特許ウォッチ

公開番号2025103930
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-09
出願番号2023221684
出願日2023-12-27
発明の名称塗布装置
出願人マツダ株式会社,マッスル株式会社
代理人弁理士法人前田特許事務所
主分類B05B 13/04 20060101AFI20250702BHJP(霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般)
要約【課題】対象物の回転軸部分及びその周辺において膜厚が厚くなることを抑制する。
【解決手段】被塗布面を上方に指向して対象物Wを固定するとともに回転軸20を中心に対象物Wを回転させる基台2と、基台2を指向するスプレー部3と、基台及びスプレー部の少なくとも一方に設けられ、回転する被塗布面に対してスプレー部を相対移動させる移動機構4及びスプレー部3と被塗布面との距離を変更する距離調整機構5と、を備え、距離調整機構は、移動機構によってスプレー部が被塗布面の外周側から回転軸へ近づくほど、被塗布面とスプレー部との距離が長くなるように、基台又はスプレー部を駆動する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
回転する対象物の被塗布面に塗布材料を吹き付けて塗膜を形成する塗布装置であって、
被塗布面を上方に指向して前記対象物を固定するとともに回転軸を中心に前記対象物を回転させる基台と、
前記基台を指向するスプレー部と、
前記基台及び前記スプレー部の少なくとも一方に設けられ、
回転する被塗布面に対して前記スプレー部を相対移動させる移動機構及び前記スプレー部と被塗布面との距離を変更する距離調整機構と、
を備え、
前記距離調整機構は、前記移動機構によって前記スプレー部が被塗布面の外周側から前記回転軸へ近づくほど、被塗布面と前記スプレー部との距離が長くなるように、前記基台又は前記スプレー部を駆動することを特徴とする塗布装置。
続きを表示（約 750 文字）【請求項２】
請求項１に記載の塗布装置において、
前記移動機構は、前記スプレー部が被塗布面の外周側から前記回転軸へ近づくほど、前記相対移動の移動速度が速くなるように前記基台又は前記スプレー部を駆動することを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
請求項２に記載の塗布装置において、
前記距離調整機構は、前記回転軸に対して交差する方向へ延びる揺動軸と、該揺動軸周りに前記スプレー部を揺動させる揺動機構を含み、前記揺動機構の揺動速度は、前記スプレー部が被塗布面の外周側から前記回転軸へ近づくほど速くなることを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
請求項３に記載に塗布装置において、
前記スプレー部は、被塗布面の近傍に揺動中心を有することを特徴とする塗布装置。
【請求項５】
請求項１に記載の塗布装置において、
前記スプレー部は、被塗布面に対する所定方向の相対移動において、被塗布面の一方の外周縁部から他方の外周縁部へ達するまで、塗布材料の吹き付けを継続することを特徴とする塗布装置。
【請求項６】
平面視で円形、かつ、径方向に段差部を有する被塗布面へ塗布材料を吹き付ける、請求項３又は４に記載の塗布装置であって、
前記揺動機構は、段差部における被塗布面の角度に基づいて前記スプレー部の揺動角度を変化させ、径方向内側の段差部に対する揺動角度の変化速度は、径方向外側の段差部に対する揺動角度の変化速度よりも速いことを特徴とする塗布装置。
【請求項７】
請求項１に記載の塗布装置において、
前記スプレー部は、前記回転軸の直上を通過可能に配置されることを特徴とする塗布装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
ここに開示された技術は、塗布装置に関する技術分野に属する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
回転する対象物に対して塗布材料を吹き付ける塗布装置は様々なものが知られている。例えば、特許文献１には、回転している基板の内周側上方から塗布材料を噴霧し、回転による遠心力によって基板の内周側から外周側へ流延させる塗布装置が開示されている。このような構成に加え、特許文献２には、対象物の回転速度を第１の塗布材料の吐出時と第２の塗布材料の吐出時とで相違させる塗布方法が開示されている。また、特許文献３には、対象物が固定されるテーブルをＸ軸移動及びＹ軸移動可能とし、塗布材料を吐出するノズルをＺ軸方向に移動可能とし、塗布材料によりパターンを形成するパターン膜の製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０００－３３３１８号公報
特許第７０９２５０８号公報
特開平１１－３４７４７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、このような塗布装置において、対象物の回転軸に近い内周側と回転軸から遠い外周側とでは、慣性モーメントの違いから、内周側ほど厚く塗布されるという問題がある。しかしながら、上記の特許文献には、これを課題として解決する手段は開示されていない。
【０００５】
ここに開示された技術は斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、対象物の回転軸部分及びその周辺において膜厚が厚くなることを抑制した塗布装置及び塗布方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するために、ここに開示された技術は、回転する対象物の被塗布面に塗布材料を吹き付けて塗膜を形成する塗布装置であって、被塗布面を上方に指向して前記対象物を固定するとともに回転軸を中心に前記対象物を回転させる基台と、前記基台を指向するスプレー部と、前記基台及び前記スプレー部の少なくとも一方に設けられ、回転する被塗布面に対して前記スプレー部を相対移動させる移動機構及び前記スプレー部と被塗布面との距離を変更する距離調整機構と、を備え、前記距離調整機構は、前記移動機構によって前記スプレー部が被塗布面の外周側から前記回転軸へ近づくほど、被塗布面と前記スプレー部との距離が長くなるように、前記基台又は前記スプレー部を駆動する、という構成とした。
【０００７】
上記の構成によれば、スプレー部が被塗布面の外周側から内周側へ相対移動し、回転軸へ近づくほど被塗布面から離れることで、被塗布面における回転軸及びその周辺において、塗布範囲が広くなり、塗布材料が分散する。そのため、被塗布面における回転軸及びその周辺が外周側よりも厚く塗布されることを抑制し、膜厚を均一化できる。
【０００８】
一実施形態では、前記移動機構は、前記スプレー部が被塗布面の外周側から前記回転軸へ近づくほど、前記相対移動の移動速度が速くなるように、前記基台又は前記スプレー部を駆動してもよい。
【０００９】
この構成によると、スプレー部の移動速度が被塗布面の外周側から回転軸へ近づくほど速くなるように相対移動させることで、被塗布面における回転軸及びその周辺が外周側よりも厚く塗布されることをより効果的に抑制し、膜厚を均一化できる。
【００１０】
一実施形態では、前記距離調整機構は、前記回転軸に対して交差する方向へ延びる揺動軸と、該揺動軸周りに前記スプレー部を揺動させる揺動機構を含み、前記揺動機構の揺動速度は、前記スプレー部が被塗布面の外周縁部から前記回転軸へ近づくほど速くなるように構成してもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許