特許ウォッチ

公開番号2025124560
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-26
出願番号2024020724
出願日2024-02-14
発明の名称有機化合物分解装置
出願人株式会社イノアックコーポレーション
代理人個人,個人
主分類B01J 19/24 20060101AFI20250819BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】有機化合物の分解を促進するための技術の開発が求められている。
【解決手段】発明の一態様は、供給されてきた空気中の酸素から活性酸素を生成する活性酸素生成装置と、前記活性酸素により有機化合物が分解される反応器と、前記活性酸素生成装置に配管で接続され、前記活性酸素生成装置へと供給される空気を冷却する冷却装置と、を備える有機化合物分解装置である。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
供給されてきた空気中の酸素から活性酸素を生成する活性酸素生成装置と、
前記活性酸素により有機化合物が分解される反応器と、
前記活性酸素生成装置に配管で接続され、前記活性酸素生成装置へと供給される空気を冷却する冷却装置と、を備える有機化合物分解装置。
続きを表示（約 290 文字）【請求項２】
前記冷却装置へ圧縮空気を供給する空気供給装置を備え、
前記冷却装置は、ボルテックスチューブを備える請求項１に記載の有機化合物分解装置。
【請求項３】
前記冷却装置から前記活性酸素生成装置への空気の供給路に、拡張室を備える請求項２に記載の有機化合物分解装置。
【請求項４】
前記反応器内の前記有機化合物を加熱する加熱装置を備える請求項１から３の何れか一項に記載の有機化合物分解装置。
【請求項５】
前記活性酸素生成装置は、コロナ放電により酸素分子に電子を付与する装置である請求項４に記載の有機化合物分解装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、有機化合物分解装置に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
有機化合物を活性酸素により分解する有機化合物分解装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００７－１１７９４６（段落［００２８］、［００２９］等）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
有機化合物の分解を促進するための技術の開発が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
発明の一態様は、供給されてきた空気中の酸素から活性酸素を生成する活性酸素生成装置と、前記活性酸素により有機化合物が分解される反応器と、前記活性酸素生成装置に配管で接続され、前記活性酸素生成装置へと供給される空気を冷却する冷却装置と、を備える有機化合物分解装置である。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
有機化合物分解装置の概略図
冷却装置の断面図
【発明を実施するための形態】
【０００７】
［第１実施形態］
図１には、第１実施形態に係る有機化合物分解装置１０（以下、適宜、「分解装置１０」と呼ぶ。）が示されている。分解装置１０は、有機化合物８０を活性酸素を使用して分解する。分解装置１０には、空気中の酸素から活性酸素を生成する活性酸素生成装置２０と、分解される有機化合物８０が収容される反応器３０が備えられている。なお、有機化合物８０は、活性酸素で分解可能なものであれば特に限定されるものではなく、例えば、合成樹脂等の樹脂製のものであってもよいし、生ごみであってもよい。
【０００８】
本実施形態の分解装置１０の例では、活性酸素生成装置２０に空気を供給する空気供給装置１１が備えられている。空気供給装置１１からの空気は、空気供給路１２を通って活性酸素生成装置２０へと供給される。本実施形態の例では、空気供給装置１１として、圧縮空気を供給するコンプレッサが設けられている。なお、空気供給装置１１は、圧縮していない空気を供給するものであってもよい。
【０００９】
本実施形態の例では、分解装置１０には、反応器３０内の有機化合物８０を加熱する加熱装置４０が備えられている。加熱装置４０の加熱により、有機化合物の分解を促進することができる。例えば、反応器３０は、有機化合物８０が載置されるステージ３１（例えば、反応器３０の互いに対向する内壁に差し渡された板状部材）を備え、ステージ３１が加熱装置４０（ヒーター等）によって加熱される構成であってもよい。なお、例えば、ステージ３１上にセラミック灰等を下敷きとして敷いて、その上に有機化合物８０を配置してもよい。この構成では、加熱装置４０でセラミック灰を加熱することで、有機化合物８０を加熱してもよい。
【００１０】
本実施形態の分解装置１０では、加熱装置４０による加熱は、有機化合物８０を発火温度より低い温度の範囲で加熱するものであり、有機化合物８０を発火温度より１０～５０℃低い温度で加熱することが好ましい。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許