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公開番号2025127568
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-02
出願番号2024024336
出願日2024-02-21
発明の名称光電子集積回路
出願人国立研究開発法人産業技術総合研究所,京セラ株式会社
代理人個人
主分類G02B 6/12 20060101AFI20250826BHJP(光学)
要約【課題】電気配線を有する層の形成プロセス及び光配線を有する層の形成プロセスを分離する。
【解決手段】光電子集積回路10は、フォトニック集積回路200(PIC200)と、PIC200に電気的に接続された電気再配線層310(ERDL310)を有するインターポーザ300と、PIC200に光学的に結合された光再配線層510(ORDL510)を有するポリマー導波路層500と、を備えている。インターポーザ300及びポリマー導波路層500は、別体である。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
フォトニック素子と、
前記フォトニック素子に電気的に接続された電気配線を有する第１層と、
前記フォトニック素子に光学的に結合された光配線を有する第２層と、
を備え、
前記第１層及び前記第２層は、別体である、光電子集積回路。
続きを表示（約 650 文字）【請求項２】
前記フォトニック素子の前記第１層と重なる部分と、前記フォトニック素子の前記第２層と重なる部分と、が互いにずれて位置している、請求項１に記載の光電子集積回路。
【請求項３】
前記第１層及び前記第２層は、少なくとも部分的に互いに重なっている、請求項１に記載の光電子集積回路。
【請求項４】
前記第１層は、インターポーザを有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の光電子集積回路。
【請求項５】
前記インターポーザは、有機インターポーザである、請求項４に記載の光電子集積回路。
【請求項６】
前記光配線と少なくとも部分的に重なる反射防止膜をさらに備える、請求項１～３のいずれか一項に記載の光電子集積回路。
【請求項７】
前記第１層の厚さが５０μｍ以上５００μｍ以下である、請求項１～３のいずれか一項に記載の光電子集積回路。
【請求項８】
前記第２層の厚さが前記第１層の厚さ未満である、請求項１～３のいずれか一項に記載の光電子集積回路。
【請求項９】
前記フォトニック素子及び前記第１層は、少なくとも部分的に互いに重なっていない、請求項１～３のいずれか一項に記載の光電子集積回路。
【請求項１０】
前記第１層及び前記第２層の少なくとも一方は、前記フォトニック素子に熱的に結合された放熱経路を有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の光電子集積回路。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光電子集積回路に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、伝送損失の低減及び高密度実装の観点から、半導体パッケージに代えて、光電子集積回路が開発されている。光電子集積回路は、フォトニック集積回路（ＰＩＣ）を備えている。
【０００３】
特許文献１には、光電子集積回路について記載されている。光電子集積回路は、回路基板と、回路基板に埋め込まれた半導体チップと、半導体チップに電気的に接続された導電性経路と、半導体チップに光学的に結合された導波路と、を備えている。導電性経路及び導波路は、回路基板及び半導体チップを覆う絶縁層内で延在している。
【０００４】
特許文献２には、光半導体モジュールについて記載されている。光半導体モジュールは、電気配線層と、電気配線層の上に形成された光配線層と、光配線層の上に形成された電気素子と、光配線層の上に形成された光学素子と、を備えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
国際公開第２０１８／１９８４９０号
国際公開第２０２２／０３０００１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
光電子集積回路では、特許文献１に記載されているように、同一層が電気配線及び光配線を有していたり、特許文献２に記載されているように、電気配線を有する層及び光配線を有する層が互いに積層されていたりすることがある。しかしながら、同一層が電気配線及び光配線を有していたり、電気配線を有する層及び光配線を有する層が互いに積層されていたりすることで、電気配線を有する層の形成プロセス及び光配線を有する層の形成プロセスの分離が難しくなることがある。
【０００７】
本発明の目的の一例は、電気配線を有する層の形成プロセス及び光配線を有する層の形成プロセスを分離することにある。本発明の他の目的は、本明細書の記載から明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様は、フォトニック素子と、前記フォトニック素子に電気的に接続された電気配線を有する第１層と、前記フォトニック素子に光学的に結合された光配線を有する第２層と、を備え、前記第１層及び前記第２層は、別体である、光電子集積回路である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の上記態様によれば、電気配線を有する層の形成プロセス及び光配線を有する層の形成プロセスを分離することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
実施形態に係る光電子集積回路の平面図である。
図１の一点鎖線で囲まれた領域αの拡大平面図である。
図２のＡ－Ａ断面図である。
変形例１に係る光電子集積回路の断面図である。
変形例２に係る光電子集積回路の拡大平面図である。
図５のＢ－Ｂ断面図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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