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公開番号2025115167
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-06
出願番号2024009545
出願日2024-01-25
発明の名称基板処理装置および基板処理方法
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人弁理士法人あい特許事務所,個人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250730BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】新たな処理液の使用量を低減する。
【解決手段】基板処理装置(100)は、デバイスが設けられた表面(Wa)と表面(Wa)の反対側に位置する裏面(Wb)とを有する基板(W)を収容するチャンバー(11)と、チャンバー(11)内において基板(W)を保持する基板保持部(20)と、基板保持部(20)に保持された基板(W)の表面(Wa)に薬液を供給する薬液供給部(30)と、基板保持部(20)に保持された基板(W)の表面(Wa)にリンス液を供給するリンス液供給部(40)と、液体を回収した回収液を貯留する回収液貯留槽(210)と、回収液貯留槽(210)に貯留された回収液を基板(W)の裏面(Wb)に供給する裏面処理液供給部(50)とを備える。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
デバイスが設けられた表面と前記表面の反対側に位置する裏面とを有する基板を収容するチャンバーと、
前記チャンバー内において前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された前記基板の前記表面に薬液を供給する薬液供給部と、
前記基板保持部に保持された前記基板の前記表面にリンス液を供給するリンス液供給部と、
液体を回収した回収液を貯留する回収液貯留槽と、
前記回収液貯留槽に貯留された前記回収液を前記基板の前記裏面に供給する裏面処理液供給部と
を備える、基板処理装置。
続きを表示（約 1,300 文字）【請求項２】
前記回収液貯留槽に前記液体を回収するか否かを判定する制御部をさらに備える、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
液体を貯留する貯留槽と、
前記貯留槽から流れる前記液体を加熱するヒータと、
前記ヒータによって加熱された前記液体の温度を測定する温度測定部と
をさらに備え、
前記制御部は、前記温度測定部において測定された温度に基づいて、前記ヒータによって加熱された液体を前記回収液貯留槽に回収するか否かを判定する、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
オゾンガスを発生するオゾンガス発生器と、
前記オゾンガス発生器において発生した前記オゾンガスを液体に溶解させてオゾン液を生成するオゾンガス溶解槽と、
前記オゾンガス溶解槽において生成した前記オゾン液のオゾン濃度を測定する濃度測定部と
をさらに備え、
前記制御部は、前記濃度測定部において測定されたオゾン濃度に基づいて、前記オゾンガス溶解槽において生成された前記オゾン液を前記回収液貯留槽に回収するか否かを判定する、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記薬液供給部は、前記薬液を貯留する薬液貯留槽を含み、
前記回収液貯留槽は、前記薬液貯留槽を洗浄した洗浄液の少なくとも一部を前記回収液として貯留する、請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記基板保持部に保持された基板から飛散する処理液を捕集するカップと、
前記カップと前記回収液貯留槽とを接続する排液配管と、
前記チャンバー内に配置され、前記チャンバー内を洗浄する洗浄液を吐出するチャンバー洗浄配管と
をさらに備え、
前記回収液貯留槽は、前記チャンバー洗浄配管から吐出された洗浄液の少なくとも一部を前記回収液として貯留する、請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記リンス液供給部は、
前記リンス液が流れるリンス液配管と、
前記リンス液配管に設けられ、前記リンス液配管を流れる前記リンス液の流量を調整するバルブと
を有し、
前記基板処理装置は、
前記リンス液配管のうち前記バルブよりも下流において前記リンス液配管に接続され、前記バルブが閉じた場合でも前記リンス液が流れる分岐配管をさらに備え、
前記回収液貯留槽は、前記分岐配管を流れた前記リンス液を前記回収液として貯留する、請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項８】
デバイスが設けられた表面と前記表面の反対側に位置する裏面とを有する基板の前記表面に薬液を供給する工程と、
前記基板の前記表面に前記薬液を供給した後に、前記基板の前記表面にリンス液を供給する工程と、
液体を回収した回収液を貯留する回収液貯留槽から前記回収液を前記基板の前記裏面に供給する工程と
を包含する、基板処理方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置および基板処理方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
基板を処理する基板処理装置が知られている。基板処理装置は、半導体基板の処理に好適に用いられる。基板処理装置は、処理液を用いて基板を処理する。
【０００３】
典型的には、基板処理装置は、基板を薬液で処理した後、基板にリンス液を供給して薬液で処理した基板を洗浄する。基板処理装置において、基板の表面だけでなく基板の裏面に薬液およびリンス液を供給することがある（特許文献１参照）。特許文献１の基板処理装置では、基板の表面および裏面に薬液およびリンス液を供給した後に基板を乾燥させ、その後、基板の裏面に付着した処理液から放射される赤外線が基板を透過して検知部の受光部によって受光することにより、基板の裏面の液残りを検出する。このとき、基板から飛散した処理液は回収カップに捕集され、回収カップに捕集された処理液は、回収カップの底部の排液口から処理ユニットの外部へ排出される。特許文献１の基板処理装置では、基板の裏面に液残りしていた場合、復旧用リンス処理を行うことによって、基板の裏面の液残りを解消する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１９－１２５６３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、環境負荷低減の目的から、基板処理に必要となるリソースを低減することが検討されている。しかしながら、特許文献１の基板処理装置では、基板を処理する場合、新たな処理液の使用量が増大するおそれがある。
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、新たな処理液の使用量を低減可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のある局面によれば、基板処理装置は、デバイスが設けられた表面と前記表面の反対側に位置する裏面とを有する基板を収容するチャンバーと、前記チャンバー内において前記基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された前記基板の前記表面に薬液を供給する薬液供給部と、前記基板保持部に保持された前記基板の前記表面にリンス液を供給するリンス液供給部と、液体を回収した回収液を貯留する回収液貯留槽と、前記回収液貯留槽に貯留された前記回収液を前記基板の前記裏面に供給する裏面処理液供給部とを備える。
【０００８】
ある実施形態において、前記基板処理装置は、前記回収液貯留槽に前記液体を回収するか否かを判定する制御部をさらに備える。
【０００９】
ある実施形態において、前記基板処理装置は、液体を貯留する貯留槽と、前記貯留槽から流れる前記液体を加熱するヒータと、前記ヒータによって加熱された前記液体の温度を測定する温度測定部とをさらに備え、前記制御部は、前記温度測定部において測定された温度に基づいて、前記ヒータによって加熱された液体を前記回収液貯留槽に回収するか否かを判定する。
【００１０】
ある実施形態において、前記基板処理装置は、オゾンガスを発生するオゾンガス発生器と、前記オゾンガス発生器において発生した前記オゾンガスを液体に溶解させてオゾン液を生成するオゾンガス溶解槽と、前記オゾンガス溶解槽において生成した前記オゾン液のオゾン濃度を測定する濃度測定部とをさらに備え、前記制御部は、前記濃度測定部において測定されたオゾン濃度に基づいて、前記オゾンガス溶解槽において生成された前記オゾン液を前記回収液貯留槽に回収するか否かを判定する。
（【００１１】以降は省略されています）

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