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公開番号
2025129538
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-09-05
出願番号
2024026233
出願日
2024-02-26
発明の名称
洗浄装置及び洗浄方法
出願人
株式会社ディスコ
代理人
インフォート弁理士法人
主分類
H01L
21/304 20060101AFI20250829BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】小型な構造の洗浄装置で効率良く被洗浄物を洗浄する。
【解決手段】被洗浄物(S)を洗浄する洗浄装置であって、被洗浄物の第一面(Sa)側に配置され被洗浄物を支持する支持部(14)と、支持部に支持された被洗浄物に回転用流体(Fa)を供給する一つ以上の第一供給口(20)と、を備え、第一供給口から供給される回転用流体によって被洗浄物を回転させながら被洗浄物を洗浄する。
【選択図】図4
特許請求の範囲
【請求項1】
被洗浄物を洗浄する洗浄ユニットを備える洗浄装置であって、
被洗浄物の第一面側に配置され被洗浄物を支持する支持部と、
該支持部に支持された被洗浄物に回転用流体を供給する一つ以上の第一供給口と、
を備え、
該第一供給口から供給される該回転用流体によって被洗浄物を回転させながら被洗浄物を洗浄する洗浄装置。
続きを表示(約 890 文字)
【請求項2】
該支持部は、被洗浄物の外縁を支持し、
該支持部に支持された被洗浄物の外方を覆う側部を備える、請求項1に記載の洗浄装置。
【請求項3】
該第一供給口は、該側部の内周に形成されている、請求項2に記載の洗浄装置。
【請求項4】
該支持部の被洗浄物を支持する支持面に一つ以上の第二供給口をさらに備え、
該洗浄ユニットは、該第二供給口から供給される浮上用流体によって被洗浄物を該支持面から浮上させた状態で被洗浄物を洗浄する請求項3に記載の洗浄装置。
【請求項5】
該洗浄ユニットは、被洗浄物の該第一面と、該第一面と反対側の第二面と、側面と、の少なくともいずれかを洗浄する、請求項1から4のいずれか1項に記載の洗浄装置。
【請求項6】
該洗浄ユニットは、該第一供給口を少なくとも含み、該回転用流体によって被洗浄物を洗浄する、請求項1から4のいずれか1項に記載の洗浄装置。
【請求項7】
該洗浄ユニットは、該第一供給口とは別に、
該支持部に支持された被洗浄物の該第一面と、該第一面と反対側の第二面との少なくともいずれかに対向する位置に位置付け可能な洗浄部を備えており、該洗浄部を用いて被洗浄物を洗浄する、請求項1から4のいずれか1項に記載の洗浄装置。
【請求項8】
被洗浄物の該第一面と反対側の第二面に対向して設置される蓋部をさらに備える、請求項1から4のいずれか1項に記載の洗浄装置。
【請求項9】
該蓋部の被洗浄物と対向する面に、流体を供給する一つ以上の第三供給口を有する、請求項8に記載の洗浄装置。
【請求項10】
請求項1に記載の洗浄装置による洗浄方法であって、
該支持部で被洗浄物を支持する支持ステップと、
該第一供給口から該回転用流体を供給して該支持部に支持された被洗浄物を回転させる回転ステップと、
被洗浄物を回転させながら被洗浄物を洗浄する洗浄ステップと、
を備える洗浄方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、被洗浄物を洗浄する洗浄装置及び洗浄方法に関する。
続きを表示(約 1,200 文字)
【背景技術】
【0002】
被加工物を加工する加工装置では、加工前や加工後に被加工物を洗浄している。例えば、半導体デバイスの製造の際に、ウエーハなどの被加工物に対して、研削、研磨、切削、レーザー照射などの加工を行い、加工後の被加工物を洗浄装置(加工装置が備える洗浄部)に搬送して、加工の際に付着した加工屑などの汚れを洗浄する。以下、洗浄装置で洗浄を行う対象物を、被洗浄物と呼ぶ。
【0003】
被洗浄物の全体を効率的に洗浄するために、被洗浄物を回転可能に支持して、被洗浄物を回転させながら洗浄するスピンナー式の洗浄装置が用いられている(例えば、特許文献1)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2015-041653号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
スピンナー式の洗浄装置は、洗浄用の器具(洗浄ノズル、洗浄ブラシなど)を複雑に動作させずに被洗浄物の全体を洗浄しやすい。その一方で、被洗浄物を支持面で支持し、支持面を回転させながら洗浄を行うために、支持面を回転させるモータや伝動部などの回転機構を必要とし、回転機構によって洗浄装置の小型化が制約される場合があった。
【0006】
本発明の課題は、小型な構造で効率良く被洗浄物を洗浄できる洗浄装置及び洗浄方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の一態様は、被洗浄物を洗浄する洗浄ユニットを備える洗浄装置であって、被洗浄物の第一面側に配置され被洗浄物を支持する支持部と、該支持部に支持された被洗浄物に回転用流体を供給する一つ以上の第一供給口と、を備え、該第一供給口から供給される該回転用流体によって被洗浄物を回転させながら被洗浄物を洗浄する。
【0008】
該支持部は、被洗浄物の外縁を支持し、該支持部に支持された被洗浄物の外方を覆う側部を備えることが好ましい。一態様として、該第一供給口は、該側部の内周に形成される。
【0009】
該支持部の被洗浄物を支持する支持面に一つ以上の第二供給口をさらに備え、該洗浄ユニットは、該第二供給口から供給される浮上用流体によって被洗浄物を該支持面から浮上させた状態で被洗浄物を洗浄してもよい。
【0010】
該洗浄ユニットは、被洗浄物の該第一面と、該第一面と反対側の第二面と、側面と、の少なくともいずれかを洗浄する。一態様として、該洗浄ユニットは、該第一供給口を少なくとも含み、該回転用流体によって被洗浄物を洗浄する。一態様として、該洗浄ユニットは、該第一供給口とは別に、該支持部に支持された被洗浄物の該第一面と、該第一面と反対側の第二面との少なくともいずれかに対向する位置に位置付け可能な洗浄部を有し、該洗浄部を用いて被洗浄物を洗浄する。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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