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公開番号2025129944
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-05
出願番号2024026936
出願日2024-02-26
発明の名称基板処理装置及びリフトピン昇降機構の配置方法
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人個人,個人
主分類H01L 21/683 20060101AFI20250829BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】リフトピン昇降機構の破損を防止する。
【解決手段】基板処理装置は、内部に基板を収容する処理容器と、処理容器の底部に配置される載置台と、複数のリフトピン昇降機構とを備え、載置台は平板状の基材を有し、基材の上面には基板が載置され、各リフトピン昇降機構は、上下方向に移動自在なリフトピンと、リフトピンの上下方向の移動をガイドするリフトピンガイド部とを有し、基材の下方に配置され、リフトピンを基材の上面から突出させることによって基板を基材から持ち上げ、各リフトピン昇降機構のリフトピンガイド部は処理容器の底部に配置された支持部材によって支持され、支持部材とリフトピンガイド部の間には、リフトピンガイド部の支持部材に対する水平方向のずれを許容する滑り機構が配置され、各リフトピンガイド部のピンホルダブロックの上端が基材と係合する。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
内部に基板を収容する処理容器と、前記処理容器の底部に配置される載置台と、複数のリフトピン昇降機構とを備える基板処理装置であって、
前記載置台は平板状の基材を有し、
前記基材の上面には前記基板が載置され、
各前記リフトピン昇降機構は、上下方向に移動自在なリフトピンと、前記リフトピンの上下方向の移動をガイドするリフトピンガイド部とを有し、前記基材の下方に配置され、前記リフトピンを前記基材の上面から突出させることによって前記基板を前記基材から持ち上げ、
各前記リフトピン昇降機構の前記リフトピンガイド部は前記処理容器の底部に配置された支持部材によって支持され、
前記支持部材と前記リフトピンガイド部の間には、前記リフトピンガイド部の前記支持部材に対する水平方向のずれを許容する滑り機構が配置され、
各前記リフトピンガイド部の少なくとも一部が前記基材と係合する、基板処理装置。
続きを表示（約 1,800 文字）【請求項２】
各前記リフトピンガイド部は水平方向に展伸するフランジ部を有し、該フランジ部は前記基材の下面に当接し、
各前記リフトピンガイド部は、前記フランジ部に作用する前記処理容器の内外の圧力差に起因する吸着力によって前記基材に吸着する、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
各前記リフトピンガイド部は上下方向に延伸する略円筒状のホルダ部を有し、
前記ホルダ部は前記リフトピンを収容し、
前記フランジ部は前記ホルダ部の一端に形成され、
前記フランジ部と前記基材の間には円環状の封止部材が配置され、該封止部材は、前記ホルダ部の内部を前記ホルダ部の外部から封止する、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
各前記リフトピン昇降機構は前記リフトピンを上下方向に駆動する駆動部をさらに有し、
前記ホルダ部の他端には水平方向に展伸する他のフランジ部が形成され、
前記他のフランジ部の下方には前記駆動部が配置され、
前記他のフランジ部と前記駆動部の間に配置された他の封止部材を含む封止構造にて、前記ホルダ部の内部を前記ホルダ部の外部から封止する、請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記滑り機構は、水平方向に展伸し、且つ円滑面を有する板部材を少なくとも１つ有する、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項６】
各前記リフトピンガイド部は上下方向に延伸する略円筒状のホルダ部を有し、
前記ホルダ部は前記リフトピンを収容し、
前記板部材はワッシャであり、
前記滑り機構は２つの前記ワッシャを有し、
２つの前記ワッシャはそれぞれの前記円滑面が互いに当接するように上下に重ねて配置され、
前記ホルダ部は２つの前記ワッシャを挿通するように配置され、
２つの前記ワッシャは前記支持部材と前記ホルダ部の間に配置され、
前記支持部材側に配置された前記ワッシャの内径は、前記ホルダ部側に配置された前記ワッシャの内径よりも大きい、請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記円滑面の摩擦係数は０．２以下である、請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項８】
各前記リフトピンガイド部は、上下方向に延伸する略円筒状の外側ホルダ部と、該外側ホルダ部に内包されるように前記外側ホルダ部と同軸に配置された略円筒状の内側ホルダ部とを有し、
前記内側ホルダ部は、前記リフトピンを収容するとともにその一部が前記基材と係合し、
円筒状のガイド部が、前記外側ホルダ部の内壁と前記内側ホルダ部の外壁の間の隙間を埋めるように配置され、
前記基材の水平方向の移動が、前記内側ホルダ部及び前記ガイド部を介して前記外側ホルダ部へ伝達される、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項９】
各前記リフトピンガイド部は、上下方向に延伸する略円筒状のホルダ部と、前記基材及び前記ホルダ部と係合するガイド部とを有し、
前記ホルダ部は前記リフトピンを収容し、
前記基材の水平方向の移動が、前記ガイド部を介して前記ホルダ部へ伝達される、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
内部に基板を収容する処理容器と、前記処理容器の底部に配置される載置台と、複数のリフトピン昇降機構とを備え、前記載置台は平板状の基材を有し、前記基材の上面には前記基板が載置され、各前記リフトピン昇降機構は、上下方向に移動自在なリフトピンと、前記リフトピンの上下方向の移動をガイドするリフトピンガイド部とを有し、且つ前記リフトピンを前記基材の上面から突出させることによって前記基板を前記基材から持ち上げる基板処理装置におけるリフトピン昇降機構の配置方法であって、
各前記リフトピン昇降機構を前記基材の下方に配置し、
各前記リフトピン昇降機構の前記リフトピンガイド部を前記処理容器の底部に配置された支持部材によって支持し、
前記支持部材と前記リフトピンガイド部の間に、前記リフトピンガイド部の前記支持部材に対する水平方向のずれを許容する滑り機構を配置し、
各前記リフトピンガイド部の少なくとも一部を前記基材と係合させる、リフトピン昇降機構の配置方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、基板処理装置及びリフトピン昇降機構の配置方法に関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
例えば、ＦＰＤ（Flat Panel Display）用のガラス基板（以下、単に「基板」という）にプラズマ処理、例えば、プラズマエッチング処理を行う基板処理装置では、処理容器の底部に配置された載置台に基板が載置される。載置台には、その表面に対して突出自在なリフトピンを有するリフトピン昇降機構が複数配置され、プラズマ処理を施す基板を搬送アームによって取り替える際、載置台の表面から各リフトピンが突出して基板を持ち上げる。各リフトピン昇降機構は、リフトピンをガイドするガイド部とリフトピンを上下方向に駆動する駆動部とを有するが、ガイド部は支持部材によって処理容器の底部から支持される（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１８－６３７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示に係る技術は、リフトピン昇降機構の破損を防止する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示に係る技術の一態様は、内部に基板を収容する処理容器と、前記処理容器の底部に配置される載置台と、複数のリフトピン昇降機構とを備える基板処理装置であって、前記載置台は平板状の基材を有し、前記基材の上面には前記基板が載置され、各前記リフトピン昇降機構は、上下方向に移動自在なリフトピンと、前記リフトピンの上下方向の移動をガイドするリフトピンガイド部とを有し、前記基材の下方に配置され、前記リフトピンを前記基材の上面から突出させることによって前記基板を前記基材から持ち上げ、各前記リフトピン昇降機構の前記リフトピンガイド部は前記処理容器の底部に配置された支持部材によって支持され、前記支持部材と前記リフトピンガイド部の間には、前記リフトピンガイド部の前記支持部材に対する水平方向のずれを許容する滑り機構が配置され、各前記リフトピンガイド部の少なくとも一部が前記基材と係合する。
【発明の効果】
【０００６】
本開示に係る技術によれば、リフトピン昇降機構の破損を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
本開示に係る技術の第１の実施の形態に係る基板処理装置の構成を概略的に示す断面図である。
第１の実施の形態におけるリフトピン昇降機構の詳細な構成を示す断面図である。
駆動部がリフトピンを上方向へ駆動した場合の第１の実施の形態におけるリフトピン昇降機構の断面図である。
本開示に係る技術の第２の実施の形態におけるリフトピン昇降機構の詳細な構成を示す断面図である。
駆動部がリフトピンを上方向へ駆動した場合の第２の実施の形態におけるリフトピン昇降機構の断面図である。
処理容器側から熱が伝達される場合のリフトピン昇降機構の温度の応答性を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
ところで、載置台には電極として機能する、金属、例えば、アルミからなる基材が水平方向に展伸されるように配置され、各リフトピンは基材を厚さ方向に貫通するピン孔に挿通される。一方、プラズマ処理では基板の温度を調整するために載置台の基材の温度が制御されるため、基材と処理容器の底部の温度が異なる場合がある。この場合、基材と処理容器の底部の水平方向に関する熱膨張量に差が生じ、処理容器の底部に支持されるガイド部の水平方向に関する移動量と、基材のピン孔の水平方向に関する移動量とが異なることとなる。その結果、ガイド部にガイドされるリフトピンがピン孔の側面へ衝突して破損するおそれがある。
【０００９】
そこで、ガイド部や駆動部を載置台の基材から吊り下げてガイド部や駆動部を基材の熱膨張時の水平方向に関する移動に追従させる構成が提案されている。このとき、ガイド部の先端が基材に取り付けられ、駆動部はガイド部を介して基材から吊り下げられる。したがって、ガイド部の先端にはガイド部や駆動部の荷重が集中するが、特に、駆動部はモータ等の重量物を含むため、ガイド部の先端が過荷重によって破損するおそれがある。
【００１０】
これに対して、本開示に係る技術では、リフトピン昇降機構のリフトピンガイド部を処理容器の底部に配置された支持部材によって支持するとともに、支持部材に対するリフトピン昇降機構のリフトピンガイド部の水平方向のずれを許容する滑り構造を設ける。
（【００１１】以降は省略されています）

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