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公開番号2025134388
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-17
出願番号2024032268
出願日2024-03-04
発明の名称廃液処理装置及び洗浄方法
出願人株式会社ディスコ
代理人個人,個人,個人,個人,個人,個人
主分類H01L 21/301 20060101AFI20250909BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】洗浄に適した純度の水を生成可能な廃液処理装置及び高い洗浄効果が得られる洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る廃液処理装置は、パーティクルが水に混合した廃液を処理する廃液処理装置であって、該廃液から該パーティクルを除去するフィルタユニットと、該フィルタユニットを通過した後の第1純度の水をアニオン交換樹脂からなるイオン交換樹脂と接触させることにより該第1純度の水に不純物として含まれる陰イオンを除去する第1イオン交換ユニットと、該第1純度の水をアニオン交換樹脂及びカチオン交換樹脂が混合したイオン交換樹脂と接触させることにより該第1純度の水に不純物として含まれる陰イオン及び陽イオンを除去する第2イオン交換ユニットと、を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
パーティクルが水に混合した廃液を処理する廃液処理装置であって、
該廃液から該パーティクルを除去するフィルタユニットと、
該フィルタユニットを通過した後の第１純度の水をアニオン交換樹脂からなるイオン交換樹脂と接触させることにより該第１純度の水に不純物として含まれる陰イオンを除去する第１イオン交換ユニットと、
該第１純度の水をアニオン交換樹脂及びカチオン交換樹脂が混合したイオン交換樹脂と接触させることにより該第１純度の水に不純物として含まれる陰イオン及び陽イオンを除去する第２イオン交換ユニットと、を備える、廃液処理装置。
続きを表示（約 920 文字）【請求項２】
該第１イオン交換ユニットを通過した後の第２純度の水を加工装置又は洗浄装置に導く第１配管と、
該第２イオン交換ユニットを通過した後の第３純度の水を該加工装置又は該洗浄装置に導く第２配管と、を備える、請求項１に記載の廃液処理装置。
【請求項３】
該第１純度の水を該第１イオン交換ユニットに導く第３配管と、
該第１純度の水を該第２イオン交換ユニットに導く第４配管と、
該第３配管及び該第４配管に接続されたバルブユニットと、を更に備え、
該バルブユニットは、該第３配管及び該第４配管のうちの選択された一方に該第１純度の水を導くことができるように構成される、請求項１又は２に記載の廃液処理装置。
【請求項４】
該第１純度の水をカチオン交換樹脂からなるイオン交換樹脂と接触させることにより該第１純度の水に不純物として含まれる陽イオンを除去する第３イオン交換ユニットを更に備える、請求項１又は２に記載の廃液処理装置。
【請求項５】
請求項１又は２に記載の廃液処理装置が備える該第１イオン交換ユニットを通過した後の第２純度の水及び該第２イオン交換ユニットを通過した後の第３純度の水を用いて被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、
該被洗浄物を保持テーブルにより保持する保持ステップと、
該保持ステップの後に、該保持テーブルを回転させつつ該第２純度の水を該被洗浄物に供給する第１洗浄ステップと、
該第１洗浄ステップの後に、該保持テーブルを回転させつつ該第３純度の水を該被洗浄物に供給する第２洗浄ステップと、を備える、洗浄方法。
【請求項６】
被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、
該被洗浄物を保持テーブルにより保持する保持ステップと、
該保持ステップの後に、該保持テーブルを回転させつつアルカリ性の水を該被洗浄物に供給する第１洗浄ステップと、
該第１洗浄ステップの後に、該保持テーブルを回転させつつ該アルカリ性の水よりも純度の高い水を該被洗浄物に供給する第２洗浄ステップと、を備える、洗浄方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、廃液処理装置及び洗浄方法に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程では、ウェーハの表面に複数のストリートが格子状に設定され、この複数のストリートによって区画された複数の領域のそれぞれに、ＩＣ（Integrated circuit）等のデバイスが形成される。デバイスが形成されたウェーハは、例えば、研削装置等により裏面側を研削されて所定の厚みに薄化された後、切削装置等によりストリートに沿って切断され、個々の領域に分割される。これにより、それぞれがデバイスを有する複数の半導体デバイスチップが得られる。
【０００３】
ウェーハの切削加工に利用される切削装置は、例えば、ウェーハを保持する保持テーブルと、スピンドルの一方の先端に装着された環状の切削ブレードを有する切削ユニットと、保持テーブルに保持されたウェーハ及び切削ブレードに加工液を供給する加工液供給ユニットと、を備える。
【０００４】
切削装置によりウェーハを切削加工する場合には、切削ブレードをウェーハに切り込ませつつ、加工液供給ユニットによりウェーハ及び切削ブレードに加工液が供給される。これにより、ウェーハ及び切削ブレードが冷却されるとともに、切削加工により発生した屑（加工屑）がウェーハから洗い流される。
【０００５】
また、切削装置は、ウェーハを洗浄するための洗浄ユニットを更に備えていることがある。この洗浄ユニットから切削加工後のウェーハに洗浄液を供給してウェーハを洗浄することにより、ウェーハに付着している加工屑等のパーティクル（異物）が洗い流される。切削加工や洗浄等の工程で発生し、加工屑等のパーティクルが混合している廃液は、その後、切削装置の外部へ排出される。
【０００６】
上述した廃液を再生する廃液処理装置が知られている。例えば、特許文献１には、切削装置等の加工装置から排出された廃液に混入している加工屑を除去して清水を生成する手段と、清水に紫外線を照射した上でイオン交換樹脂に通水させることにより純水を生成する手段と、純水を所定の温度に調整する手段と、を備えた廃液処理装置が記載されている。特許文献１の加工廃液処理装置において、所定の温度に調整された純水は、加工装置が備える加工液供給装置に供給され、再利用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開２００９－１９０１２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上述したように、特許文献１では、廃液から生成される純水が加工装置に供給され、加工液及び洗浄液として再利用されている。しかしながら、純水のみによる洗浄では、ウェーハに付着したパーティクルを十分に除去できない場合がある。そこで、高い洗浄効果を得るために、加工液及び洗浄液に薬液が使用されることがある。しかしながら、薬液を使用する場合には、薬液の分のコストの増加や、薬液の管理のための手間の発生といった課題が生じる。
【０００９】
よって、本発明の目的は、洗浄に適した純度の水を生成可能な廃液処理装置及び高い洗浄効果が得られる洗浄方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一側面によれば、パーティクルが水に混合した廃液を処理する廃液処理装置であって、該廃液から該パーティクルを除去するフィルタユニットと、該フィルタユニットを通過した後の第１純度の水をアニオン交換樹脂からなるイオン交換樹脂と接触させることにより該第１純度の水に不純物として含まれる陰イオンを除去する第１イオン交換ユニットと、該第１純度の水をアニオン交換樹脂及びカチオン交換樹脂が混合したイオン交換樹脂と接触させることにより該第１純度の水に不純物として含まれる陰イオン及び陽イオンを除去する第２イオン交換ユニットと、を備える、廃液処理装置が提供される。
（【００１１】以降は省略されています）

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