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公開番号2025092973
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-23
出願番号2023208425
出願日2023-12-11
発明の名称排ガス処理装置
出願人株式会社荏原製作所
代理人個人,個人,個人,個人
主分類F23G 7/06 20060101AFI20250616BHJP(燃焼装置;燃焼方法)
要約【課題】処理ガスによる悪影響を排除することができる排ガス処理装置が提供される。
【解決手段】排ガス処理装置1は、流路形成壁12を備えるガス処理反応器10と、二重管構造体20と、を備える。二重管構造体20は、流路形成壁12の少なくとも一部が挿入された内筒21と、内筒21の外側に配置された外筒22と、を備えている。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
排ガス処理装置であって、
導入された処理ガスの流路を形成する流路形成壁を備えるガス処理反応器と、
前記ガス処理反応器を取り囲む二重管構造体と、を備え、
前記二重管構造体は、
前記流路形成壁の少なくとも一部が挿入された内筒と、
前記内筒の外側に配置された外筒と、を備えている、排ガス処理装置。
続きを表示（約 930 文字）【請求項２】
前記排ガス処理装置は、前記内筒に液膜を形成する液膜形成装置を備えており、
前記液膜形成装置は、前記外筒と前記内筒との間の外側隙間に液体を供給して、前記内筒を越流した液体によって、前記内筒の内壁面に液膜を形成するように構成されている、請求項１に記載の排ガス処理装置。
【請求項３】
前記液膜形成装置は、
前記外筒に形成された液体供給口に接続された液体供給ラインと、
前記液体供給ラインを通じて、前記外側隙間に液体を供給する液体供給源と、を備えている、請求項２に記載の排ガス処理装置。
【請求項４】
前記排ガス処理装置は、前記内筒と前記流路形成壁との間の内側隙間にパージガスを導入するパージガス導入装置を備えており、
前記パージガス導入装置は、前記内筒の上方から前記パージガスを導入するように構成されている、請求項１に記載の排ガス処理装置。
【請求項５】
前記パージガス導入装置は、
前記内筒の上方に配置されたガス導入口に接続されたガス導入ラインと、
前記ガス導入ラインを通じて、前記内側隙間にパージガスを導入するガス導入源と、を備えている、請求項４に記載の排ガス処理装置。
【請求項６】
前記流路形成壁の下端は、前記内筒の端部よりも低い位置に配置されている、請求項１に記載の排ガス処理装置。
【請求項７】
前記流路形成壁の下端は、前記内筒の端部よりも１０ｍｍ以上、低い位置に配置されている、請求項６に記載の排ガス処理装置。
【請求項８】
前記排ガス処理装置は、前記外筒から前記流路形成壁に向かって延び、かつ前記内筒の上方に配置されたプレートを備えている、請求項１に記載の排ガス処理装置。
【請求項９】
前記プレートは、その内端部から前記内筒の端部に向かって延びる突起を有している、請求項８に記載の排ガス処理装置。
【請求項１０】
前記プレートは、耐腐食性を有する材質から構成されている、請求項８に記載の排ガス処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、排ガス処理装置に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
真空ポンプ装置は、半導体、液晶、太陽光パネル、または、ＬＥＤ等の製造設備の一つとして広く使用されている。これらの製造プロセス等においては、真空ポンプを真空チャンバに接続して、真空チャンバ内に導入された処理ガスを真空ポンプによって真空引きする。
【０００３】
真空ポンプによって真空引きする気体には、シランガス（ＳｉＨ
４
）、ジクロロシランガス（ＳｉＨ
２
Ｃｌ
２
）、アンモニア（ＮＨ
３
）などの有害可燃性ガス、または、ＮＦ
３
，ＣｌＦ
３
，ＳＦ
６
，ＣＨＦ
３
，Ｃ
２
Ｆ
６
，ＣＦ
４
等のハロゲン系難分解性ガスが含まれる場合がある。したがって、このような気体をそのまま大気中に放出することができない。
【０００４】
真空ポンプ装置では、真空ポンプの後段に、真空引きしたガスを無害化処理する除害装置（排ガス処理装置の一例）が設けられている。ガスの無害化処理としては、処理ガスを液体と接触させて異物および水溶性成分等を除去する湿式、並びに処理ガスを燃焼させることによる燃焼式などが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２００８－１６１８６１号公報
特開２０１７－２１１１００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１は、筒体の内壁面に対して、旋回するらせん状の水膜を形成する構造を開示している。特許文献１の排ガス処理装置は、水膜を形成することにより、筒体の内壁面を断熱し、生成物や腐食性ガスを洗い流すことにより、筒体の内壁面の損傷を防止する。
【０００７】
しかしながら、水と反応して固形物を生成する物質（例えば、ジクロロシラン）が処理ガスに含まれる場合、固形物が気液界面（すなわち、水膜を形成するための水供給ノズルの周辺における不完全な水膜で濡らされる部分）に付着すると、固形物が成長し、燃焼室を閉塞するおそれがある。処理ガスは、水に溶けると酸性水を生じるハロゲンガスを含む場合がある。この場合、ステンレス鋼などの金属で構成された気液界面は、処理ガスに曝されてしまい、気液界面が短期間で腐食するおそれがある。
【０００８】
特許文献２は、燃焼処理室を囲む筒体の内壁面に、旋回するらせん状の水膜を形成する構造を開示している。特許文献２の排ガス処理装置は、水膜の上端部およびその周辺雰囲気をパージガスで置換することにより、処理ガスの、気液界面との接触を防止する。
【０００９】
しかしながら、燃焼処理室内における処理ガスの旋回流が強いと、水膜の水が撥ねてしまい、撥ねた水と処理ガスが反応することで、固形物が生成されてしまうおそれがある。パージガスの流量が小さいと、気液界面において処理ガスと水が反応し、固形物が生成されてしまうおそれがある。逆に、パージガスの流量が大きすぎると、水膜の水が撥ねてしまい、撥ねた水と処理ガスが反応することで、固形物が生成されてしまうおそれがある。
【００１０】
そこで、本発明は、処理ガスによる悪影響を排除することができる排ガス処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
（【００１１】以降は省略されています）

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