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公開番号2025119792
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-15
出願番号2024014806
出願日2024-02-02
発明の名称発光装置、それを有する表示装置、電子機器
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類H10D 84/83 20250101AFI20250807BHJP()
要約【課題】 画素のリーク電流が低減された発光装置を提供する
【解決手段】 発光素子と、シリコン基板の第1面の上に設けられた第1トランジスタおよび第2トランジスタと、前記第1トランジスタに画像信号を供給する周辺回路に設けられた第3トランジスタと、を有し、前記第1トランジスタのソースおよびドレインのいずれかは、前記第2トランジスタのゲート電極に接続され、前記第2トランジスタのソースおよびドレインのいずれかは、前記発光素子に接続されている発光装置であって、
前記第2トランジスタの拡散領域における不純物濃度のピーク濃度は、前記第3トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度よりも小さいことを特徴とする発光装置を提供する。
【選択図】 図4
特許請求の範囲【請求項1】
発光素子と、
シリコン基板の第1面の上に設けられた第1トランジスタおよび第2トランジスタと、
前記第1トランジスタに画像信号を供給する周辺回路に設けられた第3トランジスタと、を有し、
前記第1トランジスタのソースおよびドレインのいずれかは、前記第2トランジスタのゲート電極に接続され、
前記第2トランジスタのソースおよびドレインのいずれかは、前記発光素子に接続されている発光装置であって、
前記第2トランジスタの前記ソースの拡散領域における不純物濃度、前記ドレインの拡散領域における不純物濃度は、前記ソースから前記ドレインに向かう第1方向において、濃度ピークを有する濃度分布を有し、
前記第3トランジスタの前記ソースの拡散領域における不純物濃度、前記ドレインの拡散領域における不純物濃度は、前記ソースから前記ドレインに向かう第2方向において、濃度ピークを有する濃度分布を有し、
前記第2トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度は、前記第3トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度よりも小さいことを特徴とする発光装置。
続きを表示(約 2,400 文字)【請求項2】
発光素子と、
シリコン基板の第1面の上に設けられた第1トランジスタおよび第2トランジスタと、
前記第1トランジスタに画像信号を供給する周辺回路に設けられた第3トランジスタと、を有し、
前記第1トランジスタのソースおよびドレインのいずれかは、前記第2トランジスタのゲート電極に接続され、
前記第2トランジスタのソースおよびドレインのいずれかは、前記発光素子に接続されている発光装置であって、
前記第1トランジスタの前記ソースの拡散領域における不純物濃度、前記ドレインの拡散領域における不純物濃度は、前記ソースから前記ドレインに向かう第3方向において、濃度ピークを有する濃度分布を有し、
前記第3トランジスタの前記ソースの拡散領域における不純物濃度、前記ドレインの拡散領域における不純物濃度は、前記ソースから前記ドレインに向かう第2方向において、濃度ピークを有する濃度分布を有し、
前記第1トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度は、前記第3トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度よりも小さいことを特徴とする発光装置。
【請求項3】
前記第1トランジスタの前記ソースの拡散領域における不純物濃度、前記ドレインの拡散領域における不純物濃度は、前記ソースから前記ドレインに向かう第3方向において、濃度ピークを有する濃度分布を有し、
前記第3トランジスタの前記ソースの拡散領域における不純物濃度、前記ドレインの拡散領域における不純物濃度は、前記ソースから前記ドレインに向かう第2方向において、濃度ピークを有する濃度分布を有し、
前記第1トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度は、前記第3トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
【請求項4】
前記発光素子に電流を供給する電源と、前記第2トランジスタと、の間に配された第4トランジスタを有し、
前記第4トランジスタは、ソース、ドレイン及びゲート電極を有し、
前記第4トランジスタの前記ソースの拡散領域における不純物濃度、前記ドレインの拡散領域における不純物濃度は、前記ソースから前記ドレインに向かう第4方向において、濃度ピークを有する濃度分布を有し、
前記第4トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度は、前記第3トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
【請求項5】
前記第2トランジスタの前記ドレインまたは前記ソースのうち前記発光素子と接続されている端子と、前記発光素子に電流を供給する電源よりも低い電位の端子と、の間に配された第5トランジスタを有し、
前記第5トランジスタの前記ソースの拡散領域における不純物濃度、前記ドレインの拡散領域における不純物濃度は、前記ソースから前記ドレインに向かう第5方向において、ピーク濃度を有する濃度分布を有し、
前記第5トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度は、前記第3トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
【請求項6】
前記第1トランジスタは、前記ソース及び前記ドレインの拡散領域に、Halo注入層を有し、前記Halo注入層は、前記拡散領域の極性と逆の極性であることを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
【請求項7】
前記第3トランジスタは、前記ソース及び前記ドレインの拡散領域に、Halo注入層を有し、前記Halo注入層は、前記拡散領域の極性と逆の極性であり、
前記第1トランジスタの前記Halo注入層における不純物濃度のピーク濃度は、前記第3トランジスタの前記Halo注入層における不純物濃度のピーク濃度と異なることを特徴とする請求項6に記載の発光装置。
【請求項8】
前記発光素子に電流を供給する電源と、前記第2トランジスタと、の間に配された第4トランジスタを有し、
前記第4トランジスタは、ソース及びドレインの拡散領域に、Halo注入層を有し、前記Halo注入層は、前記拡散領域の極性と逆の極性であり、
前記第3トランジスタの前記Halo注入層における不純物濃度のピーク濃度は、前記第4トランジスタの前記Halo注入層における不純物濃度のピーク濃度と異なることを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
【請求項9】
前記第2トランジスタの前記ドレインまたは前記ソースのうち前記発光素子と接続されている端子と、前記発光素子に電流を供給する電源よりも低い電位の端子と、の間に配された第5トランジスタを有し、
前記第5トランジスタは、前記ソース、前記ドレインの拡散領域に、Halo注入層を有し、前記Halo注入層は、前記拡散領域の極性と逆の極性であり、
前記第3トランジスタの前記Halo注入層における不純物濃度のピーク濃度は、前記第5トランジスタの前記Halo注入層における不純物濃度のピーク濃度と異なることを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
【請求項10】
前記周辺回路が、前記シリコン基板の前記第1面に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、発光装置に関するものであり、例えば、発光素子を有する発光装置、それを有する表示装置、電子機器に関する。
続きを表示(約 2,500 文字)【背景技術】
【0002】
近年、素子に流れる電流に応じた輝度で発光する発光素子をアレイ上に有する表示装置が知られ、有機EL素子などが発光素子として用いられている。これら表示装置はその用途を大きく広げ、用途に応じて高精細化、高機能化が求められている。
【0003】
特許文献1には、有機発光素子の駆動回路における駆動トランジスタのソース、ドレインにおいて、電気抵抗を低減するために、シリサイド層を有する表示装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2020-71323号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献1に記載のトランジスタのソース・ドレインにはシリサイド層が配されている。このシリサイド層により、トランジスタの抵抗を低減することができる。しかし、シリサイド層を設けることにより、発光素子の特性を低下させることもありうる。
【0006】
そこで、本発明は、リーク電流が低減された発光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明に係る一実施形態は、発光素子と、シリコン基板の第1面の上に設けられた第1トランジスタおよび第2トランジスタと、前記第1トランジスタに画像信号を供給する周辺回路に設けられた第3トランジスタと、を有し、前記第1トランジスタのソースおよびドレインのいずれかは、前記第2トランジスタのゲート電極に接続され、前記第2トランジスタのソースおよびドレインのいずれかは、前記発光素子に接続されている発光装置であって、
前記第2トランジスタの前記ソースの拡散領域における不純物濃度、前記ドレインの拡散領域における不純物濃度は、前記ソースから前記ドレインに向かう第1方向において、濃度ピークを有する濃度分布を有し、前記第3トランジスタの前記ソースの拡散領域における不純物濃度、前記ドレインの拡散領域における不純物濃度は、前記ソースから前記ドレインに向かう第2方向において、濃度ピークを有する濃度分布を有し、前記第2トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度は、前記第3トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度よりも小さいことを特徴とする発光装置を提供する。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、画素のリーク電流が低減された発光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
本実施形態に係る発光装置の一例の概略図である。
実施形態1に係る発光装置の画素回路の一例を表す回路図である。
(a)は実施形態1に係る発光装置の回路の一例を表す平面図であり、(b)は実施形態1に係る発光装置の周辺回路のトランジスタの一例を表す平面図である。
(a)は実施形態1に係る発光装置の一例を表す断面図であり、(b)は実施形態1に係る発光装置の周辺回路トランジスタの一例を表す断面図である。
実施形態2に係る発光装置の一例を表す断面図である。
(a)は実施形態3に係る発光装置の一例を表す断面図であり、(b)は実施形態3に係る発光装置の周辺回路トランジスタの一例を表す断面図である。
実施形態4に係る発光装置の一例を表す概略図である。
実施形態4に係る発光装置の画素回路の一例を表す回路図である。
実施形態4に係る発光装置の回路の一例を表す平面図である。
実施形態4に係る発光装置の一例を表す断面図である。
実施形態5に係る発光装置の一例を示す概略図である。
実施形態5に係る発光装置の画素回路の一例を表す回路図である。
実施形態5に係る発光装置の回路の一例を表す平面図である。
実施形態5に係る発光装置の一例を表す断面図である。
実施形態6に係る発光装置のインバータ回路の一例を表す回路図である。
実施形態6に係る発光装置のインバータ回路の一例を表す平面図である。
実施形態6に係る発光装置のインバータ回路の一例を表す断面図である。
本発明の一実施形態に係る表示装置の一例を表す模式図である。
(a)は本発明の一実施形態に係る撮像装置の一例を表す模式図であり、(b)は本発明の一実施形態に係る電子機器の一例を表す模式図である。
(a)及び(b)は本発明の一実施形態に係る表示装置の一例を表す模式図である。
本発明の一実施形態に係るウェアラブルデバイスの一例を表す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本発明の一実施形態に係る発光装置は、発光素子と、シリコン基板の第1面の上に設けられた第1トランジスタおよび第2トランジスタと、前記第1トランジスタに画像信号を供給する周辺回路に設けられた第3トランジスタと、を有し、前記第1トランジスタのソースおよびドレインのいずれかは、前記第2トランジスタのゲート電極に接続され、前記第2トランジスタのソースおよびドレインのいずれかは、前記発光素子に接続されている発光装置であって、
前記第2トランジスタの前記ソースの拡散領域における不純物濃度、前記ドレインの拡散領域における不純物濃度は、前記ソースから前記ドレインに向かう第1方向において、濃度ピークを有する濃度分布を有し、前記第3トランジスタの前記ソースの拡散領域における不純物濃度、前記ドレインの拡散領域における不純物濃度は、前記ソースから前記ドレインに向かう第2方向において、濃度ピークを有する濃度分布を有し、前記第2トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度は、前記第3トランジスタの前記ソースまたは前記ドレインの拡散領域における不純物のピーク濃度よりも小さいことを特徴とする発光装置である。
(【0011】以降は省略されています)

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