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公開番号2025122681
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-22
出願番号2024018237
出願日2024-02-09
発明の名称フォトマスク修正のドリフト補正装置およびフォトマスク修正のドリフト補正方法
出願人株式会社ホロン
代理人個人
主分類G03F 1/74 20120101AFI20250815BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【目的】本発明は、フォトマスク修正のドリフト補正装置およびフォトマスク修正のドリフト補正方法に関し、フォトマスク上の欠陥のある修正対象について、修正対象のSEM画像をもとに当該修正対象のドリフト補正を自動的に行うことを目的とする。
【構成】ノズルと、ステージと、SEM画像取得手段と、フォトマスクの上のパターンの欠陥のある修正対象に、ノズルからガスを噴射しかつ電子照射し、所定時間経過後にガス噴射を停止しかつ電子照射する、ことを繰り返すフォトマスク修正手段と、ガス噴射を停止しかつ電子照射するときに、SEM画像取得手段によりSEM画像を取得し、取得した複数のSEM画像を比較してドリフト量を算出するドリフト算出手段と、算出したドリフト量をもとに、電子照射する位置を補正あるいはステージの位置を補正する補正手段と
を備え、フォトマスクの欠陥のある修正対象のドリフト補正する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
フォトマスクの欠陥を修正するときのドリフト補正するドリフト補正装置において、
フォトマスクの表面にガスを吹き付けるノズルと、
前記ノズルに対向して前記フォトマスクを保持するステージと、
前記フォトマスクに細く絞って電子照射しつつ走査して放出される電子を検出・増幅してＳＥＭ画像を取得するＳＥＭ画像取得手段と、
前記フォトマスクの上のパターンの欠陥のある修正対象に、前記ノズルからガスを噴射しかつ前記電子照射し、所定時間経過後に前記ガス噴射を停止しかつ前記電子照射する、ことを繰り返すフォトマスク修正手段と、
前記ガス噴射を停止しかつ前記電子照射するときに、前記ＳＥＭ画像取得手段によりＳＥＭ画像を取得し、取得した複数のＳＥＭ画像を比較してドリフト量を算出するドリフト算出手段と、
前記算出したドリフト量をもとに、前記電子照射する位置を補正あるいは前記ステージの位置を補正する補正手段と
を備え、
フォトマスクの欠陥のある修正対象のドリフト補正することを特徴とするフォトマスク修正のドリフト補正装置。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記ノズルからガスを噴射しかつ前記電子照射のうちの電子照射、および所定時間経過後に前記ガス噴射を停止しかつ前記電子照射のうちの電子照射は、同一の前記修正対象への照射とすることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスク修正のドリフト補正装置。
【請求項３】
前記ガスは、前記修正対象をエッチングするガス、あるいは前記修正対象をデポジションするガスとしたことを特徴とする請求項１から請求項２のいずれかに記載のフォトマスク修正のドリフト補正装置。
【請求項４】
前記エッチングするガスあるいは前記デポジションするガスの影響を除去するガスを噴射したことを特徴とする請求項３に記載のフォトマスク修正のドリフト補正装置。
【請求項５】
前記修正対象のチャージを中和するガスを噴射したことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載のフォトマスク修正のドリフト補正装置。
【請求項６】
前記算出したドリフト量が所定閾値以上のときに、前記電子照射する位置を補正あるいは前記ステージの位置を補正することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載のフォトマスク修正のドリフト補正装置。
【請求項７】
フォトマスクの欠陥を修正するときのドリフト補正するドリフト補正方法において、
フォトマスクの表面にガスを吹き付けるノズルと、
前記ノズルに対向して前記フォトマスクを保持するステージと
を設け、
前記フォトマスクに細く絞って電子照射しつつ走査して放出される２次電子を検出・増幅してＳＥＭ画像を取得するＳＥＭ画像取得ステップと、
前記フォトマスクの上のパターンの欠陥のある修正対象に、前記ノズルからガスを噴射しかつ前記電子照射し、所定時間経過後に前記ガス噴射を停止しかつ前記電子照射する、ことを繰り返すフォトマスク修正ステップと、
前記ガス噴射を停止しかつ前記電子照射するときに、前記ＳＥＭ画像取得ステップによりＳＥＭ画像を取得し、取得した複数のＳＥＭ画像を比較してドリフト量を算出するドリフト算出ステップと、
前記算出したドリフト量をもとに、前記電子照射する位置を補正あるいは前記ステージの位置を補正する補正ステップと
を有し、
フォトマスクの欠陥のある修正対象のドリフト補正することを特徴とするフォトマスク修正のドリフト補正方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスクの欠陥を修正する際のドリフト補正装置およびドリフト補正方法に関するものである。
続きを表示（約 910 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、マスク修正を行う際には、後述する図１３の（ａ）に示す、フォトマスク位置のドリフトを補正するためのドリフト補正マーク７４を必要とした。マスク修正装置には電子ビームコラム、ＸＹステージがあるが、これらは電子ビーム照射による帯電現象やガス供給システムからの熱あるいはステージモーターが発生する熱によって熱膨張をするため位置ドリフトする性質を持っている。
【０００３】
１つの欠陥を修正するために必要とされるマスク修正時間は短いもので数分、長いものでは数十分にも及ぶ。最先端フォトマスクの最小線幅は数十ｎｍと非常に狭い。ミクロンオーダーのドリフトであれば、装置を構成する材料や帯電を起こしにくい工夫をすることで避けることが出来た。
【０００４】
しかしながら、最先端のフォトマスク修正に求められる数ｎｍの位置精度を実現するためには、上記の手法だけでは不足であり、修正途中に修正対象の画像観察を行い、ドリフト補正を行って所望の位置だけが確実に修正されるようにする必要があった。
【０００５】
従来のマスク修正装置においては、例えばエッチングを行う際にはエッチングガスであるフッ化キセノンガスをずっとフォトマスク上に流し続け、エッチングプロセスを行うと共に、ドリフト補正マークをその状態で観察し補正を行っていた。
【０００６】
ドリフト補正マークは画像観察時にエッチングを受けるため、エッチング最中に変形を起こす。フッ化キセノンガスではエッチングされにくい材料を選択してドリフト補正マークとして利用する。
【０００７】
以下に図１３の従来技術の説明図を簡単に説明する。
【０００８】
図１３は、従来技術の説明図を示す。
【０００９】
図１３の（ａ）は、フォトマスク上の欠陥のある修正対象７１およびドリフト補正マーク７４を設けた例を示す。
【００１０】
図１３の（ａ）において、修正対象７１は、欠陥のある修正対象である。
（【００１１】以降は省略されています）

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