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公開番号2025084434
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-03
出願番号2023198335
出願日2023-11-22
発明の名称露光装置、物品の製造方法、及び露光方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250527BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】不良領域を低減させるように基板に対して露光処理を行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、原版のパターンの像を基板に投影し、基板を露光する露光装置であって、原版を通過した露光光を基板に導光することで、像を基板の基板面上に投影する投影光学系と、基板面上の所定のショット領域を露光する際に原版を保持しながら基板面に平行な第1の方向に走査移動する原版ステージと、所定のショット領域を露光する際に基板を保持しながら第1の方向に走査移動する基板ステージと、基板に導光される露光光の一部を遮光する遮光部と、所定のショット領域の露光が中断した際に、所定のショット領域における正常露光領域に露光光が導光されないように遮光部を制御しながら所定のショット領域の露光を再開する再開工程を行う制御部とを備えることを特徴とする。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
原版のパターンの像を基板に投影し、前記基板を露光する露光装置であって、
前記原版を通過した露光光を前記基板に導光することで、前記像を前記基板の基板面上に投影する投影光学系と、
前記基板面上の所定のショット領域を露光する際に前記原版を保持しながら前記基板面に平行な第１の方向に走査移動する原版ステージと、
前記所定のショット領域を露光する際に前記基板を保持しながら前記第１の方向に走査移動する基板ステージと、
前記基板に導光される前記露光光の一部を遮光する遮光部と、
前記所定のショット領域の前記露光が中断した際に、前記所定のショット領域における正常露光領域に前記露光光が導光されないように前記遮光部を制御しながら前記所定のショット領域の前記露光を再開する再開工程を行う制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記再開工程は、前記所定のショット領域における前記正常露光領域及び異常露光領域それぞれに前記露光光が導光されないように前記遮光部を制御しながら前記所定のショット領域の前記露光を再開する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記再開工程は、前記所定のショット領域の前記露光の際に所定の異常が発生した時刻と、前記所定のショット領域の前記露光が中断した時刻との間に露光された領域から異常露光領域を決定する決定工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記異常露光領域において不良が発生している虞がある旨を通知する工程を行うことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記再開工程は、前記所定のショット領域の前記露光の際に所定の異常が発生した時刻より前の時間内において露光された領域から前記正常露光領域を決定する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
前記再開工程は、前記所定のショット領域の前記露光の際に所定の異常が発生していないか判断する判断工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記判断工程において前記所定の異常が発生していると判断した際に前記所定のショット領域の前記露光を中断する工程を行うことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記露光光を射出する光源と、開放することで前記光源からの前記露光光を通過させるシャッタ部材とを有する、前記露光光を前記原版に照射する照明光学系を備え、
前記所定の異常は、前記原版ステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方の前記走査移動におけるエラー、前記光源の予期しない消灯、及び前記シャッタ部材の予期しない閉鎖を含むことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項９】
前記所定のショット領域は、前記第１の方向に沿って配列される複数の分割露光領域を有しており、
前記再開工程は、前記所定のショット領域の前記露光の際に所定の異常が発生した時刻と、前記所定のショット領域の前記露光が中断した時刻との間に露光された領域を含む少なくとも一つの前記分割露光領域から異常露光領域を決定する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記再開工程は、前記所定のショット領域において前記異常露光領域より走査開始側に配置されている少なくとも一つの前記分割露光領域から前記正常露光領域を決定する工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、物品の製造方法、及び露光方法に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、露光装置において原版に形成されているパターンを基板上の所定のショット領域に転写するように当該所定のショット領域に対して露光処理を行う際に、所定の異常が発生することで当該露光処理を中断させる場合がある。
特許文献１は、原版を保持する原版ステージや基板を保持する基板ステージの駆動に異常が発生することで露光処理を中断させた際に、各々の位置を当該異常が発生した時刻より前の時刻における位置に移動させ当該露光処理を再開する露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開平１１－２７４０６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に開示される露光装置では、所定の異常が発生することで所定のショット領域に対する露光処理を中断させた際に、原版ステージや基板ステージの位置を当該所定の異常が発生した時刻より前の時刻における位置に戻した後に、当該露光処理を再開させる。
この場合、所定のショット領域上において当該露光処理を再開させることによって当該前の時刻と当該異常が発生した時刻との間に露光が行われた領域に対して再び露光が行われることで、当該領域は二重露光が行われる不良領域となってしまう。
【０００５】
そこで本発明は、不良領域を低減させるように基板に対して露光処理を行うことができる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る露光装置は、原版のパターンの像を基板に投影し、基板を露光する露光装置であって、原版を通過した露光光を基板に導光することで、像を基板の基板面上に投影する投影光学系と、基板面上の所定のショット領域を露光する際に原版を保持しながら基板面に平行な第１の方向に走査移動する原版ステージと、所定のショット領域を露光する際に基板を保持しながら第１の方向に走査移動する基板ステージと、基板に導光される露光光の一部を遮光する遮光部と、所定のショット領域の露光が中断した際に、所定のショット領域における正常露光領域に露光光が導光されないように遮光部を制御しながら所定のショット領域の露光を再開する再開工程を行う制御部とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、不良領域を低減させるように基板に対して露光処理を行うことができる露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本実施形態に係る露光装置の模式的ＸＺ断面内投影図及び模式的ＹＺ断面内投影図。
本実施形態に係る露光装置における基板に対する露光処理を示すフローチャート。
本実施形態に係る露光装置において用いられる原版及び基板の模式的上面図。
本実施形態に係る露光装置の走査露光が中断した際の一部模式的上面図。
本実施形態に係る露光装置の走査露光を再開する際の一部模式的上面図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に、本実施形態に係る露光装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。
また、投影光学系９の光軸に平行な方向（基板１１の基板面に垂直な方向）をＺ方向と定義する。
【００１０】
また、基板１１の基板面に平行な平面内において基板１１が走査される方向をＹ方向（第１の方向）、当該Ｚ方向及び当該Ｙ方向に垂直な非走査方向をＸ方向（第２の方向）と定義する。
また、Ｚ方向、Ｘ方向及びＹ方向のまわりの回転方向をそれぞれ、θ方向、Ｐｉｔｃｈ方向及びＲｏｌｌ方向と定義する。
（【００１１】以降は省略されています）

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