特許ウォッチ

公開番号2025103099
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-09
出願番号2023220201
出願日2023-12-27
発明の名称加工装置
出願人株式会社ディスコ
代理人インフォート弁理士法人
主分類H01L 21/677 20060101AFI20250702BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】洗浄後の被加工物が汚染されることを防止できる加工装置を提供する。
【解決手段】カセット(16)を設置するカセット設置部(21)と、保持テーブル(23)に保持された被加工物(11)を加工する加工領域(Sc)と、保持テーブルに被加工物を着脱する着脱領域(Sb)と、洗浄ユニット(30)で被加工物を洗浄する洗浄領域(Sd)と、少なくとも該着脱領域の上方又は側方に設置された仕切り部(46)と、を備え、被加工物を搬送する搬送ユニットは、仕切り部に対して着脱領域側に設置され、加工される前の被加工物をカセットから保持テーブルへ搬送し、且つ、加工された後の被加工物を保持テーブルから洗浄領域へ搬送する第一搬送アーム(73)と、仕切り部に対して着脱領域の反対側の搬送領域に設置され、洗浄された後の被加工物を洗浄領域から搬送領域を通ってカセットに搬送する第二搬送アーム(83)とを有する。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
被加工物を加工する加工装置であって、
該加工装置は、
被加工物を収容するカセットが設置されるカセット設置部と、
保持テーブルに保持された被加工物を加工ユニットで加工する加工領域と、
該加工領域と隣接し、該保持テーブルに対して被加工物を着脱する着脱領域と、
該着脱領域に対して該カセット設置部とは異なる方向に配置され、洗浄ユニットで被加工物を洗浄する洗浄領域と、
被加工物を搬送する搬送ユニットと、
少なくとも該着脱領域の上方又は側方に設置された仕切り部と、を備え、
該搬送ユニットは、
該仕切り部に対して該着脱領域側に設置され、該加工ユニットで加工される前の被加工物を該カセットから該保持テーブルへと、該加工ユニットで加工された後の被加工物を該保持テーブルから該洗浄領域へと、搬送する第一搬送アームと、
該仕切り部に対して該着脱領域の反対側の搬送領域に設置され、該洗浄ユニットで洗浄された後の被加工物を該洗浄領域から該搬送領域を通って該カセットに搬送する第二搬送アームと、
を有する加工装置。
続きを表示（約 460 文字）【請求項２】
該保持テーブルは、
該加工領域と該着脱領域と、の間を移動可能な移動機構に接続され、
該加工領域は、該保持テーブルが該加工領域と該着脱領域との間を移動可能な開口を有する加工室カバーによって覆われることを特徴とする請求項１に記載の加工装置。
【請求項３】
該仕切り部は、該着脱領域の上方に設置され、
該搬送領域は、該仕切り部の上方に位置し、
該カセット設置部は昇降機構に接続され、該昇降機構によって該第一搬送アームと、該第二搬送アームと、のそれぞれに対応する受け渡し高さに位置づけ可能であることを特徴とする請求項１に記載の加工装置。
【請求項４】
該着脱領域と、該洗浄領域と、を開閉可能に区画する第一シャッターをさらに備えることを特徴とする請求項１または２に記載の加工装置。
【請求項５】
該カセット設置部と、該着脱領域と、を開閉可能に区画する第二シャッターをさらに備えることを特徴とする請求項１または２に記載の加工装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、被加工物を加工する加工装置に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスなどの製造に用いられる加工装置では、カセットに収容した被加工物を保持テーブルに搬送して保持させ、保持テーブル上の被加工物に対して切削などの加工を行い、加工後の被加工物を洗浄ユニットで洗浄してからカセットに収容する。
【０００３】
保持テーブルは、被加工物の受け渡しを行う着脱領域と、被加工物の加工を行う加工領域とに移動を行う。被加工物に対して行う加工が切削である場合、切削工具が被加工物に切り込む加工点及びその周辺に切削水を供給して加工を行う。そして、加工を行うと、加工領域には切削屑や切削水の噴霧が飛散し、加工領域から切削屑や噴霧などが着脱領域に漏れる。
【０００４】
洗浄後の被加工物を洗浄ユニットからカセットへ搬送する経路が、保持テーブルの着脱領域の直上空間を通る場合、加工領域から着脱領域に漏れた切削屑や切削水の噴霧などの異物が、洗浄後の被加工物に付着して汚染させるおそれがあった。
【０００５】
このような問題は、被加工物に切削加工を行う切削装置に限られるものではなく、研削加工を行う研削装置や、研磨加工を行う研磨装置などでも生じる。従って、被加工物に所定の加工を行い、加工後に被加工物を洗浄してからカセットに収容する加工装置全般に共通する問題点である。
【０００６】
特許文献１に開示される加工装置では、着脱領域を覆うように閉じ、且つ、着脱領域を露出させるように開くシャッターを備え、洗浄ユニットで洗浄された被加工物が洗浄ユニットからカセットに向かう途中で着脱領域の上方を通過するときに、シャッターを閉じることによって、着脱領域をシャッターで覆うように制御している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開２０２１－１６７０３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１の加工装置は、洗浄ユニットで洗浄された被加工物を洗浄ユニットからカセットに搬送する際に、着脱領域をシャッターで覆った状態にすることで、被加工物への異物の付着を低減させる。しかし、シャッターで覆う前にシャッターの上方空間に異物が飛散して浮遊し、シャッターで覆った後の上方空間を被加工物が通過する際に異物が付着してしまう可能性がある。また、シャッターが開いている状態と閉じている状態のいずれでも同じ搬送ユニットで搬送を行うと、搬送中に搬送ユニットに異物が付着し、搬送ユニットを経由して被加工物に異物を付着させて汚してしまう可能性がある。このような可能性を考慮して、洗浄後の被加工物の汚染を、より確実に防ぐことが可能な加工装置が求められている。
【０００９】
従って、本発明の課題は、洗浄後の被加工物が汚染されることを防止できる加工装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様は、被加工物を加工する加工装置であって、該加工装置は、被加工物を収容するカセットが設置されるカセット設置部と、保持テーブルに保持された被加工物を加工ユニットで加工する加工領域と、該加工領域と隣接し、該保持テーブルに対して被加工物を着脱する着脱領域と、該着脱領域に対して該カセット設置部とは異なる方向に配置され、洗浄ユニットで被加工物を洗浄する洗浄領域と、被加工物を搬送する搬送ユニットと、少なくとも該着脱領域の上方又は側方に設置された仕切り部と、を備え、該搬送ユニットは、該仕切り部に対して該着脱領域側に設置され、該加工ユニットで加工される前の被加工物を該カセットから該保持テーブルへと、該加工ユニットで加工された後の被加工物を該保持テーブルから該洗浄領域へと、搬送する第一搬送アームと、該仕切り部に対して該着脱領域の反対側の搬送領域に設置され、該洗浄ユニットで洗浄された後の被加工物を該洗浄領域から該搬送領域を通って該カセットに搬送する第二搬送アームと、を有する。
（【００１１】以降は省略されています）

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