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公開番号2025098588
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-02
出願番号2023214824
出願日2023-12-20
発明の名称分離起点形成方法及び分離方法
出願人株式会社ディスコ
代理人弁理士法人酒井国際特許事務所
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250625BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】分離不良を抑制することができること。
【解決手段】分離起点形成方法は、インゴットを保持ユニットで保持し該第1面を露出させる保持ステップ301と、インゴットの第1面においてFacet領域を設定する特定領域設定ステップ304と、集光点をインゴットの内部に位置づけた状態でレーザビームを第1面に向かって照射しつつ集光点をインゴットに対してX軸方向に相対移動させインゴットの内部に帯状の改質部を形成する加工送りと、加工送りの後に集光点をインゴットに対してY軸方向に相対移動させるインデックス送りとを繰り返すことでインゴットの内部に剥離層を形成するレーザ加工ステップ305とを備え、レーザ加工ステップ305では、Facet領域において隣接する改質部の間隔が、非Facet領域において隣接する改質部の間隔よりも狭い間隔に設定される。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項１】
第１面と該第１面の背面の第２面とを有した被加工物を該第１面側と該第２面側とに分離するための分離起点を被加工物内部に形成する分離起点形成方法であって、
被加工物を保持ユニットで保持して該第１面を露出させる保持ステップと、
該保持ステップを実施する前または後に、被加工物の該第１面において特定領域を設定する特定領域設定ステップと、
該保持ステップと該特定領域設定ステップとを実施した後、レーザビームの集光点を被加工物の内部に位置づけた状態で該レーザビームを該第１面に向かって照射しつつ該集光点を被加工物に対して加工送り方向に相対移動させ被加工物の内部に帯状の改質部を形成する加工送りと、該加工送りの後に該集光点を被加工物に対して該加工送り方向に直交するインデックス送り方向に相対移動させるインデックス送りと、を繰り返すことで被加工物の内部に複数の改質部を形成し被加工物内部に該複数の改質部を含む分離起点を形成するレーザ加工ステップと、を備え、
該レーザ加工ステップでは、該特定領域において隣接する該改質部の間隔が、特定領域外において隣接する該改質部の間隔よりも狭い間隔に設定される、分離起点形成方法。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
該レーザ加工ステップは、
該加工送り方向において被加工物の外周縁の一端から他端まで該レーザビームを照射しつつ該集光点を相対移動させた後、該インデックス送り方向に該集光点を相対移動させることを繰り返す第１サブステップと、
該第１サブステップの前または後に、該加工送り方向において該特定領域の一端から他端まで該レーザビームを照射しつつ該集光点を相対移動させた後、該インデックス送り方向に該集光点を相対移動させることを繰り返す第２サブステップと、を有し、
該第１サブステップと該第２サブステップとでは該インデックス送り方向において異なる位置に該レーザビームが照射される、請求項１に記載の分離起点形成方法。
【請求項３】
該第１サブステップと該第２サブステップでは該インデックス送り方向に該集光点を同一のインデックス量で相対移動させる請求項２に記載の分離起点形成方法。
【請求項４】
該特定領域設定ステップでは、被加工物の光学特性に基づいて該特定領域を設定する、請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の分離起点形成方法。
【請求項５】
第１面と該第１面の背面の第２面とを有した被加工物を該第１面側と該第２面側とに分離する分離方法であって、
被加工物を保持ユニットで保持して該第１面を露出させる保持ステップと、
該保持ステップを実施する前または後に、被加工物の該第１面において特定領域を設定する特定領域設定ステップと、
該保持ステップと該特定領域設定ステップとを実施した後、レーザビームの集光点を被加工物の内部に位置づけた状態で該レーザビームを該第１面に向かって照射しつつ該集光点を被加工物に対して加工送り方向に相対移動させ被加工物の内部に帯状の改質部を形成する加工送りと、該加工送りの後に該集光点を被加工物に対して該加工送り方向に直交するインデックス送り方向に相対移動させるインデックス送りと、を繰り返すことで被加工物の内部に複数の改質部を形成し被加工物内部に該複数の改質部を含む分離起点を形成するレーザ加工ステップと、
該レーザ加工ステップを実施した後、該分離起点から被加工物を該第１面側と該第２面側とに分離する分離ステップと、を備え、
該レーザ加工ステップでは、該特定領域において隣接する該改質部の間隔が、特定領域外において隣接する該改質部の間隔よりも狭い間隔に設定される、分離方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、被加工物を第１面側と第２面側とに分離するための分離起点を形成する分離起点形成方法及び分離方法に関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
例えば、ＳｉＣ（炭化ケイ素）単結晶やシリコンからなるインゴットやウエーハにレーザビームを照射して内部に分離起点を形成した後ウエーハを分離する方法が提案されている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１３－０４９１６１号公報
特開２０１１－０６０８６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一方、ＳｉＣ単結晶には成長過程において成長モードが異なるファセット領域と非ファセット領域とが形成される。ファセット領域は非ファセット領域に比べてエネルギーの吸収率が高い。従って、ファセット領域では集光点に到達するレーザビームの強度は非ファセット領域よりも弱くなり、ファセット領域において十分な分離層が形成されずに分離不良が生じるおそれもあり改善が切望されている。
【０００５】
本発明の目的は、分離不良を抑制することができる分離起点形成方法及び分離方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の分離起点形成方法は、第１面と該第１面の背面の第２面とを有した被加工物を該第１面側と該第２面側とに分離するための分離起点を被加工物内部に形成する分離起点形成方法であって、被加工物を保持ユニットで保持して該第１面を露出させる保持ステップと、該保持ステップを実施する前または後に、被加工物の該第１面において特定領域を設定する特定領域設定ステップと、該保持ステップと該特定領域設定ステップとを実施した後、レーザビームの集光点を被加工物の内部に位置づけた状態で該レーザビームを該第１面に向かって照射しつつ該集光点を被加工物に対して加工送り方向に相対移動させ被加工物の内部に帯状の改質部を形成する加工送りと、該加工送りの後に該集光点を被加工物に対して該加工送り方向に直交するインデックス送り方向に相対移動させるインデックス送りと、を繰り返すことで被加工物の内部に複数の改質部を形成し被加工物内部に該複数の改質部を含む分離起点を形成するレーザ加工ステップと、を備え、該レーザ加工ステップでは、該特定領域において隣接する該改質部の間隔が、特定領域外において隣接する該改質部の間隔よりも狭い間隔に設定されることを特徴とする。
【０００７】
前記分離起点形成方法において、該レーザ加工ステップは、該加工送り方向において被加工物の外周縁の一端から他端まで該レーザビームを照射しつつ該集光点を相対移動させた後、該インデックス送り方向に該集光点を相対移動させることを繰り返す第１サブステップと、該第１サブステップの前または後に、該加工送り方向において該特定領域の一端から他端まで該レーザビームを照射しつつ該集光点を相対移動させた後、該インデックス送り方向に該集光点を相対移動させることを繰り返す第２サブステップと、を有し、該第１サブステップと該第２サブステップとでは該インデックス送り方向において異なる位置に該レーザビームが照射されても良い。
【０００８】
前記分離起点形成方法において、該第１サブステップと該第２サブステップでは該インデックス送り方向に該集光点を同一のインデックス量で相対移動させても良い。
【０００９】
前記分離起点形成方法において、該特定領域設定ステップでは、被加工物の光学特性に基づいて該特定領域を設定しても良い。
【００１０】
本発明の分離方法は、第１面と該第１面の背面の第２面とを有した被加工物を該第１面側と該第２面側とに分離する分離方法であって、被加工物を保持ユニットで保持して該第１面を露出させる保持ステップと、該保持ステップを実施する前または後に、被加工物の該第１面において特定領域を設定する特定領域設定ステップと、該保持ステップと該特定領域設定ステップとを実施した後、レーザビームの集光点を被加工物の内部に位置づけた状態で該レーザビームを該第１面に向かって照射しつつ該集光点を被加工物に対して加工送り方向に相対移動させ被加工物の内部に帯状の改質部を形成する加工送りと、該加工送りの後に該集光点を被加工物に対して該加工送り方向に直交するインデックス送り方向に相対移動させるインデックス送りと、を繰り返すことで被加工物の内部に複数の改質部を形成し被加工物内部に該複数の改質部を含む分離起点を形成するレーザ加工ステップと、該レーザ加工ステップを実施した後、該分離起点から被加工物を該第１面側と該第２面側とに分離する分離ステップと、を備え、該レーザ加工ステップでは、該特定領域において隣接する該改質部の間隔が、特定領域外において隣接する該改質部の間隔よりも狭い間隔に設定されることを特徴とする。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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