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公開番号2025134181
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-17
出願番号2024031922
出願日2024-03-04
発明の名称基板洗浄装置、基板処理装置、基板洗浄方法、洗浄具の洗浄方法、基板洗浄プログラムおよび洗浄具の洗浄プログラム
出願人株式会社荏原製作所
代理人個人,個人,個人,個人,個人,個人,個人,個人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250909BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】本発明の課題の1つは、基板のベベルをより適切に洗浄することである。
【解決手段】基板を保持して回転させる基板保持回転機構と、前記基板のベベルを洗浄する洗浄具と、前記洗浄具と前記基板のベベルとの接触を検知する接触検知手段と、前記基板が回転している状態で、前記接触が検知されるまで前記洗浄具を前記基板のベベルに向かって移動させる洗浄具移動機構と、を備える基板洗浄装置が提供される。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
基板を保持して回転させる基板保持回転機構と、
前記基板のベベルを洗浄する洗浄具と、
前記洗浄具と前記基板のベベルとの接触を検知する接触検知手段と、
前記基板が回転している状態で、前記接触が検知されるまで前記洗浄具を前記基板のベベルに向かって移動させる洗浄具移動機構と、を備える基板洗浄装置。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記洗浄具移動機構は、前記接触が検知されるまで前記洗浄具を前記基板のベベルに向かって移動させ、前記接触が検知された後、前記洗浄具を前記基板に向かって所定距離だけさらに移動させる、請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄具を回転させる洗浄具回転機構を備え、
前記接触の検知は、前記基板が回転し、前記洗浄具が回転していない状態で行われる、請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記接触検知手段は、回転する前記基板と、回転していない前記洗浄具と、が接触し、前記洗浄具が連れ回りすることに基づいて、前記洗浄具と前記基板のベベルとの接触を検知する、請求項３に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
基板を洗浄する洗浄具と、
前記洗浄具を洗浄する自己洗浄部材と、
前記洗浄具を回転させる洗浄具回転機構と、
前記洗浄具と前記自己洗浄部材との接触を検知する接触検知手段と、
前記洗浄具が回転している状態で、前記接触が検知されるまで前記洗浄具を前記自己洗浄部材に向かって移動させる洗浄具移動機構と、を備える基板洗浄装置。
【請求項６】
前記洗浄具移動機構は、前記接触が検知されるまで前記洗浄具を前記自己洗浄部材に向かって移動させ、前記接触が検知された後、前記洗浄具を前記自己洗浄部材に向かって所定距離だけさらに移動させる、請求項５に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
前記接触検知手段は、前記洗浄具の回転トルクを計測するトルクセンサを有する、請求項１または５に記載の基板洗浄装置。
【請求項８】
前記洗浄具回転機構は、前記洗浄具を回転させるサーボモータを有し、
前記接触検知手段は、前記サーボモータに内蔵され、前記洗浄具の回転トルクを計測するトルクセンサを有する、請求項３または５に記載の基板洗浄装置。
【請求項９】
前記接触検知手段は、前記トルクセンサによって計測された回転トルクと、所定の閾値と、を比較することによって前記接触を検知する検知部を有する、請求項７に記載の基板洗浄装置。
【請求項１０】
基板を研磨する基板研磨装置と、
研磨後の基板を洗浄する請求項１または５に記載の基板洗浄装置と、
洗浄後の基板を乾燥させる乾燥装置と、を備える基板処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板洗浄装置、基板処理装置、基板洗浄方法、洗浄具の洗浄方法、基板洗浄プログラムおよび洗浄具の洗浄プログラムに関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１，２には、基板のベベル（エッジ）を洗浄する装置が開示されている。また、特許文献３には、基板洗浄部材自身を洗浄（セルフ洗浄）する装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２０－８８０００号公報
米国特許第５８６１０６６号
特開２０２０－１５０２７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題の１つは、基板のベベルをより適切に洗浄することである。本発明の課題の別の１つは、基板洗浄具をより適切に洗浄することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
例示として、以下の解決手段が提供される。
【０００６】
［１］
基板を保持して回転させる基板保持回転機構と、
前記基板のベベルを洗浄する洗浄具と、
前記洗浄具と前記基板のベベルとの接触を検知する接触検知手段と、
前記基板が回転している状態で、前記接触が検知されるまで前記洗浄具を前記基板のベベルに向かって移動させる洗浄具移動機構と、を備える基板洗浄装置。
【０００７】
［２］
前記洗浄具移動機構は、前記接触が検知されるまで前記洗浄具を前記基板のベベルに向かって移動させ、前記接触が検知された後、前記洗浄具を前記基板に向かって所定距離だけさらに移動させる、［１］に記載の基板洗浄装置。
【０００８】
［３］
前記洗浄具を回転させる洗浄具回転機構を備え、
前記接触の検知は、前記基板が回転し、前記洗浄具が回転していない状態で行われる、［１］または［２］に記載の基板洗浄装置。
【０００９】
［４］
前記接触検知手段は、回転する前記基板と、回転していない前記洗浄具と、が接触し、前記洗浄具が連れ回りすることに基づいて、前記洗浄具と前記基板のベベルとの接触を検知する、［３］に記載の基板洗浄装置。
【００１０】
［５］
基板を洗浄する洗浄具と、
前記洗浄具を洗浄する自己洗浄部材と、
前記洗浄具を回転させる洗浄具回転機構と、
前記洗浄具と前記自己洗浄部材との接触を検知する接触検知手段と、
前記洗浄具が回転している状態で、前記接触が検知されるまで前記洗浄具を前記自己洗浄部材に向かって移動させる洗浄具移動機構と、を備える基板洗浄装置。
（【００１１】以降は省略されています）

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