-12-25
発明の名称
フィルタユニット及び廃液処理装置
出願人
株式会社ディスコ
代理人
個人
,
個人
,
個人
,
個人
,
個人
,
個人
主分類
B01D
29/07 20060101AFI20250630BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約
【課題】液体を高純度に精製することが可能なフィルタユニットを提供する。
【解決手段】液体を精製するフィルタユニットであって、液体を濾過する筒状のフィルタと、フィルタの内側に収容された二酸化ケイ素粒子及び活性炭粒子と、を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
液体を精製するフィルタユニットであって、
該液体を濾過する筒状のフィルタと、
該フィルタの内側に収容された二酸化ケイ素粒子及び活性炭粒子と、を備えることを特徴とするフィルタユニット。
続きを表示(約 950 文字)
【請求項2】
該活性炭粒子の平均粒径は、該二酸化ケイ素粒子の平均粒径よりも大きいことを特徴とする、請求項1に記載のフィルタユニット。
【請求項3】
該二酸化ケイ素粒子の平均粒径は、2μm以下であり、
該活性炭粒子の平均粒径は、2μmよりも大きいことを特徴とする、請求項1に記載のフィルタユニット。
【請求項4】
該液体が該フィルタを通過する際に、該二酸化ケイ素粒子及び該活性炭粒子によって構成される粒子層が該フィルタに沿って形成されることを特徴とする、請求項1に記載のフィルタユニット。
【請求項5】
加工装置から排出された液体を処理する廃液処理装置であって、
該加工装置から排出された該液体を貯留する液体タンクと、
該液体タンクから供給された該液体を精製するフィルタユニットと、を備え、
該フィルタユニットは、該液体を濾過する筒状のフィルタと、該フィルタの内側に収容された二酸化ケイ素粒子及び活性炭粒子と、該液体が供給される供給口と、該フィルタを通過した該液体を排出する排出口と、を備えることを特徴とする廃液処理装置。
【請求項6】
該液体をイオン交換によって精製するイオン交換ユニットと、
該フィルタユニットによって精製された該液体を該液体タンクに供給するための液体循環路と、
該フィルタユニットによって精製された該液体を該イオン交換ユニットに供給するための液体供給路と、を更に備えることを特徴とする、請求項5に記載の廃液処理装置。
【請求項7】
該活性炭粒子の平均粒径は、該二酸化ケイ素粒子の平均粒径よりも大きいことを特徴とする、請求項5又は6に記載の廃液処理装置。
【請求項8】
該二酸化ケイ素粒子の平均粒径は、2μm以下であり、
該活性炭粒子の平均粒径は、2μmよりも大きいことを特徴とする、請求項5又は6に記載の廃液処理装置。
【請求項9】
該液体が該フィルタを通過する際に、該二酸化ケイ素粒子及び該活性炭粒子によって構成される粒子層が該フィルタに沿って形成されることを特徴とする、請求項5又は6に記載の廃液処理装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、液体を精製するフィルタユニット、及び、加工装置から排出された液体を処理する廃液処理装置に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)
【背景技術】
【0002】
デバイスチップの製造プロセスでは、格子状に配列された複数のストリート(分割予定ライン)によって区画された複数の領域にそれぞれデバイスが形成されたウェーハが用いられる。このウェーハをストリートに沿って分割して個片化することにより、デバイスを備えるデバイスチップが製造される。デバイスチップは、携帯電話、パーソナルコンピュータ等の様々な電子機器に組み込まれる。
【0003】
ウェーハに対しては、加工装置によって各種の加工が施される。例えば、ウェーハの分割には、環状の切削ブレードで被加工物を切削する切削装置が用いられる。切削装置は、被加工物に純水等の液体(加工液)を供給しつつ切削ブレードを被加工物に切り込ませることにより、被加工物を切削する。また、ウェーハの表面の平坦性及び結晶性を向上させるため、ウェーハに研磨加工が施されることもある。例えば研磨加工には、被加工物にスラリーを供給しつつ回転する研磨パッドを被加工物に接触させることによって被加工物にCMP(Chemical Mechanical Polishing)加工を施す研磨装置が用いられる。
【0004】
上記のような加工装置でウェーハ等の被加工物を加工する際には、被加工物の加工、洗浄等に用いられた液体が加工装置から排出される。そして、加工装置から排出される液体(廃液)には、被加工物の加工時に発生した屑(加工屑)が含まれている。廃液を加工屑が含まれた状態のまま廃棄すると、環境汚染の原因となる。また、廃液を加工装置において加工液として再利用する場合には、加工屑を含んだ加工液が被加工物に供給されることになり、被加工物が汚染されるおそれがある。
【0005】
そこで、加工装置から排出された廃液に対しては、廃液処理が施される。例えば、廃液をフィルタで濾過することにより、廃液から加工屑が除去される(特許文献1参照)。これにより、加工屑を含まず、又は加工屑の含有量が極めて少ない廃液を、環境に配慮して廃棄し、又は加工装置において再利用することが可能になる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
特開2010-82791号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
加工装置から排出される廃液には、加工屑の他にも薬液等の不純物が含有されていることがある。例えば、切削装置において使用される加工液には、被加工物に付着した加工屑の除去を促進するため、界面活性剤が含有されることがある。この場合、界面活性剤を含む廃液が切削装置から排出される。また、研磨装置から排出される廃液には、研磨加工に使用されるスラリーが含有されていることがある。
【0008】
上記のように、加工装置から排出される廃液に薬液(界面活性剤、スラリー等)が含有されていると、廃液処理によって廃液から加工屑を除去しても、廃液内に薬液が残存する。その結果、廃液を破棄する際に薬液による環境汚染の問題が生じる。また、廃液が加工装置において再利用される場合には、廃液に含まれる薬液によって加工装置及び被加工物が汚染されるおそれがある。
【0009】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、加工装置から排出される廃液等の液体を高純度に精製することが可能なフィルタユニット及び廃液処理装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本発明の一態様によれば、液体を精製するフィルタユニットであって、該液体を濾過する筒状のフィルタと、該フィルタの内側に収容された二酸化ケイ素粒子及び活性炭粒子と、を備えるフィルタユニットが提供される。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
株式会社ディスコ
加工装置
今日
株式会社ディスコ
加工装置
今日
株式会社ディスコ
板状物の処理方法
今日
株式会社ディスコ
ウェーハの製造方法
今日
東ソー株式会社
捕捉剤
22日前
株式会社近畿理研
吸引・収集装置
7日前
日本バイリーン株式会社
円筒型フィルター
7日前
株式会社Tornada
気泡発生装置
6日前
個人
循環槽用フィルタ及び浄化システム
8日前
ユニチカ株式会社
フィルター材の製造方法
15日前
株式会社クレハ
流体処理装置
1日前
株式会社トクヤマ
有機スズ化合物を低減する方法
16日前
トヨタ自動車株式会社
混合ガスの均一化方法
6日前
東レ株式会社
除害装置、除害方法及び半導体製造方法
8日前
アクアインテック株式会社
攪拌槽
1日前
株式会社放電精密加工研究所
混合溶融装置
13日前
東レ株式会社
親水性多孔質フィルムおよび、その製造方法
14日前
DIC株式会社
二酸化炭素吸収材
2日前
パナソニックIPマネジメント株式会社
除湿装置
2日前
リンナイ株式会社
混合装置
14日前
日亜化学工業株式会社
流体処理装置
2日前
オルガノ株式会社
液体処理ユニットとその運転方法
13日前
アクアインテック株式会社
固液分離システム
6日前
いすゞ自動車株式会社
吸収装置
23日前
住友重機械エンバイロメント株式会社
沈殿装置
20日前
日本バイリーン株式会社
フィルタエレメント、およびその製造方法
今日
大坪環境エンジニアリング株式会社
二酸化炭素吸着分離装置
7日前
住友重機械プロセス機器株式会社
撹拌装置、撹拌方法
23日前
国立大学法人信州大学
流体デバイス
20日前
ウシオ電機株式会社
光照射装置
20日前
株式会社大気社
二酸化炭素回収装置
23日前
トヨタ自動車株式会社
二酸化炭素吸着材
27日前
トヨタ自動車株式会社
二酸化炭素回収装置及び二酸化炭素回収方法
7日前
トヨタ自動車株式会社
CO2の回収方法
9日前
DMG森精機株式会社
クーラント供給装置
1日前
東洋計器株式会社
二酸化炭素処理装置および給湯器システム
7日前
続きを見る
他の特許を見る