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公開番号
2025154185
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-10-10
出願番号
2024057053
出願日
2024-03-29
発明の名称
受発光センサ及び該受発光センサを備えた画像形成装置
出願人
京セラ株式会社
代理人
弁理士法人三協国際特許事務所
主分類
G01N
21/47 20060101AFI20251002BHJP(測定;試験)
要約
【課題】乱反射光を検出する乱反射光検出方式と、正反射光を検出する正反射光検出方式とを1つの受発光センサにより実現しつつ、該受発光センサと測定対象物との距離が予め設定した設定距離からずれた場合の測定精度の低下を抑制する。
【解決手段】受発光センサは、基板11の一方の面に設けられた第1発光素子14、第2発光素子16、第1受光素子15及び第2受光素子17を備えている。第1受光素子15は、第1発光素子14から出射された光の正反射光を受光可能な位置に配置され、前記第2受光素子17は、第2発光素子16から出射された光の乱反射光を受光可能な位置に配置されている。前記基板11に垂直な方向から見て、第1受光領域15aの面積は、第2受光領域17aの面積よりも大きい。
【選択図】図7
特許請求の範囲
【請求項1】
測定対象物に向けて光を照射し、該測定対象物からの反射光を検出する受発光センサであって、
基板と、
前記基板の一方の面に設けられた第1発光素子、第2発光素子、第1受光素子及び第2受光素子と、を備え、
前記第1受光素子は第1受光領域を含み、前記第2受光素子は、第2受光領域を含み、 前記第1受光素子は、前記第1発光素子から出射された光の正反射光を受光可能な位置に配置され、
前記第2受光素子は、前記第2発光素子から出射された光の乱反射光を受光可能な位置に配置されており、
前記基板に垂直な方向から見て、前記第1受光領域の面積は、前記第2受光領域の面積よりも大きい、受発光センサ。
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【請求項2】
請求項1記載の受発光センサにおいて、
前記第2発光素子は、前記第1発光素子と前記第1受光素子との並び方向に沿った所定方向において、該第1発光素子と該第1受光素子との間の領域の外側に配置されている、受発光センサ。
【請求項3】
請求項1記載の受発光センサにおいて、
前記第1発光素子及び前記第2発光素子は、予め定めた測定用被照射位置に光を照射するように構成され、
前記第1発光素子と前記測定用被照射位置との距離は、前記第2発光素子と前記測定用被照射位置との距離よりも短く設定されている、受発光センサ。
【請求項4】
請求項1から3のいずれか1つに記載の受発光センサにおいて、
前記基板に垂直な方向から見て、前記第1受光素子の受光領域の面積をB1とし、前記第2受光素子の受光領域の面積をB2としたとき、B1/B2が1.0よりも大きく且つ1.8以下である、受発光センサ。
【請求項5】
請求項1から3のいずれか1つに記載の受発光センサにおいて、
前記第1発光素子と前記第1受光素子との並び方向における前記第1受光領域の寸法は、
前記第2発光素子と前記第2受光素子との並び方向における前記第2受光領域の寸法よりも大きい、受発光センサ。
【請求項6】
請求項1から3のいずれか1つに記載の受発光センサにおいて、
前記基板に垂直な方向から見て、
前記第1発光素子と前記第1受光素子との並び方向における前記第1受光領域の寸法をH3とし、該並び方向に直交する方向における当該第1受光領域の寸法をV3とし、
前記第2受光素子と前記第2発光素子との並び方向における前記第2受光領域の寸法をH4とし、該並び方向に直交する方向における当該第2受光領域の寸法をV4としたとき、
前記第1受光領域のアスペクト比であるH3/V3が、前記第2受光領域のアスペクト比であるH4/V4よりも大きい、受発光センサ。
【請求項7】
請求項2記載の受発光センサにおいて、
前記基板に垂直な方向から見て、前記第1発光素子、前記第2発光素子、前記第1受光素子及び前記第2受光素子は、前記所定方向に沿って配置されており、
前記第2受光素子は、前記所定方向において、前記第1発光素子と前記第1受光素子との間の領域の外側に配置されており、
前記第2発光素子は、前記所定方向において、前記第2受光素子よりもさらに前記外側に配置されている、受発光センサ。
【請求項8】
請求項1から3のいずれか1つに記載の受発光センサにおいて、
前記第1発光素子は第1発光領域を含み、前記第2発光素子は、第2発光領域を含み、
前記基板に垂直な方向から見て、前記第2発光領域の面積重心位置と前記第2受光領域の面積重心位置との距離が、前記第1発光領域の面積重心位置と前記第1受光領域の面積重心位置との距離よりも大きい、受発光センサ。
【請求項9】
請求項1から3のいずれか1つに記載の受発光センサを備えた画像形成装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、受発光センサ及び該受発光センサを備えた画像形成装置に関する。
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【背景技術】
【0002】
従来、測定対象物に向けて光を照射する発光部と、該測定対象物からの反射光を検出する受光部と、該発光部及び受光部が実装される基板とを備えた受発光センサが知られている。この種の受発光センサは、測定対象物の特性値(例えば表面濃度や位置等であって、以下、測定対象値という)の測定に使用される。
【0003】
下記特許文献1には、この種の受発光センサの一例が開示されている。この例では、受発光センサは、電子写真方式の画像形成装置等において中間転写ベルト上に形成されたパッチ画像の濃度や位置ずれを測定する用途に使用されている。
【0004】
この受発光センサは、発光部として第1発光素子と第2発光素子とを備えるとともに、受光部として第1受光素子と第2受光素子とを備えている。
【0005】
前記第1受光素子は、第1発光素子から出射された光の正反射光を受光可能な位置に配置されている。また第1受光素子は、第2発光素子から出射された光の乱反射光を受光可能な位置に配置されている。前記第2受光素子は、第2発光素子から出射された光の乱反射光を受光可能な位置に配置されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
特許第7195808号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、特許文献1に示す受発光センサでは、諸要因(例えば測定対象物を支持する部材の位置ずれや変形等)によって、受発光センサと測定対象物との距離が予め設定した設定距離からずれた場合(測定途中でずれた場合及び測定開始時点で既にずれが生じている場合を含む)に測定対象値の測定精度が低下するという問題があった。
【0008】
本開示の目的は、乱反射光を検出する乱反射光検出方式と、正反射光を検出する正反射光検出方式とを1つの受発光センサにより実現しつつ、該受発光センサと測定対象物との距離が予め設定した設定距離からずれた場合の測定精度の低下を抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本開示の一局面に係る受発光センサは、測定対象物に向けて光を照射し、該測定対象物からの反射光を検出する受発光センサであって、基板と、前記基板の一方の面に設けられた第1発光素子、第2発光素子、第1受光素子及び第2受光素子と、を備え、前記第1受光素子は第1受光領域を含み、前記第2受光素子は、第2受光領域を含み、前記第1受光素子は、前記第1発光素子から出射された光の正反射光を受光可能な位置に配置され、前記第2受光素子は、前記第2発光素子から出射された光の乱反射光を受光可能な位置に配置されており、前記基板に垂直な方向から見て、前記第1受光領域の面積は、前記第2受光領域の面積よりも大きい。
【0010】
本開示の他の局面に係る画像形成装置は、前記受発光センサを備えている。
【発明の効果】
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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