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公開番号2025140077
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-29
出願番号2024039245
出願日2024-03-13
発明の名称生産システムおよび製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人秀和特許事務所
主分類H01L 21/02 20060101AFI20250919BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】トラブル発生時においても、基板の品質の低下を防ぐことで、スループット向上を図った生産システムを提供する。
【解決手段】基板に複数の処理を行う生産システムであって、順に処理を行う複数の処理室と、前記複数の処理室の少なくともいずれかでの処理が終わった基板を一時保管する1
つまたは複数のバッファ部と、前記複数の処理室のいずれかについて停止情報が入力された場合に、処理中の基板について、次工程の処理室での処理を実行させるか、前記バッファ部のいずれかに格納するかを制御する制御部と、を備える。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
基板に複数の処理を行う生産システムであって、
順に処理を行う複数の処理室と、
前記複数の処理室の少なくともいずれかでの処理が終わった基板を一時保管する1つま
たは複数のバッファ部と、
前記複数の処理室のいずれかについて停止情報が入力された場合に、処理中の基板について、次工程の処理室での処理を実行させるか、前記バッファ部のいずれかに格納するかを制御する制御部と、
を備える、生産システム。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記制御部は、
前記停止情報に基づいて、前記停止した処理室が再開するまでに要する予測時間を取得し、
待機許容時間が前記予測時間よりも長いバッファ部を選択し、
前記バッファ部に対して前記選択されたバッファ部までの処理室での処理を実行させた後に前記選択されたバッファ部に前記基板を格納する、
ことを特徴とする請求項１に記載の生産システム。
【請求項３】
前記制御部は、待機許容時間が前記予測時間よりも長いバッファ部が複数ある場合に、前記停止した処理室の直近の上流側にあるバッファ部に前記基板を格納する、
ことを特徴とする請求項２に記載の生産システム。
【請求項４】
前記制御部は、前記基板に対して次工程の処理室での処理を開始すると、その後のいずれのバッファ部の待機許容時間が前記予測時間よりも短い場合には、前記基板の次工程の処理室への投入を停止する、
ことを特徴とする請求項２に記載の生産システム。
【請求項５】
前記制御部は、前記バッファ部での待機許容時間をあらかじめ記憶している、
ことを特徴とする請求項２に記載の生産システム。
【請求項６】
前記制御部は、前記基板が到着する時点で前記選択されたバッファ部に空きがない場合には、前記選択されたバッファ部の上流のバッファ部に前記基板を格納する、
ことを特徴とする請求項２に記載の生産システム。
【請求項７】
前記停止情報にはトラブルの種類が含まれており、
前記制御部は、前記トラブルの種類に応じてあらかじめ設定された時間を前記予測時間として取得する、
ことを特徴とする請求項２に記載の生産システム。
【請求項８】
前記複数の処理室は、洗浄室、塗布室、乾燥室、および焼成室、を上流側からこの順で含み、
前記複数のバッファ部は、前記洗浄室での洗浄処理後の前記基板を格納する第一バッファ部、前記乾燥室での乾燥処理後の前記基板を格納する第二バッファ部、および、前記焼成室での焼成処理後の前記基板を含む第三バッファ部を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の生産システム。
【請求項９】
前記複数の処理室は、洗浄室、塗布室、乾燥室、および焼成室をこの順で含み、
前記複数のバッファ部は、前記洗浄室での処理の後および前記塗布室での処理の前の基板を格納可能な第一バッファ部と、前記乾燥室での処理の後および前記焼成室での処理の
前の基板を格納可能な第二バッファ部と、を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の生産システム。
【請求項１０】
前記複数のバッファ部は、待機許容時間が長いほど格納容量が大きい、
ことを特徴とする請求項１に記載の生産システム。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の生産システムおよび製造方法に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
基板に化学的或いは物理的な処理を施す生産システムにおいて生産工程の途中でトラブルが発生した場合、そのトラブルが回復するまでの間基板を処理室に放置しておくと、当該基板の物性が変化し品質が低下してしまう。そのため、基板をバッファ部にストックすることになるが、次工程処理までの待機許容時間が短い場合には、バッファ部へストックした基板全てが廃棄対象となり、歩留まりが低下するという問題がある。
【０００３】
特許文献１にはバッファ部へのストック数が規定されたストック数以下の場合、バッファ部へ基板の連続投入が行われ、規定ストック数に達した場合、バッファ部へ基板の連続投入が停止する生産システムを開示する。この生産システムによれば、生産工程の途中でトラブルが生じても、基板の品質の低下を防ぎ、スループット向上を図れる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開平７－１７８６５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、半導体ウエハ、液晶表示用ガラス基板、有機エレクトロルミネッセンス用ガラス基板に成膜溶剤を塗布した後で長時間放置すると、基板に塗布した成膜溶剤の化学的物性が変化し品質の低下を招いてしまうという問題が起こってしまう。
【０００６】
本発明は、トラブル発生時においても、基板の品質の低下を防ぐことで、スループット向上を図った生産システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第一の態様は、
基板に複数の処理を行う生産システムであって、
順に処理を行う複数の処理室と、
前記複数の処理室の少なくともいずれかでの処理が終わった基板を一時保管する1つま
たは複数のバッファ部と、
前記複数の処理室のいずれかについて停止情報が入力された場合に、処理中の基板について、次工程の処理室での処理を実行させるか、前記バッファ部のいずれかに格納するかを制御する制御部と、
を備える、生産システムである。
【０００８】
本発明の第二の態様は、
基板に複数の処理を行なう生産システムであって、
いずれも一つまたは複数の処理室を含み、この順で前記基板の処理が行われる、第一の処理室群、第二の処理室群、および第三の処理室群と、
前記第一の処理室群での少なくとも一部の処理が終わった基板を一時保管する第一バッファ部と、
前記第二の処理室群での処理が終わった基板を一時保管する第二バッファ部と、
前記第三の処理室群の停止情報が入力された場合に、前記第一の処理室群での処理後の
基板について、前記第一バッファ部への格納を実行するか、前記第二の処理室群での処理を開始するかを制御する制御部と、
を備える、生産システムである。
【０００９】
本発明の第三の態様は、
基板に対して複数の処理室での処理を行って処理済の基板を製造する製造方法であって、
前記複数のいずれかについての停止情報を取得するステップと、
前記停止情報を取得した場合に、処理中の基板について、次工程での処理を実行させるか、バッファ部に格納するかを制御するステップと、
を実行することを特徴とする製造方法である。
【００１０】
本発明の第四の態様は、
第一の処理室群、第二の処理室群、および第三の処理室群と、前記第一の処理室群での少なくとも一部処理が終わった基板を一時保管する第一バッファ部と、前記第二の処理室群での処理が終わった基板を一時保管する第二バッファ部と、を備える生産システムにおける基板の製造方法であって、
前記第三の処理室群の停止情報を取得するステップと、
前記第一の処理室群での処理後の基板について、前記第一バッファ部への格納を実行するか、前記第二の処理室群での処理を開始するかを制御するステップと、
を含むことを特徴とする製造方法である。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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