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公開番号2025126437
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-29
出願番号2024022622
出願日2024-02-19
発明の名称測定装置および測定方法
出願人横河電機株式会社
代理人弁理士法人RYUKA国際特許事務所
主分類G01N 21/59 20060101AFI20250822BHJP(測定;試験)
要約【解決手段】主インレットおよび主アウトレットを有する流路と、流路の主インレットにラジカル前駆体を含む流体を供給するポンプと、流路のラジカル発生領域においてラジカル前駆体からラジカルを発生させるラジカル発生部と、流路におけるラジカル発生領域よりも主アウトレット側の少なくとも1つの測定位置において、ラジカルの濃度に応じた測定値を測定する測定部とを備える測定装置を提供する。上記の測定装置において、ラジカル発生部は、ラジカル前駆体を含む流体に対して、電圧、熱、光、または電子線のうちの少なくとも1つを印加することによってラジカルを発生させてよい。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
主インレットおよび主アウトレットを有する流路と、
前記流路の前記主インレットにラジカル前駆体を含む流体を供給するポンプと、
前記流路のラジカル発生領域において前記ラジカル前駆体からラジカルを発生させるラジカル発生部と、
前記流路における前記ラジカル発生領域よりも前記主アウトレット側の少なくとも１つの測定位置において、前記ラジカルの濃度に応じた測定値を測定する測定部と
を備える測定装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記ラジカル発生部は、前記ラジカル前駆体を含む前記流体に対して、電圧、熱、光、または電子線のうちの少なくとも１つを印加することによって前記ラジカルを発生させる請求項１に記載の測定装置。
【請求項３】
前記流路は、第１副インレットを有し、
前記ラジカル発生部は、前記第１副インレットに酸化剤を供給することにより前記ラジカル前駆体から前記ラジカルを発生させる
請求項１に記載の測定装置。
【請求項４】
前記流路は、前記ラジカル発生領域および前記少なくとも１つの測定位置の間で前記流路に接続され、前記流体中の前記ラジカルと反応する他の流体を前記流路内に導入するための第２副インレットを有する請求項１に記載の測定装置。
【請求項５】
前記測定部は、
前記少なくとも１つの測定位置において、前記流体に検査光を照射する検査光照射部と、
前記流路の前記少なくとも１つの測定位置において、前記流体を透過した前記検査光を検出する検出器と
を有する請求項１に記載の測定装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つの測定位置は、複数の測定位置を含み、
前記測定部は、前記複数の測定位置のそれぞれに応じた前記ラジカルの発生からの経過時間毎の前記測定値を測定する
請求項１に記載の測定装置。
【請求項７】
前記ポンプは、前記流路における前記流体の流速を変化させ、
前記測定部は、互いに異なる複数の流速のそれぞれに応じた前記ラジカルの発生からの経過時間毎の前記測定値を測定する
請求項１に記載の測定装置。
【請求項８】
前記ラジカルの発生からの経過時間毎の前記測定値を用いて、前記ラジカルの寿命を算出する算出部を更に備える請求項６または７に記載の測定装置。
【請求項９】
前記流路における前記ラジカル発生領域および前記少なくとも１つの測定位置の間において、前記流体に励起光を照射する励起光照射部を備える請求項１に記載の測定装置。
【請求項１０】
主インレットおよび主アウトレットを有する流路の前記主インレットにラジカル前駆体を含む流体を供給することと、
前記流路のラジカル発生領域において前記ラジカル前駆体からラジカルを発生させることと、
前記流路における前記ラジカル発生領域よりも前記主アウトレット側の少なくとも１つの測定位置において、前記ラジカルの濃度に応じた測定値を測定することと
を備える測定方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、測定装置および測定方法に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、「パルス光を照射して光励起した試料に、プローブ光を照射し、前記プローブ光の強度変化をストリークカメラで検出することにより、過渡吸収スペクトルまたはその変化を観察する装置」（請求項１）が記載されている。
【０００３】
特許文献２には、「本発明は、物質の過渡吸収を測定する装置であって、物質を励起する励起光を発する励起光源と、前記励起光により励起された物質を含む試料に向けて定常光であるプローブ光を発するプローブ光源と、前記試料を透過した透過プローブ光を分光し出力光として出力する分光手段と、前記出力光を検出する光検出手段と、を有し、前記光検出手段はアバランシェフォトダイオード（ＡＰＤ）を有する。」（段落００１０）と記載されている。
【０００４】
特許文献３には、「幾つかの実施形態に係る光学測定装置は、移動する試料の移動経路上の一の第１照射領域に励起光を照射する第１照射部と、前記移動経路上で前記一の第１照射領域よりも前記試料の移動方向側に位置する第２照射領域にプローブ光を照射する第２照射部と、前記第２照射部によって前記試料に照射された前記プローブ光を検出する検出部と、前記励起光による励起によって生じる前記試料の光学パラメータの過渡応答において互いに異なる複数の時点の各々にある前記試料を透過して、前記検出部により異なるタイミングで検出された前記プローブ光の検出強度に基づき、前記複数の時点での前記光学パラメータを算出し、算出された前記光学パラメータに基づいて前記試料の物性パラメータを算出する制御部と、を備える。」（段落０００７）と記載されている。
【０００５】
特許文献４には、「図１は、ガスストリーム内のラジカルの濃度を検出するのに有用なガスサンプリング検出システムの実施形態を示している。図示のように、ガスサンプリング検出システム１０は、少なくとも１つのガス通路１４を通して少なくとも１つの処理チャンバ１６と流体連通する少なくとも１つのプラズマ発生器及び／又はラジカルガス発生器１２を含む。」（段落００１５）および「図１に示すように、少なくとも１つのサンプリングモジュール３２は、少なくとも１つのサンプリング導管３０を通してラジカルガス発生器１２と流体連通することができる。」（段落００１９）と記載されている。
［先行技術文献］
［特許文献］
［特許文献１］特公平６－１７８６６号公報
［特許文献２］特開２００７－２１２１４５号公報
［特許文献３］特許第７２９８７４６号公報
［特許文献４］特表２０２１－５１７６３８号公報
【発明の概要】
【０００６】
本発明の第１の態様においては、主インレットおよび主アウトレットを有する流路と、前記流路の前記主インレットにラジカル前駆体を含む流体を供給するポンプと、前記流路のラジカル発生領域において前記ラジカル前駆体からラジカルを発生させるラジカル発生部と、前記流路における前記ラジカル発生領域よりも前記主アウトレット側の少なくとも１つの測定位置において、前記ラジカルの濃度に応じた測定値を測定する測定部とを備える測定装置を提供する。
【０００７】
上記の測定装置において、前記ラジカル発生部は、前記ラジカル前駆体を含む前記流体に対して、電圧、熱、光、または電子線のうちの少なくとも１つを印加することによって前記ラジカルを発生させてよい。
【０００８】
上記のいずれかの測定装置において、前記流路は、第１副インレットを有し、前記ラジカル発生部は、前記第１副インレットに酸化剤を供給することにより前記ラジカル前駆体から前記ラジカルを発生させてよい。
【０００９】
上記のいずれかの測定装置において、前記流路は、前記ラジカル発生領域および前記少なくとも１つの測定位置の間で前記流路に接続され、前記流体中の前記ラジカルと反応する他の流体を前記流路内に導入するための第２副インレットを有してよい。
【００１０】
上記のいずれかの測定装置において、前記測定部は、前記少なくとも１つの測定位置において、前記流体に検査光を照射する検査光照射部と、前記流路の前記少なくとも１つの測定位置において、前記流体を透過した前記検査光を検出する検出器とを有してよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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