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公開番号2025137443
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-19
出願番号2025028073
出願日2025-02-25
発明の名称マスク装置、マスク積層体、フレーム積層体、マスクの交換方法、及び、有機デバイスの製造方法
出願人大日本印刷株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類C23C 14/04 20060101AFI20250911BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】フレームを把持することでシリコンを含むマスクの破損を抑制できるマスク装置の提供と、使用済みのマスクを交換して新たなマスク装置を作製する方法を提供する。
【解決手段】マスク装置は、マスクと、フレーム60と、マスクとフレームとを接続する接続層70とを含む。マスクは第1層30と第2層40とを含む。第1層は、シリコンまたはシリコン化合物を含む。接続層は剥離層71を含む。剥離層は、光が照射されることで分解、蒸発又は変形する。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項１】
マスク装置であって、
マスクと、
フレームと、
前記マスク及び前記フレームの間に配置されて前記マスクと前記フレームとを接続する接続層と、を備え、
前記マスクは、
第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、前記第１面から前記第２面へ貫通する少なくとも１つの第１開口と、外縁と、平面視において前記外縁と前記第１開口との間に位置する外側領域と、を含む第１層と、
前記第２面に対向する第３面と、前記第３面の反対側に位置する第４面と、前記第３面から前記第４面へ貫通し、平面視において前記第１開口に重なる複数の第２開口と、を含む第２層と、を含み、
前記第１層は、シリコン又はシリコン化合物を含み、
前記フレームは、前記第１層の外縁に、及び／または前記第１層の前記外側領域の前記第１面に接続し、
平面視において、前記フレームの少なくとも一部は、前記第１層の前記外縁の外側まで広がっており、
前記フレームは、ガラスまたは金属を含み、
前記接続層は、剥離層を含み、
前記剥離層は、光が照射されることで分解、蒸発又は変形する、マスク装置。
続きを表示（約 990 文字）【請求項２】
前記接続層は、接着剤層を更に含む、請求項１に記載のマスク装置。
【請求項３】
前記接着剤層は、ガラス材料、無機材料、金属材料又は樹脂材料を含む、請求項２に記載のマスク装置。
【請求項４】
前記剥離層は、前記接着剤層と前記フレームとの間に配置される、請求項２に記載のマスク装置。
【請求項５】
前記剥離層は、前記接着剤層と前記マスクとの間に配置される、請求項２に記載のマスク装置。
【請求項６】
前記フレームは、前記第４面が向く側と同じ側を向く第５面と、前記第５面の反対側に位置する第６面と、前記第５面から前記第６面へ貫通し、平面視において前記第１開口に重なる第３開口と、を含む、請求項１に記載のマスク装置。
【請求項７】
前記フレームに、前記第１層の前記外縁を収容する段差部が形成されている、請求項１に記載のマスク装置。
【請求項８】
前記フレームの前記剥離層と対向する面に溝が形成されている、請求項１に記載のマスク装置。
【請求項９】
平面視において前記剥離層に重なる前記フレームの部分の、厚み方向における光透過率が８０％以上である、請求項１に記載のマスク装置。
【請求項１０】
フレームに接続されるマスク積層体であって、
マスクと
前記マスクに積層された剥離層と、を備え、
前記マスクが、前記剥離層を介して前記フレームに接続され、
前記マスクは、
第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、前記第１面から前記第２面へ貫通する少なくとも１つの第１開口と、外縁と、平面視において前記外縁と前記第１開口との間に位置する外側領域と、を含む第１層と、
前記第２面に対向する第３面と、前記第３面の反対側に位置する第４面と、前記第３面から前記第４面へ貫通し、平面視において前記第１開口に重なる複数の第２開口と、を含む第２層と、を含み、
前記第１層は、シリコン又はシリコン化合物を含み、
前記剥離層は、前記第１層の外縁及び／または前記第１層の前記外側領域の前記第１面に形成され、光が照射されることで分解、蒸発又は変形する、マスク積層体。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示の実施形態は、マスク装置、マスク積層体、フレーム積層体、マスクの交換方法、及び、有機デバイスの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
精密なパターンを形成するための方法として、蒸着法が知られている。蒸着法においては、まず、開口が形成されたマスクを基板に組み合わせる。続いて、マスクの開口を介して蒸着材料を基板に付着させる。この結果、マスクの開口のパターンに対応したパターンで、蒸着材料を含む蒸着層が基板上に形成される。蒸着法は、例えば、有機ＥＬ表示装置の画素を形成する方法として用いられている。
【０００３】
例えば特許文献１は、フレームと、張力が加えられた状態でフレームに接合されているマスクと、を備えるマスク装置を用いる形態を開示している。フレーム及びマスクは、ニッケルを含む鉄合金によって構成されている。
【０００４】
一方、例えば特許文献２は、マスクが熱によって変形することを抑制するため、シリコン基板によってマスクを構成することを提案している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１３－４９８８９号公報
特開２００９－０６２５６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
シリコン基板を用いたマスクは、その外縁近傍まで開口を形成すると、外縁部が破損しやすくなり、マスクの取り扱いが困難になる。その一方で、マスクの外縁近傍まで開口を形成することで、一枚のマスクで基板のより広い範囲に蒸着層を形成可能とすることが求められている。
【０００７】
本開示の実施形態は、このような課題を効果的に解決し得るマスクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示の一実施形態によるマスク装置は、マスクと、フレームと、前記マスク及び前記フレームの間に配置されて前記マスクと前記フレームとを接続する接続層と、を含んでよい。前記マスクは、第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、前記第１面から前記第２面へ貫通する少なくとも１つの第１開口と、外縁と、平面視において前記外縁と前記第１開口との間に位置する外側領域と、を含む第１層を含んでよい。また、前記マスクは、前記第２面に対向する第３面と、前記第３面の反対側に位置する第４面と、前記第３面から前記第４面へ貫通し、平面視において前記第１開口に重なる複数の第２開口と、を含む第２層を含んでよい。前記第１層は、シリコン又はシリコン化合物を含んでよい。前記フレームは、前記第１層の外縁に、及び／または前記第１層の前記外側領域の前記第１面に接続してよい。平面視において、前記フレームの少なくとも一部は、前記第１層の前記外縁の外側まで広がっていてよい。前記フレームは、ガラスまたは金属を含んでよい。前記接続層は、剥離層を含んでよい。前記剥離層は、光が照射されることで分解、蒸発又は変形してよい。
【０００９】
また、本開示の一実施形態によるマスク積層体は、マスクと剥離層とを含んでよい。前記マスクは、前記剥離層を介してフレームに接続されてよい。前記マスクは、第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、前記第１面から前記第２面へ貫通する少なくとも１つの第１開口と、外縁と、平面視において前記外縁と前記第１開口との間に位置する外側領域と、を含む第１層をふくんでよい。前記マスクは、前記第２面に対向する第３面と、前記第３面の反対側に位置する第４面と、前記第３面から前記第４面へ貫通し、平面視において前記第１開口に重なる複数の第２開口と、を含む第２層を含んでよい。前記第１層は、シリコン又はシリコン化合物を含んでよい。前記剥離層は、前記第１層の外縁及び／または前記第１層の前記外側領域の前記第１面に形成され、光が照射されることで分解、蒸発又は変形してよい。
【００１０】
また、本開示の一実施形態によるフレーム積層体は、フレームと剥離層とを含んでよい。前記フレームは、前記剥離層を介してシリコン又はシリコン化合物を含むマスクに接続されてよい。前記フレームは、ガラスまたは金属を含んでよい。前記剥離層は、前記フレームの一側を向く面及び／または側面に形成され、光が照射されることで分解、蒸発又は変形してよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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