TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025152623
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-10
出願番号2024054600
出願日2024-03-28
発明の名称精製ガスの製造方法
出願人三菱ケミカル株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類B01D 53/22 20060101AFI20251002BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】混合ガス膜分離において、スイープガスを使用したとしても、該スイープガスが透過側から非透過側に向かって透過することを抑止し、高純度の成分をガスとして得ることを可能とする、精製ガスの製造方法を提供する。
【解決手段】二酸化炭素を含む混合ガスを分離膜に供給し、二酸化炭素を分離膜に透過させることにより、分離する精製ガスの製造方法であって、前記分離膜がゼオライト膜であり、前記分離膜の透過側を窒素または空気にてスイープする、精製ガスの製造方法。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
二酸化炭素を含む混合ガスを分離膜に供給し、二酸化炭素を分離膜に透過させることにより、分離する精製ガスの製造方法であって、
前記分離膜がゼオライト膜であり、
前記分離膜の透過側を窒素または空気にてスイープする、
精製ガスの製造方法。
続きを表示(約 370 文字)【請求項2】
前記ゼオライト膜を構成するゼオライトが酸素8員環以下の細孔構造を有する、請求項1に記載の精製ガスの製造方法。
【請求項3】
前記ゼオライト膜が、CHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを含み、膜表面にX線を照射して得たX線回折パターンにおいて、2θ=17.9°付近のピーク強度が、2θ=20.8°付近のピーク強度の0.5倍未満の値を有するものであり、かつ2θ=9.6°付近のピーク強度が、2θ=20.8°付近のピーク強度の2.0倍以上4.0倍未満の値を有するものである、請求項1または2に記載の精製ガスの製造方法。
【請求項4】
前記ゼオライトのSiO

/Al



が、20以上500以下である、請求項1または2に記載の精製ガスの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、精製ガスの製造方法に関する。
続きを表示(約 1,200 文字)【背景技術】
【0002】
複数の成分を含む混合ガスから、該混合ガスに含まれる1の成分を濃縮・精製する方法として、深冷分離法や吸着法が実施されてきたが、近年、高分子分離膜を用いた膜分離法も普及してきている。膜分離法による分離の場合、透過側にスイープガスを流すことで、膜を透過する分離対象成分の分圧差を向上させ、分離効率を上げる方法が知られている。
【0003】
非特許文献1には、スイープガスとして窒素ガスまたは水蒸気を使用した、無機多孔質膜による分離方法が記載されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0004】
分離技術シリーズ31「ガス分離膜プロセスの基礎と応用」H27年5月30日発行、著者:原谷賢治、伊藤直次
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
非特許文献1に記載の方法では、スイープガスが透過側から非透過側に向かって透過してしまうが、それを前提として、各シミュレーションがなされている。この場合、非透過側にスイープガスが混入するために、非透過側成分の純度を高めにくいという問題があった。
【0006】
以上より、本願発明は、混合ガス膜分離において、スイープガスを使用したとしても、該スイープガスが透過側から非透過側に向かって透過することを抑止し、高純度の成分をガスとして得ることを可能とする、精製ガスの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記課題について鋭意検討の結果、以下の発明を完成させた。
[1] 二酸化炭素を含む混合ガスを分離膜に供給し、二酸化炭素を分離膜に透過させることにより、分離する精製ガスの製造方法であって、
前記分離膜がゼオライト膜であり、
前記分離膜の透過側を窒素または空気にてスイープする、
精製ガスの製造方法。
【0008】
[2] 前記ゼオライト膜を構成するゼオライトが酸素8員環以下の細孔構造を有する、[1]に記載の精製ガスの製造方法。
【0009】
[3] 前記ゼオライト膜が、CHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを含み、膜表面にX線を照射して得たX線回折パターンにおいて、2θ=17.9°付近のピーク強度が、2θ=20.8°付近のピーク強度の0.5倍未満の値を有するものであり、かつ2θ=9.6°付近のピーク強度が、2θ=20.8°付近のピーク強度の2.0倍以上4.0倍未満の値を有するものである、[1]または[2]に記載の精製ガスの製造方法。
【0010】
[4] 前記ゼオライトのSiO

/Al



が、20以上500以下である、[1]~[3]のいずれかに記載の精製ガスの製造方法。
【発明の効果】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する

関連特許

三菱ケミカル株式会社
積層体
3日前
三菱ケミカル株式会社
積層体
2日前
三菱ケミカル株式会社
積層体
4日前
三菱ケミカル株式会社
粘着剤組成物
4日前
三菱ケミカル株式会社
成形品の製造方法
1日前
三菱ケミカル株式会社
精製ガスの製造方法
1日前
三菱ケミカル株式会社
精製ガスの製造方法
1日前
三菱ケミカル株式会社
重合体及び樹脂組成物
2日前
三菱ケミカル株式会社
オルガノポリシロキサン
2日前
三菱ケミカル株式会社
ポリエステル樹脂組成物
2日前
三菱ケミカル株式会社
ポリウレタンエラストマー
3日前
三菱ケミカル株式会社
樹脂組成物、および成形品
1日前
三菱ケミカル株式会社
積層ポリエステルフィルム
8日前
三菱ケミカル株式会社
液晶組成物及び液晶調光素子
4日前
三菱ケミカル株式会社
チキソ性付与剤、液状組成物
8日前
三菱ケミカル株式会社
ポリエステル及びその製造方法
8日前
三菱ケミカル株式会社
ポリウレタン樹脂及びその成形品
3日前
三菱ケミカル株式会社
ケイ素及びヘテロ原子含有化合物
3日前
三菱ケミカル株式会社
プログラム、方法、情報処理装置
2日前
三菱ケミカル株式会社
樹脂分散体、塗料、接着剤及び積層体
8日前
三菱ケミカル株式会社
積層ポリエステルフィルム及びその応用
2日前
三菱ケミカル株式会社
有機電界発光素子、表示装置、照明装置
1日前
三菱ケミカル株式会社
組成物及び生分解性物質を分解する方法
4日前
三菱ケミカル株式会社
コンポスト袋及び有機廃棄物の処理方法
4日前
三菱ケミカル株式会社
樹脂組成物、ペレット、および、成形品
1日前
三菱ケミカル株式会社
ポリエステル系樹脂組成物、及び成形品
2日前
三菱ケミカル株式会社
槽の洗浄方法及びシリカ粒子の製造方法
2日前
三菱ケミカル株式会社
有機電界発光素子、表示装置及び照明装置
2日前
三菱ケミカル株式会社
化合物、並びにその製造方法及びその使用
2日前
三菱ケミカル株式会社
有機電界発光素子、表示装置及び照明装置
2日前
三菱ケミカル株式会社
有機電界発光素子、表示装置及び照明装置
2日前
三菱ケミカル株式会社
ポリウレタン又はそのコポリマーの製造方法
3日前
三菱ケミカル株式会社
プログラム、方法、情報処理装置、システム
2日前
三菱ケミカル株式会社
離型フィルム、離型フィルムロール及び粘着体
1日前
三菱ケミカル株式会社
建材用金属酸化物層被覆体、及びその製造方法
1日前
三菱ケミカル株式会社
多孔質支持体-ゼオライト膜複合体の製造方法
3日前
続きを見る