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公開番号2025087394
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-10
出願番号2023202013
出願日2023-11-29
発明の名称研磨液
出願人花王株式会社
代理人弁理士法人池内アンドパートナーズ
主分類C09K 3/14 20060101AFI20250603BHJP(染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用)
要約【課題】本開示は、一態様において、研磨速度の向上と研磨後の基板表面のスクラッチ低減とを両立できる研磨液を提供する。
【解決手段】一態様において、シリカ粒子(成分A)と、ジアミン及びトリアミンから選ばれる少なくとも1種の化合物(成分B)と、カルボキシ基及びエチレン性不飽和基を有するモノマー由来の構成単位c1、及び、アミド基を有するモノマー由来の構成単位c2を含む水溶性高分子(成分C)と、水系媒体と、を含有し、前記アミド基を有するモノマーはN-アルキルアクリルアミド又はN-アルキルメタクリルアミドである、研磨液に関する。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
シリカ粒子（成分Ａ）と、ジアミン及びトリアミンから選ばれる少なくとも１種の化合物（成分Ｂ）と、カルボキシ基及びエチレン性不飽和基を有するモノマー由来の構成単位ｃ１、及び、Ｎ－アルキル(メタ)アクリルアミド構造を有するモノマー由来の構成単位ｃ２を含む水溶性高分子(成分Ｃ)と、水系媒体と、を含有する、研磨液。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
成分Ｂは下記構造式（Ｉ）で表される化合物である、請求項１に記載の研磨液。
Ｒ
1
－Ｎ（Ｒ
2
）－（ＣＨ
2
）
n
－Ｎ（Ｒ
3
）－Ｒ
4
－Ｘ・・・（Ｉ）
前記構造式（Ｉ）中、Ｒ
1
、Ｒ
2
、Ｒ
3
及びＲ
4
はそれぞれ独立に、水素原子又は炭化水素基であり、Ｘは水素原子、水酸基及びアミノ基のいずれかから選択されるものである。Ｒ
2
とＲ
3
は互いに結合して環状構造を形成してもよい。ｎは１以上１５以下の整数である。
【請求項３】
前記Ｎ－アルキル(メタ)アクリルアミド構造を有するモノマー由来の構成単位ｃ２がＮ－ｔ-ブチルアクリルアミド由来の構成単位である、請求項１又は２に記載の研磨液。
【請求項４】
成分Ｃはアクリル酸／Ｎ－ｔ－ブチルアクリルアミド共重合体である請求項１又は２のいずれかに記載の研磨液。
【請求項５】
成分Ｃはスルホン酸基及びエチレン性不飽和基を有するモノマー由来の構成単位ｃ３を更に含む請求項１から３のいずれかに記載の研磨液。
【請求項６】
前記スルホン酸基及びエチレン性不飽和基を有するモノマー由来の構成単位ｃ３が、イソプレンスルホン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、２－メタクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、イソアミレンスルホン酸、及びこれらの塩から選ばれる少なくとも１種のモノマー由来の構成単位である、請求項５に記載の研磨液。
【請求項７】
成分Ｃはアクリル酸／Ｎ－ｔ－ブチルアクリルアミド／２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸共重合体である請求項１から３のいずれかに記載の研磨液。
【請求項８】
成分Ｃの重量平均分子量が２，０００以上５００，０００以下である、請求項１から７のいずれかに記載の研磨液。
【請求項９】
研磨液中の成分Ｂの窒素原子のモル数をＢ（ｍｏｌ）、研磨液中の成分Ｃのカルボキシ基のモル数をＣ（ｍｏｌ）としたとき、下記式（ＩＩ）を満たす、請求項１から８のいずれかに記載の研磨液。
Ｂ／Ｃ＜１５・・・（ＩＩ）
【請求項１０】
陰イオン性界面活性剤を更に含有し、
前記陰イオン性界面活性剤は、陰イオン性基がスルホン酸基及び／又はスルホン酸塩基であり、且つ、主鎖の繰り返し単位中に芳香族基を有する高分子型陰イオン性界面活性剤である、請求項１から９のいずれかに記載の研磨液。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、研磨液、磁気ディスク基板の製造方法、及び、基板の研磨方法に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスクドライブは小型化・大容量化が進み、高記録密度化が求められている。高記録密度化のためには単位記録面積を縮小し、弱くなった磁気信号の検出感度を向上させる必要がある。そのため、磁気ヘッドの浮上高さをより低くするための技術開発が進められている。磁気ディスク基板には、磁気ヘッドの低浮上化と記録面積の確保に対応するため、平滑性及び平坦性の向上（表面粗さ、うねり、端面ダレの低減）や表面欠陥低減（残留砥粒、スクラッチ、突起、ピット等の低減）が厳しく要求されている。
【０００３】
このような要求に対して、より平滑で、傷が少ないといった表面品質向上と生産性の向上を両立させる観点から、磁気ディスク基板の製造方法においては、２段階以上の研磨工程を有する多段研磨方式が採用されることが多い。一般に、平滑性という要求を満たすために、コロイダルシリカ粒子を含む研磨剤が使用され、生産性向上の観点から、アルミナ粒子を砥粒として含む研磨液が使用される。しかしながら、アルミナ粒子を砥粒として使用した場合、アルミナ粒子の基板への突き刺さりによって、磁気ディスク基板に欠陥を引き起こすことがある。
【０００４】
そこで、例えば、特許文献１～４には、アルミナ粒子を含まず、シリカ粒子を砥粒として含有する研磨液組成物が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１７－２０４３１３号公報
特開２０１８－３２４５０号公報
特開２０１９－７９５８３号公報
特開２０２０－１１９６１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
磁気ディスクドライブの大容量化に伴い、基板の表面品質に対する要求特性は更に厳しくなっており、基板表面のスクラッチをいっそう低減できる研磨液の開発が求められている。
一般的に、研磨速度とスクラッチとはトレードオフの関係にあり、一方が改善すれば一方が悪化するという問題がある。
【０００７】
そこで、本開示は、研磨速度の向上と研磨後の基板表面のスクラッチ低減とを両立できる研磨液、並びにこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示は、一態様において、シリカ粒子（成分Ａ）と、ジアミン及びトリアミンから選ばれる少なくとも１種の化合物（成分Ｂ）と、カルボキシ基及びエチレン性不飽和基を有するモノマー由来の構成単位ｃ１、及び、Ｎ－アルキル(メタ)アクリルアミド構造を有するモノマー由来の構成単位ｃ２を含む水溶性高分子(成分Ｃ)と、水系媒体と、を含有する研磨液に関する。
【０００９】
本開示は、一態様において、本開示の研磨液を用いて被研磨基板を研磨する研磨工程を含む、磁気ディスク基板の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００１０】
本開示によれば、一態様において、研磨速度の向上と研磨後の基板表面のスクラッチ低減とを両立可能な研磨液を提供できる。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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