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公開番号2025111814
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-30
出願番号2025078228,2021009861
出願日2025-05-08,2021-01-25
発明の名称基板の搬送を行う装置、基板を処理するシステム及び基板を処理する方法
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人弁理士法人弥生特許事務所
主分類H01L 21/677 20060101AFI20250723BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】基板搬送室内にて、磁気浮上を利用した基板搬送モジュールにより基板を搬送する装置を提供する。
【解決手段】載置モジュール400は、ウエハWを上下2段に載置する2つの載置台401、402を備え、下段側の載置台401は、台部411を備え、台部の上方にウエハの下面中央を保持する保持部403が設けられ、上段側の載置台402は、下段側の載置台を囲む円筒部412を備え、円筒部の上方にウエハの下面中央を保持する保持部404が設けられる。下段側の載置台にウエハを受け渡すための窓部405が、円筒部の側面の互いに対向する位置に2か所形成されている。各保持部が、夫々第1の搬送モジュールのウエハ保持部との間でウエハの受け渡しを行う。台部及び円筒部の下端には、夫々モジュール側コイル35が設けられ、真空搬送室の床面部に設けられた床面側コイルとの反発力を利用して、各々の載置台を鉛直軸周りに独立して回転させる。
【選択図】図18
特許請求の範囲【請求項１】
基板の処理が行われる基板処理室に対する基板の搬送を行う装置であって、
第１の磁石が設けられた床面部と、前記基板処理室が接続され、当該基板処理室との間で基板の搬入出が行われる開口部が形成された側壁部とを有する基板搬送室と、
前記基板を保持する基板保持部と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石と、を備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、を備え、
前記基板搬送モジュールは、前記開口部を介して前記基板搬送室内に直接進入して基板の搬入出を行うように構成され、あるいは、前記基板搬送室内に、前記開口部を介して前記基板処理室との間で基板の搬入出を行うための基板搬送機構が固定して設けられている場合に、当該基板搬送機構との間で基板を受け渡すように構成され
、
前記基板受け渡し部は、基板が載置される載置部と、前記第１の磁石との間に反発力が働く基板受け渡し部側の磁石と、を備え、前記基板搬送モジュールに保持される場合と、前記基板搬送機構に保持される場合とで、前記基板の向きを変更するため、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で鉛直軸周りに回転自在に構成された、
装置。
続きを表示（約 3,400 文字）【請求項２】
基板の処理が行われる基板処理室に対する基板の搬送を行う装置であって、
第１の磁石が設けられた床面部と、前記基板処理室が接続され、当該基板処理室との間で基板の搬入出が行われる開口部が形成された側壁部とを有する基板搬送室と、
前記基板を保持する基板保持部と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石と、を備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、を備え、
前記基板搬送モジュールは、前記開口部を介して前記基板搬送室内に直接進入して基板の搬入出を行うように構成され
、
前記基板搬送室は、第３の磁石が設けられた天面部を備え、
前記第３の磁石との間に引力が働く第４の磁石が設けられ、前記基板搬送室の内部または基板の処理を行う処理モジュールを備え、
前記処理モジュールは、前記引力を用いた磁気吸引により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された、
装置。
【請求項３】
前記処理モジュールは、前記基板搬送室内の基板に向けて清浄ガスの下降流を形成するため、処理モジュールの下面に設けられたガス供給孔を介して前記基板搬送室内にガスを吐出するガス吐出モジュールである、請求項
２
に記載の装置。
【請求項４】
基板の処理が行われる基板処理室に対する基板の搬送を行う装置であって、
第１の磁石が設けられた床面部と、前記基板処理室が接続され、当該基板処理室との間で基板の搬入出が行われる開口部が形成された側壁部とを有する基板搬送室と、
前記基板を保持する基板保持部と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石と、を備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、を備え、
前記基板搬送モジュールは、前記開口部を介して前記基板搬送室内に直接進入して基板の搬入出を行うように構成され
、
前記基板搬送モジュールは、他の基板搬送モジュールと連結する連結機構を備えた、
装置。
【請求項５】
基板の処理が行われる基板処理室に対する基板の搬送を行う装置であって、
第１の磁石が設けられた床面部と、前記基板処理室が接続され、当該基板処理室との間で基板の搬入出が行われる開口部が形成された側壁部とを有する基板搬送室と、
前記基板を保持する基板保持部と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石と、を備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、を備え、
前記基板搬送モジュールは、前記開口部を介して前記基板搬送室内に直接進入して基板の搬入出を行うように構成され
、
前記基板搬送モジュールは、内部に前記第２の磁石が設けられた円板状に構成され、当該円板の上面が前記基板保持部となっている、
装置。
【請求項６】
基板の処理が行われる基板処理室に対する基板の搬送を行う装置であって、
第１の磁石が設けられた床面部と、前記基板処理室が接続され、当該基板処理室との間で基板の搬入出が行われる開口部が形成された側壁部とを有する基板搬送室と、
前記基板を保持する基板保持部と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石と、を備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、を備え、
前記基板搬送モジュールは、前記開口部を介して前記基板搬送室内に直接進入して基板の搬入出を行うように構成され
、
前記基板搬送モジュールは、内部に前記第２の磁石が設けられた本体部と、当該本体部から側方へ向けて延在し、その先端部に前記基板保持部を成すフォークが設けられたアーム部とを備え、
前記基板搬送モジュールは、前記本体部を前記基板搬送室内に位置させたまま、前記開口部を介して前記アーム部を前記基板処理室に挿入することにより、前記基板の搬入出を行い、
前記基板搬送室は、平面視したとき細長い矩形状であって、前記矩形の短辺方向の長さが、前記基板を保持した状態の前記基板搬送モジュールの全長よりも短く構成されると共に、基板搬送室には、前記開口部を介して前記アーム部を基板処理室に挿入、退出させる際に、切り返し動作を行いながら前記基板搬送モジュールの方向を転換するためのスペースが設けられた、
装置。
【請求項７】
基板の処理が行われる基板処理室に対する基板の搬送を行う装置であって、
第１の磁石が設けられた床面部と、前記基板処理室が接続され、当該基板処理室との間で基板の搬入出が行われる開口部が形成された側壁部とを有する基板搬送室と、
前記基板を保持する基板保持部と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石と、を備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、を備え、
前記基板搬送モジュールは、前記開口部を介して前記基板搬送室内に直接進入して基板の搬入出を行うように構成され
、
前記基板搬送モジュールは、内部に前記第２の磁石が設けられた本体部と、当該本体部の上面から上方へ向けて突出するように延在し、その上面に前記基板保持部を成す基板保持面が形成された支柱部とを備える、
装置。
【請求項８】
前記支柱部は、前記基板よりも小径に構成され、
床面部に前記第１の磁石が設けられていることにより、前記基板搬送モジュールが移動することが可能な領域には、前記支柱部により支持された基板について、前記支柱部よりも外方に位置する前記基板の周縁部を光学的に検出するセンサ部が設けられ、
前記基板搬送モジュールは、前記センサ部により前記基板保持面に保持された基板の周縁部を検出可能な位置に移動し、前記基板の中心を通る中心軸回りに前記本体部を回転させることにより、前記基板のアライメントを行うように構成された、請求項
７
に記載の装置。
【請求項９】
前記基板搬送室は、真空雰囲気下で基板の搬送が行われるように構成され、
前記基板搬送室の側壁部の前記基板処理室を接続するための開口部が形成されている位置とは異なる位置には、内部の圧力を常圧と真空とで切り替え自在に構成され、前記基板搬送室との間で搬入出される基板が一時的に配置されるロードロック室が接続され、
前記ロードロック室は、床面部に前記第１の磁石が設けられていることにより、前記基板搬送モジュールが移動可能な領域と、当該領域に配置された前記センサ部及びアライメント用の前記基板搬送モジュールとを備え、
前記ロードロック室内の圧力を常圧と真空とで切り替える期間中に、当該ロードロック室内に搬入されている基板に対し前記アライメントを行う、請求項
８
に記載の装置。
【請求項１０】
基板の処理が行われる基板処理室に対する基板の搬送を行う装置であって、
第１の磁石が設けられた床面部と、前記基板処理室が接続され、当該基板処理室との間で基板の搬入出が行われる開口部が形成された側壁部とを有する基板搬送室と、
前記基板を保持する基板保持部と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石と、を備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、を備え、
前記基板搬送モジュールは、前記開口部を介して前記基板搬送室内に直接進入して基板の搬入出を行うように構成され
、
前記第１の磁石が設けられている移動領域を撮像するカメラを備えた撮像モジュールであって、前記第１の磁石との間に反発力が働く撮像モジュール用の磁石を備え、前記反発力を用いた磁気浮上により移動可能に構成された撮像モジュールを備えた、
装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、基板の搬送を行う装置、基板を処理するシステム及び基板を処理する方法に関する。
続きを表示（約 2,600 文字）【背景技術】
【０００２】
例えば、基板である半導体ウエハ（以下、「ウエハ」ともいう）に対する処理を実施する装置においては、ウエハを収容したキャリアと、処理が実行されるウエハ処理室との間でウエハの搬送が行われる。ウエハの搬送にあたっては、種々の構成のウエハ搬送機構が利用される。
【０００３】
例えば特許文献１には、磁気浮上を利用してプレートから浮いた状態にて処理チャンバ間で半導体基板を移送する基板キャリアが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特表２０１８－５０４７８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本開示は、基板搬送室内にて、磁気浮上を利用した基板搬送モジュールにより基板を搬送する技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示に係る基板の搬送を行う装置は、基板の処理が行われる基板処理室に対する基板の搬送を行う装置であって、
第１の磁石が設けられた床面部と、前記基板処理室が接続され、当該基板処理室との間で基板の搬入出が行われる開口部が形成された側壁部とを有する基板搬送室と、
前記基板を保持する基板保持部と、前記第１の磁石との間に反発力が働く第２の磁石と、を備え、前記反発力を用いた磁気浮上により、前記基板搬送室内で移動可能に構成された基板搬送モジュールと、を備え、
前記基板搬送モジュールは、前記基板搬送室内に、前記開口部を介して前記基板処理室との間で基板の搬入出を行うための基板搬送機構が固定して設けられている場合に、当該基板搬送機構との間で基板を受け渡すように構成され、
前記基板搬送室内に設けられ、前記基板搬送モジュールと、前記基板搬送機構との間で受け渡される基板が一時的に載置される基板受け渡し部を備え、
前記基板搬送機構は、伸縮自在、及び鉛直軸回りに回転自在に構成された基板搬送アームであり、
前記基板搬送アームを挟んで設けられている前記基板搬送室の２つの側壁部には、各々、当該基板搬送アームを挟んで互いに対向するように前記開口部が設けられ、これら開口部と基板搬送アームとの並びに沿って、複数の前記基板受け渡し部が配置されている。
【発明の効果】
【０００７】
本開示によれば、基板搬送室内にて、磁気浮上を利用した基板搬送モジュールにより基板を搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本開示に係るウエハ処理システムの平面図である。
前記ウエハ処理システムが備える真空搬送室内の一部の縦断側面図である。
第１の搬送モジュールの平面図である。
真空搬送室の床面部、及び第１の搬送モジュールの模式図である。
第２の搬送モジュールの縦断側面図である。
第２の搬送モジュールの平面図である。
前記搬送モジュールの動作の一例に係る第１の作用図である。
前記搬送モジュールの動作の一例に係る第２の作用図である。
前記搬送モジュールの動作の一例に係る第３の作用図である。
前記搬送モジュールの動作の一例に係る第４の作用図である。
前記搬送モジュールの動作の他の例に係る第１の作用図である。
前記搬送モジュールの動作の他の例に係る第２の作用図である。
前記搬送モジュールの動作の他の例に係る第３の作用図である。
前記搬送モジュールによるノッチ合わせに係る第１の作用図である。
前記搬送モジュールによるノッチ合わせに係る第２の作用図である。
前記搬送モジュールによるノッチ合わせに係る第３の作用図である。
載置部に設置される載置モジュールを示す斜視図である。
載置部に設置される載置モジュールを示す縦断側面図である。
アライメントを説明する説明図である。
天面部を移動するガス供給モジュールを示す縦断側面図である。
前記ガス供給モジュールの作用を示す模式図である。
連結機構を備えた第１の搬送モジュールを示す斜視図である。
故障した第１の搬送モジュールの搬送を示す模式図である。
回収用のロードロック室を備えたウエハ処理システムを示す平面図である。
第１の搬送モジュールによる装置に設置する部品の搬送を示す模式図である。
複数の真空搬送室を連結したウエハ処理システムの平面図である。
ウエハ処理システムの他の例を示す平面図である。
前記ウエハ処理システムにおける搬送モジュールの動作に係る第１の作用図である。
前記ウエハ処理システムにおける搬送モジュールの動作に係る第２の作用図である。
前記ウエハ処理システムにおける搬送モジュールの動作に係る第３の作用図である。
前記ウエハ処理システムにおける搬送モジュールの動作に係る第４の作用図である。
前記ウエハ処理システムにおける搬送モジュールの動作に係る第５作用図である。
前記ウエハ処理システムにおける搬送モジュールの動作に係る第６の作用図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本開示の実施の形態に係る基板を処理する装置である、ウエハ処理システム１００の全体構成について、図１を参照しながら説明する。
図１には、ウエハＷを処理する基板処理室である複数のウエハ処理室１１０を備えたマルチチャンバタイプのウエハ処理システム１００を示してある。図１に示すように、ウエハ処理システム１００は、ロードポート１４１と、大気搬送室１４０と、ロードロック室１３０と、真空搬送室１２０と、複数のウエハ処理室１１０とを備えている。以下の説明では、ロードポート１４１が設けられている側を手前側とする。
【００１０】
ウエハ処理システム１００において、ロードポート１４１、大気搬送室１４０、ロードロック室１３０、真空搬送室１２０は、手前側から水平方向にこの順に配置されている。また複数のウエハ処理室１１０は、手前側から見て、真空搬送室１２０の左右に並べて設けられている。
（【００１１】以降は省略されています）

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