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公開番号2025133458
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-11
出願番号2024031419
出願日2024-03-01
発明の名称パターン構造付き樹脂硬化物の製造方法
出願人三井化学株式会社
代理人弁理士法人いくみ特許事務所
主分類G03F 7/004 20060101AFI20250904BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】新規な方法でパターン構造を形成できるパターン構造付き樹脂硬化物の製造方法を提供すること。
【解決手段】硬化性組成物2は硬化性成分と活性エネルギー線重合開始剤とを含有する。第1硬化工程では、フォトマスク14を介して、硬化性組成物2の一部に活性エネルギー線を照射する。活性エネルギー線が照射される一部において活性エネルギー線重合開始剤に起因するガスを発生させる。活性エネルギー線が照射される一部に対する残部においてガスに起因する窪み20を形成する。活性エネルギー線が照射される一部において硬化性成分を硬化させて凸部4を形成する。第2硬化工程では、フォトマスク14を取り外し残部に活性エネルギー線を照射して硬化性成分を硬化させて凹部5を形成する。その結果、硬化性成分の硬化物に凹凸構造6を形成する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
少なくとも活性エネルギー線の照射により硬化可能な硬化性組成物を準備する準備工程と、
前記硬化性組成物を配置する配置工程と、
前記硬化性組成物の少なくとも一方面を、活性エネルギー線透過性被覆材により被覆する被覆工程と、
前記活性エネルギー線透過性被覆材の前記一方面にフォトマスクを配置するマスキング工程と、
前記フォトマスクを介して、前記硬化性組成物の一部に活性エネルギー線を照射する第１硬化工程と、
前記第１硬化工程の後、前記硬化性組成物の前記一部に対する残部に活性エネルギー線を照射する、および／または、前記残部を加熱する第２硬化工程と
を備え、
前記硬化性組成物は、
活性エネルギー線の照射により硬化可能な硬化性成分と、活性エネルギー線重合開始剤とを、少なくとも含有し、
前記第１硬化工程では、
前記活性エネルギー線が照射される前記一部において、前記活性エネルギー線重合開始剤に起因するガスを発生させ、
前記活性エネルギー線が照射される前記一部に対する前記残部において、前記ガスに起因する空間を形成するとともに、
前記活性エネルギー線が照射される前記一部において、前記硬化性成分を硬化させて、前記空間を有しない第１硬化部を形成し、
前記第２硬化工程では、
前記フォトマスクを取り外し、
前記残部に活性エネルギー線を照射する、および／または、前記残部を加熱し、前記硬化性成分を硬化させて、前記空間を有する第２硬化部を形成することにより、前記硬化性成分の硬化物に、前記第１硬化部および前記第２硬化部を備えるパターン構造を形成する、
パターン構造付き樹脂硬化物の製造方法。
続きを表示（約 430 文字）【請求項２】
前記パターン構造が、凹凸構造であり、
前記凹凸構造のアスペクト比（深さ／幅）が、５以上である、請求項１に記載のパターン構造付き樹脂硬化物の製造方法。
【請求項３】
前記フォトマスクは、複数の透光部および遮光部を有し、
前記透光部および前記遮光部は、ラインアンドスペースパターンを有し、
前記ラインアンドスペースパターンにおけるライン幅が１００μｍ未満であり、
前記ラインアンドスペースパターンにおけるスペース幅が１００μｍ未満である、請求項１に記載のパターン構造付き樹脂硬化物の製造方法。
【請求項４】
前記活性エネルギー線重合開始剤が、開裂型の活性エネルギー線ラジカル重合開始剤であり、
前記活性エネルギー線重合開始剤の含有割合が、
前記硬化性成分１００質量部に対して、１質量部以上１０質量部以下である、請求項１に記載のパターン構造付き樹脂硬化物の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン構造付き樹脂硬化物の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、パターン構造を有する樹脂硬化物が、知られている。パターン構造としては、例えば、凹凸パターンを有する凹凸構造が知られている。パターン構造を有する樹脂硬化物は、例えば、光学分野、撥水分野、放熱分野およびクッション分野において、使用される。
【０００３】
パターン構造を有する樹脂組成物は、例えば、以下の方法で製造される。すなわち、この方法では、流動性物質としての活性エネルギー線硬化性ポリウレタン樹脂と、相溶性物質としての１－ヘキセンと、可塑剤と、反応性希釈剤と、重合開始剤とを混合し、組成物を得る。次いで、組成物を成膜し、塗膜を得る。次いで、フォトマスクを介して塗膜に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性ポリウレタン樹脂を硬化させ、１－ヘキセンの相溶性を低下させる。その後、１－ヘキセンを揮発させ、１－ヘキセンが存在していた部分を凹部化する。以上により、パターン付き成形物を得る（例えば、特許文献１（実施例２）参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
国際公開２０２２／０４１７８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方、樹脂硬化物において、パターン構造を形成するための新規な方法が、要求されている。
【０００６】
本発明は、新規な方法でパターン構造を形成できる、パターン構造付き樹脂硬化物の製造方法である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明［１］は、少なくとも活性エネルギー線の照射により硬化可能な硬化性組成物を準備する準備工程と、前記硬化性組成物を配置する配置工程と、前記硬化性組成物の少なくとも一方面を、活性エネルギー線透過性被覆材により被覆する被覆工程と、前記活性エネルギー線透過性被覆材の前記一方面にフォトマスクを配置するマスキング工程と、前記フォトマスクを介して、前記硬化性組成物の一部に活性エネルギー線を照射する第１硬化工程と、前記第１硬化工程の後、前記硬化性組成物の前記一部に対する残部に活性エネルギー線を照射する、および／または、前記残部を加熱する第２硬化工程とを備え、前記硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射により硬化可能な硬化性成分と、活性エネルギー線重合開始剤とを、少なくとも含有し、前記第１硬化工程では、前記活性エネルギー線が照射される前記一部において、前記活性エネルギー線重合開始剤に起因するガスを発生させ、前記活性エネルギー線が照射される前記一部に対する前記残部において、前記ガスに起因する空間を形成するとともに、前記活性エネルギー線が照射される前記一部において、前記硬化性成分を硬化させて、前記空間を有しない第１硬化部を形成し、前記第２硬化工程では、前記フォトマスクを取り外し、前記残部に活性エネルギー線を照射する、および／または、前記残部を加熱し、前記硬化性成分を硬化させて、前記空間を有する第２硬化部を形成することにより、前記硬化性成分の硬化物に、前記第１硬化部および前記第２硬化部を備えるパターン構造を形成する、パターン構造付き樹脂硬化物の製造方法を、含んでいる。
【０００８】
本発明［２］は、前記パターン構造が、凹凸構造であり、前記凹凸構造のアスペクト比（深さ／幅）が、５以上である、上記［１］に記載のパターン構造付き樹脂硬化物の製造方法を、含んでいる。
【０００９】
本発明［３］は、前記フォトマスクは、複数の透光部および遮光部を有し、前記透光部および前記遮光部は、ラインアンドスペースパターンを有し、前記ラインアンドスペースパターンにおけるライン幅が１００μｍ未満であり、前記ラインアンドスペースパターンにおけるスペース幅が１００μｍ未満である、上記［１］または［２］に記載のパターン構造付き樹脂硬化物の製造方法を、含んでいる。
【００１０】
本発明［４］は、前記活性エネルギー線重合開始剤が、開裂型の活性エネルギー線ラジカル重合開始剤であり、前記活性エネルギー線重合開始剤の含有割合が、前記硬化性成分１００質量部に対して、１質量部以上１０質量部以下である、上記［１］～［３］のいずれか一項に記載のパターン構造付き樹脂硬化物の製造方法を、含んでいる。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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