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公開番号2025120792
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-18
出願番号2024015893
出願日2024-02-05
発明の名称トリートメント方法及びプラズマ処理装置
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人個人,個人
主分類H01L 21/3065 20060101AFI20250808BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】プラズマ処理チャンバ内のパーツを支持する支持部の変色を抑制するトリートメント方法及びプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理チャンバと、プラズマ処理チャンバ内のパーツを支持する支持部と、を有するプラズマ処理装置により実行されるトリートメント方法であって、(A)前記パーツが前記支持部から取り外された状態でトリートメントガスからプラズマを生成し、前記プラズマにより前記支持部の表面を改質するステップと、(B)前記支持部に前記パーツを取り付けるステップと、を有し、前記(A)、前記(B)の順に実行する、トリートメント方法。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
プラズマ処理チャンバと、プラズマ処理チャンバ内のパーツを支持する支持部と、を有するプラズマ処理装置により実行されるトリートメント方法であって、
（Ａ）前記パーツが前記支持部から取り外された状態でトリートメントガスからプラズマを生成し、前記プラズマにより前記支持部の表面を改質するステップと、
（Ｂ）前記支持部に前記パーツを取り付けるステップと、を有し、
前記（Ａ）、前記（Ｂ）の順に実行する、
トリートメント方法。
続きを表示（約 940 文字）【請求項２】
前記トリートメントガスは、フッ素含有ガスである、
請求項１に記載のトリートメント方法。
【請求項３】
前記（Ａ）において、
前記支持部の表面を改質するステップは、前記支持部の表面をフッ化する、または、前記支持部の表面にフッ素含有膜を形成する、
請求項２に記載のトリートメント方法。
【請求項４】
前記（Ｂ）の後、
（Ｃ）前記プラズマ処理チャンバ内にプロセスガスを導入し、プラズマを生成するステップ、を更に有し、
前記プロセスガスは、金属含有ガスを含む、
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のトリートメント方法。
【請求項５】
前記金属含有ガスは、ＷＦ
６
ガスである、
請求項４に記載のトリートメント方法。
【請求項６】
前記（Ａ）の前に、
（Ｄ）前記プラズマ処理チャンバ内の前記パーツを前記支持部から取り外し、前記プラズマ処理チャンバから搬出するステップ、を更に有する、
請求項１に記載のトリートメント方法。
【請求項７】
前記（Ａ）の前に、
（Ｄ）前記パーツの取り付け位置に対応した位置に保護カバーを取り付けるステップと、
前記（Ａ）の後に、
（Ｅ）前記パーツの取り付け位置に対応した位置に取り付けた保護カバーを取り外すステップと、を更に有する、
請求項１に記載のトリートメント方法。
【請求項８】
前記保護カバーは、シリコン又は石英により形成されている、
請求項７に記載のトリートメント方法。
【請求項９】
前記パーツは、複数のガス導入孔を有する上部天板である、
請求項１に記載のトリートメント方法。
【請求項１０】
前記パーツは、複数のガス導入孔を有する上部天板であり、
前記保護カバーは、環状部材であり、前記上部天板の外縁部以外をくりぬいた形状であって前記外縁部と同一形状を有する、
請求項７に記載のトリートメント方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、トリートメント方法及びプラズマ処理装置に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１には、搬送装置により処理室内からフォーカスリングを搬出した後、載置台のフォーカスリングが載置された面をクリーニングすることが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１８－０１０９９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一の側面では、本開示は、プラズマ処理チャンバ内のパーツを支持する支持部の変色を抑制するトリートメント方法及びプラズマ処理装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、一の態様によれば、プラズマ処理チャンバと、プラズマ処理チャンバ内のパーツを支持する支持部と、を有するプラズマ処理装置により実行されるトリートメント方法であって、（Ａ）前記パーツが前記支持部から取り外された状態でトリートメントガスからプラズマを生成し、前記プラズマにより前記支持部の表面を改質するステップと、（Ｂ）前記支持部に前記パーツを取り付けるステップと、を有し、前記（Ａ）、前記（Ｂ）の順に実行する、トリートメント方法が提供される。
【発明の効果】
【０００６】
一の側面によれば、プラズマ処理チャンバ内のパーツを支持する支持部の変色を抑制するトリートメント方法及びプラズマ処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
容量結合型のプラズマ処理装置の構成例を説明するための図の一例。
一実施形態に係るトリートメント方法を含むプラズマ処理方法を示すフローチャートの一例。
図２のプラズマ処理方法の実施例１を説明するための図。
トリートメント時の上部支持部の状態を説明する断面模式図の一例。
基板処理時の上部支持部の状態を説明する断面模式図の一例。
図２のプラズマ処理方法の実施例２を説明するための図。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、図面を参照して本開示を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
【０００９】
［プラズマ処理システム］
以下に、プラズマ処理システムの構成例について説明する。図１は、容量結合型のプラズマ処理装置の構成例を説明するための図の一例である。
【００１０】
プラズマ処理システムは、容量結合型のプラズマ処理装置１及び制御部２を含む。容量結合型のプラズマ処理装置１は、プラズマ処理チャンバ１０、ガス供給部２０、電源３０及び排気システム４０を含む。また、プラズマ処理装置１は、基板支持部１１及びガス導入部を含む。ガス導入部は、少なくとも１つの処理ガスをプラズマ処理チャンバ１０内に導入するように構成される。ガス導入部は、シャワーヘッド１３を含む。基板支持部１１は、プラズマ処理チャンバ１０内に配置される。シャワーヘッド１３は、基板支持部１１の上方に配置される。一実施形態において、シャワーヘッド１３は、プラズマ処理チャンバ１０の天部（ｃｅｉｌｉｎｇ）の少なくとも一部を構成する。プラズマ処理チャンバ１０は、シャワーヘッド１３、プラズマ処理チャンバ１０の側壁１０ａ及び基板支持部１１により規定されたプラズマ処理空間１０ｓを有する。プラズマ処理チャンバ１０は、少なくとも１つの処理ガスをプラズマ処理空間１０ｓに供給するための少なくとも１つのガス供給口と、プラズマ処理空間１０ｓからガスを排出するための少なくとも１つのガス排出口とを有する。プラズマ処理チャンバ１０は接地される。シャワーヘッド１３及び基板支持部１１とプラズマ処理チャンバ１０の筐体とは電気的に絶縁される。
（【００１１】以降は省略されています）

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