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公開番号2025117905
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-13
出願番号2024012885
出願日2024-01-31
発明の名称光学素子の製造方法、及び光学素子の製造装置
出願人AGC株式会社
代理人弁理士法人志賀国際特許事務所
主分類G02B 5/30 20060101AFI20250805BHJP(光学)
要約【課題】位相差板の曲げ加工に起因するリタデーションのばらつきを低減する、技術を提供する。
【解決手段】光学素子の製造方法は、第1型と第2型とを準備することと、前記第1型の第1凹部に3次元構造物の曲面を前記第2型に向けて前記3次元構造物を収容することと、前記第1型と前記第2型とで位相差板を挟むことと、前記第2型で前記位相差板を加熱することと、前記第2型で加熱した前記位相差板の一部を前記3次元構造物の前記曲面に沿って曲げ加工することと、を有する。平面視で前記位相差板の室温における貯蔵弾性率は、180°周期で変化する。前記第2型は、第1加熱領域と第2加熱領域とを180°周期で有する。前記第1加熱領域の加熱温度(℃)が、前記第2加熱領域の加熱温度(℃)の80%～97%である。
【選択図】図7
特許請求の範囲【請求項１】
液晶層を有する位相差板と、接着層と、前記接着層を介して前記位相差板と対向する曲面を有する３次元構造物とを備える光学素子を製造する、光学素子の製造方法であって、
第１凹部が形成される第１平面を有する第１型と、前記第１型の前記第１平面と対向する第２平面を有する第２型と、を準備することと、
前記第１型の前記第１凹部に、前記３次元構造物の前記曲面を前記第２型に向けて前記３次元構造物を収容することと、
前記第１型と前記第２型とで前記位相差板を挟むことと、
前記第２型で前記位相差板を加熱することと、
前記第２型で加熱した前記位相差板の一部を前記３次元構造物の前記曲面に沿って曲げ加工することと、
を有し、
平面視で前記位相差板の室温における貯蔵弾性率は、１８０°周期で変化し、
前記第２型は、平面視で前記第１型の前記第１凹部と重なる領域に、前記位相差板の前記貯蔵弾性率が最小の部分に接する第１加熱領域と、前記位相差板の前記貯蔵弾性率が最大の部分に接する第２加熱領域とを１８０°周期で有し、
前記第１加熱領域の加熱温度（℃）が、前記第２加熱領域の加熱温度（℃）の８０％～９７％である、光学素子の製造方法。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記第２型は、前記第１加熱領域を加熱する加熱器と、前記第２加熱領域を加熱する加熱器とを別々に有し、前記第１加熱領域を前記第２加熱領域と同一の平面に有する、請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記第２型は、前記第１加熱領域と前記第２加熱領域の両方を加熱する加熱器と、前記第１加熱領域と前記第２加熱領域に温度差を形成する断熱層と、を有する、請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】
前記位相差板は、前記液晶層として、１／２波長板と１／４波長板を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記位相差板は、前記１／２波長板と前記１／４波長板との間に垂直配向液晶層を有する、請求項４に記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
液晶層を有する位相差板と、接着層と、前記接着層を介して前記位相差板と対向する曲面を有する３次元構造物とを備える光学素子を製造する、光学素子の製造装置であって、
第１凹部が形成される第１平面を有する第１型と、前記第１型の前記第１平面と対向する第２平面を有する第２型と、を備え、
前記第１凹部は、前記３次元構造物の前記曲面を前記第２型に向けて、前記３次元構造物を収容し、
前記第１型と前記第２型とは前記位相差板を挟んで配置され、
前記第２型は、前記位相差板を加熱する加熱器を有し、
前記製造装置は、前記第２型で加熱した前記位相差板の一部を前記３次元構造物の前記曲面に沿って曲げ加工すべく、前記位相差板に応力を印可する応力印加部を有し、
平面視で前記位相差板の室温における貯蔵弾性率は、１８０°周期で変化し、
前記第２型は、平面視で前記第１型の前記第１凹部と重なる領域に、前記位相差板の前記貯蔵弾性率が最小の部分に接する第１加熱領域と、前記位相差板の前記貯蔵弾性率が最大の部分に接する第２加熱領域とを１８０°周期で有し、
前記第１加熱領域の加熱温度（℃）が、前記第２加熱領域の加熱温度（℃）の８０％～９７％である、光学素子の製造装置。
【請求項７】
前記第２型は、前記第１加熱領域を加熱する加熱器と、前記第２加熱領域を加熱する加熱器とを別々に有し、前記第１加熱領域を前記第２加熱領域と同一の平面に有する、請求項６に記載の光学素子の製造装置。
【請求項８】
前記第２型は、前記第１加熱領域と前記第２加熱領域の両方を加熱する加熱器と、前記第１加熱領域と前記第２加熱領域に温度差を形成する断熱層と、を有する、請求項６に記載の光学素子の製造装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、光学素子の製造方法、及び光学素子の製造装置に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１に記載の光学レンズは、位相差体を有する。位相差体は、フィルム又はコーティングである。コーティング材料は、例えば液晶ポリマーである。フィルム材料は、開示されていない。位相差体は、例えば１／４波長板である。
【０００３】
特許文献２には、モールドの凹凸パターンを転写するための光硬化性組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特表２０１９－５３４４８４号公報
特許第５９７８７６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
フィルム状の位相差板は、接着層を介して３次元構造物の曲面に接着される。位相差板と接着層と３次元構造部とで、光学素子が構成される。光学素子の製造方法は、３次元構造物の曲面に沿って位相差板を曲げ加工する工程を有する。
【０００６】
フィルム状の位相差板が液晶層を含むことがある。液晶層は、液晶分子を有する。液晶層は、液晶分子の長軸方向に伸ばし難く、液晶分子の短軸方向に伸ばし易い。それゆえ、位相差板を曲げ加工することで、厚みがばらつき、リタデーションがばらつくことがあった。
【０００７】
本開示の一態様は、位相差板の曲げ加工に起因するリタデーションのばらつきを低減する、技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示の一態様に係る光学素子の製造方法は、液晶層を有する位相差板と、接着層と、前記接着層を介して前記位相差板と対向する曲面を有する３次元構造物とを備える光学素子を製造する。前記製造方法は、第１凹部が形成される第１平面を有する第１型と、前記第１型の前記第１平面と対向する第２平面を有する第２型と、を準備することと、前記第１型の前記第１凹部に、前記３次元構造物の前記曲面を前記第２型に向けて前記３次元構造物を収容することと、前記第１型と前記第２型とで前記位相差板を挟むことと、前記第２型で前記位相差板を加熱することと、前記第２型で加熱した前記位相差板の一部を前記３次元構造物の前記曲面に沿って曲げ加工することと、を有する。平面視で前記位相差板の室温における貯蔵弾性率は、１８０°周期で変化する。前記第２型は、平面視で前記第１型の前記第１凹部と重なる領域に、前記位相差板の前記貯蔵弾性率が最小の部分に接する第１加熱領域と、前記位相差板の前記貯蔵弾性率が最大の部分に接する第２加熱領域とを１８０°周期で有する。前記第１加熱領域の加熱温度（℃）が、前記第２加熱領域の加熱温度（℃）の８０％～９７％である。
【発明の効果】
【０００９】
本開示の一態様によれば、第２型で所望の温度分布に加熱した位相差板を曲げ加工することで、位相差板の厚みのばらつきを低減でき、リタデーションのばらつきを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
図１（Ａ）は一実施形態に係る位相差板と３次元構造物と接着層を示す断面図であり、図１（Ｂ）は一実施形態に係る光学素子の断面図であり、図１（Ｃ）は図１（Ｂ）に示す光学素子の平面図である。
図２（Ａ）は透明基材と配向層の一例を示す斜視図であり、図２（Ｂ）は図２（Ａ）に示す配向層によって配向された液晶分子の一例を示す斜視図である。
図３は、位相差板の変形例を示す断面図である。
図４は、位相差板の貯蔵弾性率の異方性の一例を示す平面図である。
図５は、第１型の一例を示す平面図である。
図６は、第２型の一例を示す平面図である。
図７は、図５及び図６に示すθ４方向及びθ８方向に沿った断面図であって、（Ａ）は位相差板の設置の一例を示す断面図であり、（Ｂ）は位相差板の加熱の一例を示す断面図であり、（Ｃ）は位相差板の曲げ加工の一例を示す断面図である。
図８は、図５及び図６に示すθ２方向及びθ６方向に沿った断面図であって、（Ａ）は位相差板の加熱の一例を示す断面図であり、（Ｂ）は位相差板の加熱の一例を示す断面図であり、（Ｃ）は位相差板の曲げ加工の一例を示す断面図である。
図９は、例１～例３で作製した光学素子のリタデーションのばらつきを示す図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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