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公開番号2025133616
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-11
出願番号2024031674
出願日2024-03-01
発明の名称剥離剤組成物
出願人花王株式会社
代理人弁理士法人池内アンドパートナーズ
主分類G03F 7/42 20060101AFI20250904BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】一態様において、炭酸濃度を低減し、炭酸による劣化を抑制できる剥離剤組成物を提供する。
【解決手段】本開示は、一態様において、アルカリ成分、炭酸排除成分、及び水を含む剥離剤組成物であって、炭酸排除成分は、水酸化物イオンとの溶解度積が1.0×10-6以上、且つ、炭酸イオンとの溶解度積が1.0×10-8以下である金属イオン(成分A)を含み、剥離剤組成物中の成分Aの含有量が0.2質量%以上である、剥離剤組成物に関する。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
アルカリ成分、炭酸排除成分、及び水を含む剥離剤組成物であって、
炭酸排除成分は、水酸化物イオンとの溶解度積が1.0×10
-6
以上、且つ、炭酸イオンとの溶解度積が1.0×10
-8
以下である金属イオン(成分A)を含み、
剥離剤組成物中の成分Aの含有量が0.2質量%以上である、剥離剤組成物。
続きを表示(約 810 文字)【請求項2】
前記アルカリ成分は、第4級アンモニウム水酸化物(成分B)、有機アミン(成分C)及びアルカリ金属水酸化物(成分D)から選ばれる少なくとも1種である、請求項1に記載の剥離剤組成物。
【請求項3】
前記剥離剤組成物中の成分Bの含有量が、0.1質量%以上10質量%以下である、請求項2に記載の剥離剤組成物。
【請求項4】
前記剥離剤組成物中の水の含有量が、50質量%以上100質量%未満である、請求項1に記載の剥離剤組成物。
【請求項5】
前記剥離剤組成物中の成分Cの含有量が、0.1質量%以上20質量%以下である、請求項2に記載の剥離剤組成物。
【請求項6】
アルカリ水溶液中の炭酸濃度を低減する方法であって、
水酸化物イオンとの溶解度積が1.0×10
-6
以上、且つ、炭酸イオンとの溶解度積が1.0×10
-8
以下である金属イオン(成分A)とアルカリ水溶液とを混合する工程(混合工程)を含む、炭酸濃度の低減方法。
【請求項7】
前記混合工程の後に、前記混合により析出した炭酸と成分Aとの炭酸塩を分離する工程を更に含む、請求項6に記載の炭酸濃度の低減方法。
【請求項8】
前記混合工程は、アルカリ水溶液中の成分Aの含有量が0.2質量%以上になるように、成分Aとアルカリ水溶液とを混合する工程である、請求項6に記載の炭酸濃度の低減方法。
【請求項9】
前記アルカリ水溶液が剥離剤組成物である、請求項6に記載の炭酸濃度の低減方法。
【請求項10】
請求項6から9のいずれかに記載の炭酸濃度の低減方法を用いて、電子部品の製造に使用するアルカリ水溶液中の炭酸濃度を低減する工程を含む、電子部品の製造方法。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本開示は、剥離剤組成物、アルカリ水溶液中の炭酸濃度低減方法、及び電子部品の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)【背景技術】
【0002】
近年、パーソナルコンピュータや各種電子デバイスにおいては、低消費電力化、処理速度の高速化、小型化が進み、これらに搭載されるパッケージ基板などの配線は年々微細化が進んでいる。このような微細配線並びにピラーやバンプといった接続端子形成にはこれまでメタルマスク法が主に用いられてきたが、汎用性が低いことや配線等の微細化への対応が困難になってきたことから、他の新たな方法へと変わりつつある。
【0003】
新たな方法の一つとして、ドライフィルムレジストをメタルマスクに代えて厚膜樹脂マスクとして使用する方法が知られている。この樹脂マスクは最終的に剥離・除去されるが、その際にアルカリ性の剥離剤組成物(剥離用洗浄剤)が使用される。
【0004】
例えば、特許文献1には、低誘電率膜(Low-k膜)と10原子%以上のタングステンを含む材料とを有する半導体素子の表面上のフォトレジストを除去する洗浄液であって、アルカリ土類金属化合物0.001~5質量%、無機アルカリ及び/又は有機アルカリ0.1~30質量%、並びに水を含む洗浄液が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
国際公開第2016/076031号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
アルカリ性の剥離剤組成物は、レジストの溶解や、空気中の炭酸ガスとの反応等によって劣化が進行し、剥離性能(樹脂マスク除去性)が低下することが報告されている。
例えば、剥離剤組成物を循環使用する場合、剥離剤組成物中のアルカリ成分の濃度や剥離剤組成物に存在する炭酸(炭酸イオン)濃度が変化して、剥離剤組成物が劣化するため、剥離剤組成物を補充したり交換したりする必要がある。
【0007】
そこで、本開示は、炭酸濃度を低減し、炭酸による劣化を抑制できる剥離剤組成物、アルカリ水溶液中の炭酸濃度の低減方法、及び電子部品の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本開示は、一態様において、アルカリ成分、炭酸排除成分、及び水を含む剥離剤組成物であって、炭酸排除成分は、水酸化物イオンとの溶解度積が1.0×10
-6
以上、且つ、炭酸イオンとの溶解度積が1.0×10
-8
以下である金属イオン(成分A)を含み、剥離剤組成物中の成分Aの含有量が0.2質量%以上である、剥離剤組成物に関する。
【0009】
本開示は、一態様において、アルカリ水溶液中の炭酸濃度を低減する方法であって、水酸化物イオンとの溶解度積が1.0×10
-6
以上、且つ、炭酸イオンとの溶解度積が1.0×10
-8
以下である金属イオン(成分A)とアルカリ水溶液とを混合する工程(混合工程)を含む、炭酸濃度の低減方法に関する。
【0010】
本開示は、一態様において、本開示の炭酸濃度の低減方法を用いて、電子部品の製造に使用するアルカリ水溶液中の炭酸濃度を低減する工程を含む、電子部品の製造方法に関する。
(【0011】以降は省略されています)

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