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公開番号2025119425
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-14
出願番号2024014307
出願日2024-02-01
発明の名称荷電粒子ビーム描画装置、ショットデータの補正方法及び荷電粒子ビーム描画方法
出願人株式会社ニューフレアテクノロジー
代理人個人,個人
主分類H01L 21/027 20060101AFI20250806BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】ステージ移動によって発生する振動が描画精度に与える影響を低減する。
【解決手段】荷電粒子ビーム描画装置は、荷電粒子ビームを放出する放出部と、描画対象の基板を載置する、移動可能なステージと、予め求められた前記ステージ速度と前記ステージ速度の変化により発生する位置ずれ量との関係を用いて、描画データから生成されたショットデータを補正するショットデータ補正部と、前記補正されたショットデータを用いて、前記基板上に前記荷電粒子ビームを照射し、前記基板の描画領域を所定幅で分割した複数のストライプ領域毎に順次パターンを描画する描画部と、を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
描画対象の基板を載置する、移動可能なステージと、
予め求められた前記ステージ速度と前記ステージ速度の変化により発生する位置ずれ量との関係を用いて、描画データから生成されたショットデータを補正するショットデータ補正部と、
前記補正されたショットデータを用いて、前記基板上に前記荷電粒子ビームを照射し、前記基板の描画領域を所定幅で分割した複数のストライプ領域毎に順次パターンを描画する描画部と、
を備える荷電粒子ビーム描画装置。
続きを表示（約 730 文字）【請求項２】
複数のステージ速度に対応した複数の位置ずれ量データを格納する記憶装置をさらに備え、
前記ショットデータ補正部は、前記基板にビームを照射する際のステージ速度に対応する位置ずれ量データを前記記憶装置から読み出し、前記ショットデータを補正する、請求項１に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項３】
複数のステージ速度を変数とした関数を格納する記憶装置をさらに備え、
前記ショットデータ補正部は、前記記憶装置から読み出した関数を用いて、前記基板にビームを照射する際のステージ速度に対応する位置ずれ量データを求め、前記ショットデータを補正する、請求項１に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項４】
移動するステージ上に載置された基板に荷電粒子ビームを照射してパターンを描画するためのショットデータの補正方法であって、
描画データから前記ショットデータを生成する工程と、
予め求められた前記ステージ速度と前記ステージ速度の変化により発生する位置ずれ量との関係を用いて、前記ステージ速度が変化した際に照射されるビームに対応する前記ショットデータを補正する工程と、
を備えるショットデータの補正方法。
【請求項５】
請求項４に記載のショットデータの補正方法により補正された前記ショットデータを用いて、所定方向に移動している前記ステージに載置された前記基板上に前記荷電粒子ビームを照射し、順次パターンを描画する、荷電粒子ビーム描画方法。
【請求項６】
前記荷電粒子ビームは、複数の個別ビームを含むマルチビームである、請求項５に記載の荷電粒子ビーム描画方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、荷電粒子ビーム描画装置、ショットデータの補正方法及び荷電粒子ビーム描画方法に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、縮小投影型露光装置を用いて、石英上に形成された高精度の原画パターン（マスク、或いは特にステッパやスキャナで用いられるものはレチクルともいう。）をウェーハ上に縮小転写する手法が採用されている。高精度の原画パターンは、電子ビーム描画装置によって描画され、所謂、電子ビームリソグラフィ技術が用いられている。
【０００３】
電子ビーム描画装置では、ステージ位置を測定しながら、移動するステージ上の基板にパターンを描画する。ステージの移動により発生した振動が描画精度を劣化させるため、従来、除振台による制振制御が行われていたが、機械的な振動特性の制約があり、効果的に制振できないことがあった。例えば、鏡筒のような細長い構造物において、構造物が曲がるようなモードの振動が励起されると、除振台ではほとんど検知できなかった。
【０００４】
引用文献１には、鏡筒にセンサを取り付け、センサ信号を解析し、ビームずれ量を計算して補正を行うことが記載されている。しかし、センサが持つノイズの影響を常に受けることになり、ビームずれ量を十分に補正できなかった。また、センサ信号やノイズの処理を行うためのシステムを、センサの種類や数に応じて設置する必要があり、コストがかかるという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開平９－２４６１３４号公報
特開平１１－１６８１５号公報
特開平６－１６３３７４号公報
特開２０１２－１９１０８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記従来の実状に鑑みてなされたものであり、ステージ移動によって発生する振動が描画精度に与える影響を低減できる荷電粒子ビーム描画装置、ショットデータの補正方法及び荷電粒子ビーム描画方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様による荷電粒子ビーム描画装置は、荷電粒子ビームを放出する放出部と、描画データからショットデータを生成するショットデータ生成部と、描画対象の基板を載置する、移動可能なステージと、前記ステージの移動により発生する機械振動に起因する前記基板におけるビーム照射位置の位置ずれ量を示す位置ずれ量データを格納する記憶装置と、前記位置ずれ量データに基づく位置ずれ量が補正されるように前記ショットデータを補正するショットデータ補正部と、前記補正されたショットデータを用いて、所定方向に移動している前記ステージに載置された前記基板上にビームを照射し、パターンを描画する描画部と、を備える。前記描画部は、前記基板の描画領域を所定幅で分割した複数のストライプ領域毎に順次パターンを描画する。前記ショットデータ補正部は、少なくとも各ストライプ領域の先頭箇所に照射されるビームに対応する前記ショットデータを補正する。
【０００８】
本発明の一態様によるショットデータの補正方法は、移動するステージ上に載置された基板に荷電粒子ビームを照射してパターンを描画するためのショットデータの補正方法であって、描画データから前記ショットデータを生成する工程と、予め求められた前記ステージ速度と前記ステージ速度の変化により発生する位置ずれ量との関係を用いて、前記ステージ速度が変化した際に照射されるビームに対応する前記ショットデータを補正する工程と、を備えるものである。
【０００９】
本発明の一態様による荷電粒子ビーム描画方法は、上記のショットデータの補正方法により補正された前記ショットデータを用いて、所定方向に移動している前記ステージに載置された前記基板上に前記荷電粒子ビームを照射し、順次パターンを描画するものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ステージ移動によって発生する振動が描画精度に与える影響を低減できる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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