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公開番号
2025123600
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-08-25
出願番号
2024019111
出願日
2024-02-13
発明の名称
エッチング液組成物、エッチング方法、及び基体の製造方法
出願人
株式会社ADEKA
代理人
個人
,
個人
,
個人
,
個人
主分類
C23F
1/18 20060101AFI20250818BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約
【課題】銅を含有する層に対して、好適なテーパー角を維持したエッチングをすることが可能なエッチング液組成物を提供する。
【解決手段】銅を含有する層をエッチングするために用いられるエッチング液組成物であって、(A)下記一般式(1)で表される化合物及びその塩からなる群より選ばれる少なくとも1種、(B)過酸化水素、並びに水を含有する水溶液であるエッチング液組成物を提供する。
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1
及びR
2
は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、アミノ基、フェニル基、又は炭素原子数1~5のアルキル基を表す。)
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
銅を含有する層をエッチングするために用いられるエッチング液組成物であって、
(A)下記一般式(1)で表される化合物及びその塩からなる群より選ばれる少なくとも1種、
(B)過酸化水素、並びに
水を含有する水溶液であるエッチング液組成物。
TIFF
2025123600000006.tif
35
170
(前記一般式(1)中、R
1
及びR
2
は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、アミノ基、フェニル基、又は炭素原子数1~5のアルキル基を表す。)
続きを表示(約 520 文字)
【請求項2】
前記(A)成分の含有量が0.0001~1質量%であり、前記(B)成分の含有量が1~25質量%である請求項1に記載のエッチング液組成物。
【請求項3】
さらに、(C)酸1~30質量%を含有する、請求項1又は2に記載のエッチング液組成物。
【請求項4】
前記(C)成分が有機酸である、請求項3に記載のエッチング液組成物。
【請求項5】
銅を含有する層及びチタンを含有する層をエッチングするために用いられる、請求項1又は2に記載のエッチング液組成物。
【請求項6】
請求項1又は2に記載のエッチング液組成物を用いて銅を含有する層をエッチングする工程を有するエッチング方法。
【請求項7】
銅を含有する層とチタンを含有する層をエッチングする工程を有する、請求項6に記載のエッチング方法。
【請求項8】
請求項1又は2に記載のエッチング液組成物を用いて銅を含有する層をエッチングする工程を有する基体の製造方法。
【請求項9】
銅を含有する層とチタンを含有する層をエッチングする工程を有する、請求項8に記載の基体の製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、特定の成分を含有するエッチング液組成物、それを用いたエッチング方法及び基体の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,200 文字)
【背景技術】
【0002】
フラットパネルディスプレイ等に代表される表示デバイスの配線材料は、ディスプレイの大型化及び高解像度化といった要求性能を満たすために、複数の金属層からなる配線材料が用いられることがある。そして、ウェットエッチング法によって配線パターンを形成する技術は種々知られている。
【0003】
例えば、特許文献1には、銅層とモリブデン層を含む多層膜をエッチングすることができるエッチング液として、過酸化水素、硝酸、グリコール酸、リンゴ酸、1アミノ2プロパノール、及び過酸化水素分解抑制剤を含み、アゾール化合物、リン化合物、及びフッ素化合物を含まないエッチング液が開示されている。また、特許文献2には、銅層とチタン層をエッチングすることができるエッチング液として、過酸化水素、酸性フッ化アンモニウム、硝酸、及び5-アミノ-1H-テトラゾールを含むエッチング液が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2016-176126号公報
特開2017-195311号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、特許文献1及び2で開示されているエッチング液では、好適なテーパー角を維持したエッチングを行うことができないため、所望の寸法精度及び形状を有する微細なパターンを形成できないという問題があった。
【0006】
したがって、本発明は、銅を含有する層に対して、好適なテーパー角を維持したエッチングをすることが可能なエッチング液組成物を提供しようとするものである。また、本発明は、上記エッチング液組成物を用いたエッチング方法及び基体の製造方法を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記エッチング液組成物を得るべく鋭意検討を重ねた結果、特定の成分を含有する組成物が上記問題を解決し得ることを見出し、本発明に至った。
【0008】
すなわち、本発明によれば、銅を含有する層をエッチングするために用いられるエッチング液組成物であって、(A)下記一般式(1)で表される化合物及びその塩からなる群より選ばれる少なくとも1種、(B)過酸化水素、並びに水を含有する水溶液であるエッチング液組成物が提供される。
【0009】
TIFF
2025123600000001.tif
35
170
(前記一般式(1)中、R
1
及びR
2
は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、アミノ基、フェニル基、又は炭素原子数1~5のアルキル基を表す。)
【0010】
また、本発明によれば、上記のエッチング液組成物を用いて銅を含有する層をエッチングする工程を有するエッチング方法が提供される。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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